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科学通报 1992年第9期37卷 800-803页

作者：黄宗卿谢上芬张胜涛重庆大学应用化学系重庆630044

椭圆法利用椭圆偏振光在固体表面薄膜上反射后偏振状态的改变以测定膜厚和光学常数,早已用于半导体物理、腐蚀与表面学科以及电化学等领域。应用这一技术的困难是需要提出代表真实体系的模型。作者等针对这一困难。

关键词：椭圆偏振技术氧化还原反应

掠射式椭圆偏振技术对电化学反应的研究(英文)

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重庆大学学报（自然科学版） 1998年第2期21卷 40-45页

作者：陶长元张胜涛黄宗卿徐楚韶重庆大学应用化学系

提出了称之为掠射式椭圆偏振技术的新型测量方法；应用该方法并结合循环伏安技术，对在沉积有氧化铟的玻璃电极上Ｋ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］与Ｋ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］之间的电化学反应、铜的硼酸缓冲溶液中的腐蚀进行了研究。结果表明：在... 详细信息

提出了称之为掠射式椭圆偏振技术的新型测量方法；应用该方法并结合循环伏安技术，对在沉积有氧化铟的玻璃电极上Ｋ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］与Ｋ３［Ｆｅ（ＣＮ）６］之间的电化学反应、铜的硼酸缓冲溶液中的腐蚀进行了研究。结果表明：在上述电化学反应过程中，掠射椭圆偏振参数△和它的变化规律与电化学反应和电极附近扩散层性质相对应；应用掠射式椭圆偏振技术对电极体系进行研究，可弥补其它实验技术的一些缺点。

关键词：电化学反应扩散层掠射式椭圆偏振技术

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椭圆偏振技术的发展与在化学研究中的应用

表面技术 2006年第1期35卷 70-73页

作者：张胜涛薛茗月重庆大学化学化工学院重庆400044

根据最近文献,对椭圆偏振技术应用于研究电化学体系和生物化学现象的现状进行了综述,包括基础理论发展和各种试验应用,进一步评述了掠射式椭圆偏振技术的应用进展,显示出椭圆偏振技术是一种高效、简便的现场检测手段,具有广阔的发展前... 详细信息

根据最近文献,对椭圆偏振技术应用于研究电化学体系和生物化学现象的现状进行了综述,包括基础理论发展和各种试验应用,进一步评述了掠射式椭圆偏振技术的应用进展,显示出椭圆偏振技术是一种高效、简便的现场检测手段,具有广阔的发展前景。引用文献39篇。

关键词：椭圆偏振技术掠射式椭圆偏振技术应用电极表面电化学

椭圆偏振光谱技术及其对功能薄膜材料的性能表征

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椭圆偏振光谱技术及其对功能薄膜材料的性能表征

作者：曹春斌安徽大学

学位级别：硕士

近几十年来，随着自动椭偏仪的发展和完善，椭偏光谱技术作为表征光学性质和块材以及薄膜分层结构的一种非破坏性工具已经逐渐地普及。与传统的测试手段相比，它具有非破坏性、非苛刻性、高精度和高灵敏度等优点。通过椭偏测量，可以在... 详细信息

近几十年来，随着自动椭偏仪的发展和完善，椭偏光谱技术作为表征光学性质和块材以及薄膜分层结构的一种非破坏性工具已经逐渐地普及。与传统的测试手段相比，它具有非破坏性、非苛刻性、高精度和高灵敏度等优点。通过椭偏测量，可以在很短的时间内得到从近紫外到近红外范围内的椭偏参数ψ和Δ随波长变化的全谱。然后对ψ和Δ进行解谱，可以得到诸如介电常数、光学常数、膜层厚度和复合膜中各个成分的组分等参数。逐渐成为测量超薄膜、超晶格、多层膜等各种薄膜材料的厚度和光学常数的一种重要的技术手段。为了对椭偏光谱技术有一个全面的了解和研究，本论文主要从以下几个方面展开工作：首先，详细阐述了国内外椭偏仪以及椭偏技术的发展历史、现状和特点，并且介绍了它在各个领域中的应用。然后，从理论上研究了椭圆偏振光谱技术原理，详细推导出环境媒质-薄膜-基片系统所遵循的椭偏方程，然后研究了光度式椭偏仪的测量原理，进而给出椭偏参数与光学常数之间的关系。在第三章介绍了两种常用的椭圆偏振测量仪的硬件组成和测量的自动化改进，同时给出RAP-Ⅰ型椭偏光谱仪的工作原理。第四章介绍了椭偏数据解谱软件的各个主要窗口及其功能，并对解谱时常用的算法和拟合模型进行了较为详细的描述，同时介绍了判别解谱结果精确度的重要指标均方根误差(RSME)。最后在第五章中，分四个部分介绍了椭偏测量术的应用。第一，椭偏测量术在超薄金属薄膜中的应用。用直流溅射法制备了五个厚度的超薄Ag膜，透射电镜(TEM)图像表明厚度低于30nm的薄膜样品均为非连续的。通过对椭圆偏振光谱仪测量数据进行解谱得到五个样品的厚度分别为4.0、6.2、12.5、26.2和30.0nm。从拟合结果中的消光系数k图谱中发现，在Ag1到Ag4样品中分别于477、539、590和689nm处出现了表面等离子体共振峰，而Ag5样品没有出现。分析认为表面等离子体共振峰是由于入射的P偏振光与Ag纳米粒子侧面位置的电子等离子体激元偶合而产生的。同时在Ag1和Ag2样品消光系数k图谱的高能端288nm处出现了另一吸收峰，并对此进行了分析。第二，椭偏测量术在透明导电ITO薄膜中的应用。用溅射法在Si片上制备了厚度为140.5nm的ITO薄膜，用椭偏仪对所制备的薄膜进行了测量。分别用Drude+Lorentz Oscillator模型、有效介质近似(EMA)和Graded(层进)模型对测量所得的椭偏参数ψ、Δ进行了拟合，得到

关键词：椭圆偏振技术椭偏数据解谱模型拟合超薄Ag膜透明导电ITO薄膜

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硼掺杂微晶硅薄膜的椭圆偏振光谱分析

硅酸盐学报 2010年第10期38卷 1905-1911页

作者：李新利卢景霄王志永谷锦华李瑞杨仕娥郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室郑州450052 河南工业大学郑州450051

采用射频等离子体增强化学气相沉积(radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition,RF-PECVD)技术在玻璃衬底上沉积了硼掺杂微晶硅薄膜。采用椭圆偏振光谱和Raman光谱分析了辉光功率和硼掺杂量对薄膜的晶化率、表面粗糙... 详细信息

采用射频等离子体增强化学气相沉积(radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition,RF-PECVD)技术在玻璃衬底上沉积了硼掺杂微晶硅薄膜。采用椭圆偏振光谱和Raman光谱分析了辉光功率和硼掺杂量对薄膜的晶化率、表面粗糙度、空隙率和非晶孵化层厚度的影响。结果表明:随着输入功率的增加,薄膜表面粗糙度的变化趋势为先缓慢减小、再快速增加、然后再次减小;沉积薄膜中的体层晶化率和空隙率的变化趋势相同,而空隙率与非晶孵化层厚度的变化趋势相反。随着初始硼掺量的增加,薄膜表面粗糙度的变化趋势为先缓慢增加、再减小、然后再增加;沉积薄膜的体层晶化率和空隙率并没有类似的对应关系。此外,对RF-PECVD沉积硼掺杂微晶硅的生长机理进行了分析。

关键词：硼掺杂微晶硅薄膜椭圆偏振技术表面粗糙度

不同衬底上溅射TiO_2薄膜的光学性能研究

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功能材料 2012年第11期43卷 1443-1445,1449页

作者：叶剑曹春斌安徽农业大学理学院安徽合肥230036 安徽大学光电信息获取与控制教育部重点实验室安徽合肥230039

在硅片和石英上利用射频溅射法沉积了TiO2薄膜,并分别在空气中进行了退火处理。利用椭偏光谱仪对硅片上薄膜进行了椭偏测试,利用紫外-可见分光光度计对石英上薄膜进行了透射光谱测试。利用解谱软件对椭偏谱和透射谱进行了建模解谱,获得... 详细信息

在硅片和石英上利用射频溅射法沉积了TiO2薄膜,并分别在空气中进行了退火处理。利用椭偏光谱仪对硅片上薄膜进行了椭偏测试,利用紫外-可见分光光度计对石英上薄膜进行了透射光谱测试。利用解谱软件对椭偏谱和透射谱进行了建模解谱,获得了不同基片上薄膜在不同退火温度下的折射指数和消光系数,发现和TiO2块材的光学常数也有明显的区别。通过计算得到了系列薄膜的光学带隙,带隙值范围从3.35～3.88eV,可以为薄膜态TiO2体系的光学应用、设计和相关理论研究提供一定的依据。

关键词：射频磁控溅射 TiO2薄膜椭圆偏振技术光学性能

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苯并三氮唑缓蚀铜合金的原位椭圆偏振研究

中国腐蚀与防护学报 2006年第6期26卷 342-345页

作者：张胜涛薛茗月王艳波侯保荣重庆大学化学化工学院重庆400044 中国科学院青岛海洋研究所青岛266071

应用原位椭圆偏振光技术考察了苯并三氮唑(BTA)覆盖层对铜合金的缓蚀作用.对高浓度Cl-条件下的铜合金线性电位扫描的原位掠射椭圆偏振实验表明,椭圆偏振参量Δ的变化滞后于电流变化,说明BTA覆盖层阻碍了腐蚀产物向溶液中的转移.随着腐... 详细信息

应用原位椭圆偏振光技术考察了苯并三氮唑(BTA)覆盖层对铜合金的缓蚀作用.对高浓度Cl-条件下的铜合金线性电位扫描的原位掠射椭圆偏振实验表明,椭圆偏振参量Δ的变化滞后于电流变化,说明BTA覆盖层阻碍了腐蚀产物向溶液中的转移.随着腐蚀产物的不断聚积,阳极过电位增加,减小了腐蚀反应的电位差,从而减缓了腐蚀反应的速度,增强了铜合金的耐腐蚀能力.

关键词：铜合金苯并三氮唑椭圆偏振技术 CaCl2

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稀土铈在铝合金氧化膜中沉积机制的研究

材料工程 2001年第3期29卷 23-24,27页

作者：李凌杰李荻张胜涛北京航空航天大学北京100083 重庆大学重庆400044

铝合金在硫酸溶液中进行阳极氧化 ,然后再在含铈盐的溶液中进行恒电流阴极极化 ,应用椭圆偏振技术对上述两过程进行现场追踪的结果表明 :通过阴极极化步骤 ,可使氧化膜的组成发生改变 ,使铈沉积在氧化膜的表面 ;改变阴极极化液的酸度 ,... 详细信息

铝合金在硫酸溶液中进行阳极氧化 ,然后再在含铈盐的溶液中进行恒电流阴极极化 ,应用椭圆偏振技术对上述两过程进行现场追踪的结果表明 :通过阴极极化步骤 ,可使氧化膜的组成发生改变 ,使铈沉积在氧化膜的表面 ;改变阴极极化液的酸度 ,对氧化膜中铈的沉积量有所影响 ,酸度越大。

关键词：椭圆偏振技术铈铝合金氧化膜阴极极化稀土转化膜成膜工艺表面处理电化学沉积

电化学反应的椭圆偏振光谱分析方法研究的进展

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重庆大学学报（自然科学版） 1990年第5期13卷 91-97页

作者：黄宗卿谢上芬张胜涛重庆大学化工学院

介绍作者等由实验结果提出的建立研究电化学反应的椭圆偏振光谱新方法的设想,并在一系列实验中证实了实现最初设想的可能性。最近在不同波长下进行了铁阳极氧化过程、聚苯胺膜电变色的氧化还原过程等所得光谱图的实验结果表明:建立新的... 详细信息

介绍作者等由实验结果提出的建立研究电化学反应的椭圆偏振光谱新方法的设想,并在一系列实验中证实了实现最初设想的可能性。最近在不同波长下进行了铁阳极氧化过程、聚苯胺膜电变色的氧化还原过程等所得光谱图的实验结果表明:建立新的椭圆偏振光谱方法的实验基础已经具备。

关键词：电化学反应椭圆偏振技术偏振光谱

Ge-Se基玻璃中红外波段光学常数及其组分关系研究

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Ge-Se基玻璃中红外波段光学常数及其组分关系研究

作者：韦宁宁宁波大学

学位级别：硕士

硫系玻璃指元素周期表第VIA族元素除O和Po以外S、Se、Te为基本成分,并引入一定量的其他元素如As、Ge之类电负性较弱的元素而形成的无机玻璃材料。它具有的主要特性:宽的红外透过窗口、快的光学响应时间、高的红外透过率以及高的折射率... 详细信息

硫系玻璃指元素周期表第VIA族元素除O和Po以外S、Se、Te为基本成分,并引入一定量的其他元素如As、Ge之类电负性较弱的元素而形成的无机玻璃材料。它具有的主要特性:宽的红外透过窗口、快的光学响应时间、高的红外透过率以及高的折射率。对于光学设计来说,硫系玻璃或者薄膜的折射率(n)和消光系数(k)等光学常数是很重要的参数,但是由于测试技术的限制以及测试精度的不理想,使得能获取的硫系玻璃的折射率数据是有限的,不利于红外波段光学系统的设计。本文以Ge-Se基硫系玻璃作为研究对象,制备了一系列具有不同化学配比以及不同拓扑网络结构(以平均配位数MCN表征)的玻璃样品,主要利用椭圆偏振技术研究了硫系玻璃的光学常数,重点研究如何利用椭圆偏振技术准确测量玻璃中红外波段的折射率;折射率等光学常数与组分之间的关系以及由此反映出的化学有序(Chemical Order)与拓扑有序(Topological Order)之间的竞争关系。本文主要有以下3个工作点:第一点概述了硫系玻璃的定义、发现过程以及应用领域,详细地介绍了选题的背景、研究意义、研究内容以及研究思路。通过对比获取光学常数的不同方法得出利用椭偏仪精确地测量中红外波段的光学常数存在一定的难度。通过菲涅尔反射函数和均方差函数简单介绍了椭偏仪的原理以及IR-VASE MarkⅡ型可变入射角红外光谱型椭偏仪(IR-VASE)的数据采集程序WVASE32,对其中的多种色散模型进行分析,从结构模型和色散模型说明其数据分析过程。最后具体分析了影响实验结果的主要因素并对此提出了解决办法。第二点是Ge-Se基块材料的实验结果分析。首先具体阐述了一系列Ge-Se基块材料样品的制备、椭偏仪的测试方法以及拟合过程中建立的模型,发现Ge-As/Sb-S/Se玻璃的中红外波段折射率均随着波长的增加而减小,但是折射率与MCN的变化关系中存在转变阈值,体现出拓扑有序与化学有序之间的竞争。研究表明,Ge-As/Sb-S/Se(As/Sb含量分别为10%和20%)系列中,用Sb替换As或者用Se替换S,均使得折射率增大。Ge-As-Se有近似完美的共价键,折射率转变点在MCN=2.67;而Ge-As-S和Ge-Sb-S/Se系列转变点出现化学计量比组分处。其中,随着MCN的增大,Ge-As-S系列元素之间相互替换之后,其体积减小,密度增大,密度变化曲线掩盖了折射率转变阈值。第三点阐述了GeAsSe薄膜样品的制备和椭偏仪的测试结果,具体分析了中红外波段折射率的软件拟合过程以及最终的拟合结果。研究表明,建立四层物理结构以及采用Cauchy色散模型得到理想拟合结果,最小均方误差MSE=4.612。最后是全文总结,指出了本研究工作的不足之处以及今后研究工作的重点。

关键词：硫系玻璃椭圆偏振技术折射率