咨询与建议
  • 全部检索
  • 电子图书
  • 电子期刊
  • 纸本馆藏
  • 南通市公共图书馆
高级检索

限定检索结果

文献类型

  • 1 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 1 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 1 篇 理学
    • 1 篇 物理学
    • 1 篇 化学
  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电气工程
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 脉冲激光沉积
  • 1 篇 结晶取向
  • 1 篇 气氛氧压
  • 1 篇 ceo2薄膜

机构

  • 1 篇 北京大学
  • 1 篇 微电子研究所
  • 1 篇 清华大学
  • 1 篇 汕头大学

作者

  • 1 篇 赵清太
  • 1 篇 范守善
  • 1 篇 王忠烈
  • 1 篇 熊光成
  • 1 篇 林揆训
  • 1 篇 李美亚

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=气氛氧压"
共 1 条 记 录，以下是1-10 订阅
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到"检索档案"
详细 简洁
排序：
气氛氧压对脉冲激光法制备的CeO_2/Si薄膜的结晶取向的影响
收藏
分享
引用
功能材料 2000年 第2期31卷 159-161页
作者： 李美亚 王忠烈 范守善 赵清太 熊光成 林揆训 汕头大学科学院材料所 微电子研究所 北京100871 清华大学物理系 北京100084 北京大学物理系
用脉冲激光镀膜法 ,在不同的温度和氧压条件下 ,在Si(10 0 )片上制备了一系列的CeO2 膜。X射线衍射分析表明 ,在较低的氧压下生长的CeO2 膜为 (111)取向 ,在较高的氧压下生长的膜则为 (10 0 )取向。研究表明 ,CeO2 膜的取向对氧压显示... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
全选 清除本页 清除全部 题录导出 标记到“检索档案”
共1页 <<  < 1 >  >>
回到顶部
执行限定条件