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微型法拉第筒阵列束流均匀性测量

强激光与粒子束 2015年第5期27卷 195-199页

作者：胡杨杨海亮孙剑锋孙江张鹏飞李静雅强脉冲辐射环境模拟与效应国家重点实验室西安710024 西北核技术研究所西安710024

研制了一种用于测量强流脉冲电子束束流均匀性的微型法拉第筒阵列,其直径为22mm,由5个微型法拉第筒组成,最大可测束流密度为38A/mm2。利用该系统测量了二极管阳极靶面的束流密度,得到了阳极靶面束流均匀性的分布情况。结果显示,阳极靶... 详细信息

研制了一种用于测量强流脉冲电子束束流均匀性的微型法拉第筒阵列,其直径为22mm,由5个微型法拉第筒组成,最大可测束流密度为38A/mm2。利用该系统测量了二极管阳极靶面的束流密度,得到了阳极靶面束流均匀性的分布情况。结果显示,阳极靶面中心处束流密度高于靶面其他位置,靶面束流存在弱箍缩,束流局部均匀,大面积不均匀,束流密度呈径向分布。该结果与理论预期和仿真计算符合较好。

关键词：微型法拉第筒阵列束流密度分布均匀性

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用偏压法拉第筒测量强流脉冲离子束

强激光与粒子束 2000年第6期12卷 753-755页

作者：何小平石磊张嘉生邱爱慈西北核技术研究所西安市69信箱13分箱710024

分析了偏压法拉第筒测量强流脉冲离子束的原理和影响测量准确度的主要因素 ,研制了一种结构简单的偏压离子法拉第筒阵列 ,利用该装置测量了 2 0 0 k V小型强流脉冲离子束源的束流密度分布 ,束流中心密度最大值约为 1 70 A/cm2 。

关键词：脉冲离子束偏压法拉第筒束流密度分布测量原理

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同位素电磁分离器离子束成形的试验研究

原子能科学技术 1981年第1期 46-51页

作者：李公攀于丽华王朝驹杨德清

通常认为离子束张角随引出离子流变化的曲线为V字形,V字右笔对应的离子束有较好的聚焦性能,因此建议在同位素电磁分离器中采用这一工作区域。然而我们测得的张角曲线比较复杂,而且有峰值。本文根据实验结果,提出了判断离子束束形优劣的... 详细信息

通常认为离子束张角随引出离子流变化的曲线为V字形,V字右笔对应的离子束有较好的聚焦性能,因此建议在同位素电磁分离器中采用这一工作区域。然而我们测得的张角曲线比较复杂,而且有峰值。本文根据实验结果,提出了判断离子束束形优劣的主要指标,对张角曲线各段对应的离子束进行了比较。指出以接近张角峰值发射出的离子束,既有良好的聚焦性能,又可以更有效地利用弧放电等离子体,也是一个可以采用的较好工作区域。

关键词：束流密度分布离子束粒子束离子引出空间电荷力离子流张角同位素成形试验研究

低能强流带电粒子束的非线性空间电荷效应理论

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高能物理与核物理 1980年第5期 579-587页

作者：郁庆长中国科学院高能物理研究所

本文用解析方法研究低能强流带电粒子束的非线性空间电荷效应。文中确定了粒子温度为零的束的发射度图形形状的变化和束的初始束流密度分布之间的关系,由此导出了计算粒子温度不很高的束在非线性空间电荷场作用下发射度图形变化和有效... 详细信息

本文用解析方法研究低能强流带电粒子束的非线性空间电荷效应。文中确定了粒子温度为零的束的发射度图形形状的变化和束的初始束流密度分布之间的关系,由此导出了计算粒子温度不很高的束在非线性空间电荷场作用下发射度图形变化和有效发射度增长的近似方法。

关键词：发射度增长带电粒子束束流密度分布电荷效应粒子温度强流空间电荷大气体电荷

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低能大面积均匀束和聚焦束离子源

真空科学与技术学报 1983年第5期 372-379页

作者：黄良甫李宁忠谈治信惠金河牟金昌兰州物理研究所

研制了一台阳极15厘米的轴向发散磁场结构考夫曼型离子源,设计了改善束流密度均匀性的匹配栅和提高束流密度的聚焦束位移孔球面棚,仅更换这两种多孔栅离子引出系统,可提供均匀区φ10.5厘米(均匀度优于±5％)、束散角小于9°的均匀束和... 详细信息

研制了一台阳极15厘米的轴向发散磁场结构考夫曼型离子源,设计了改善束流密度均匀性的匹配栅和提高束流密度的聚焦束位移孔球面棚,仅更换这两种多孔栅离子引出系统,可提供均匀区φ10.5厘米(均匀度优于±5％)、束散角小于9°的均匀束和峰值密度11.4毫安/厘米~2,在φ4厘米的靶上平均密度为6毫安/厘米~2的聚焦束。

关键词：离子源考夫曼磁场密度粒子源电磁场束流密度分布离子引出总束流导流系数屏栅极栅极孔聚焦束束散角

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一个优良的离子加工用离子源

微细加工技术 1984年第3期 32-38页

作者：安志超长沙半导体工艺设备研究所离子束蚀刻组

本文介绍束直径116毫米的电导磁多极离子源的设计及实验结果。采用变孔径匹配栅网的离子光学系统,改善束流密度均匀性,有效束径大于91毫米。

关键词：离子源多极电子轰击导磁性粒子源束流电流束流密度分布束径离子

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一个新型的高频金属离子源

Chinese Physics C 1978年第6期 544-549页

作者：马明修姚维白桂彬北京师范大学

本文介绍了一个新型结构的高频离子源,它可以用气体、液体和固体物质工作.这一源的工作温度达到了1000℃.因此,它可以产生包括金属在内的多种元素的离子束.目前,已经引出了Al~+、Mg~+、Fe~+、Cr~+、Zn~+、In~+、Ag~+、Cd~+、Sn~+、Sm~+... 详细信息

本文介绍了一个新型结构的高频离子源,它可以用气体、液体和固体物质工作.这一源的工作温度达到了1000℃.因此,它可以产生包括金属在内的多种元素的离子束.目前,已经引出了Al~+、Mg~+、Fe~+、Cr~+、Zn~+、In~+、Ag~+、Cd~+、Sn~+、Sm~+、Hg~+、S~+ P~+、As~+、Se~+、Te~+等离子束,总流强度在几百微安到毫安级,总流中所需离子含量是70—90%,源的工作寿命在40小时到100小时以上.本文主要讨论了这一离子源的结构和工作特性.

关键词：离子源工作温度灯丝引出电极多种元素离子束粒子源粒子束发射度束流密度分布金属材料金属

卡夫曼离子源设计新进展——平板栅网热形变的束流匹配补偿技术

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微细加工技术 1985年第1期 39-43页

作者：安志超长沙半导体工艺设备研究所

在大直径的卡夫曼离子源中,作为离子光学的栅网,因热形变将严重影响束流品质,尤其是使束流密度均匀性分布变差。本文将介绍一种束流匹配技术,使其栅网热形变对束流密度分布均匀性影响减小到最低程度,并改善了束流密度分布的均匀性。

关键词：离子源粒子源束流电流束流密度分布栅网热形变补偿技术卡夫

MEVVA源引出离子束流分布均匀性的初步研究

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北京师范大学学报（自然科学版） 1995年第3期31卷 338-341页

作者：吴先映周凤生张孝吉张荟星罗云北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心

通过采用加会切磁场、增大离子源阴极与阳极距离并限制源等离子体发射角，从而使源阳极电位高于等离子体电位和采用改变源阳极结构──仅用阳极筒──从而改变弧放电路径这３种方法，对改善ＭＥＶＶＡ源引出离子束流密度分布的均匀性进... 详细信息

通过采用加会切磁场、增大离子源阴极与阳极距离并限制源等离子体发射角，从而使源阳极电位高于等离子体电位和采用改变源阳极结构──仅用阳极筒──从而改变弧放电路径这３种方法，对改善ＭＥＶＶＡ源引出离子束流密度分布的均匀性进行了初步的研究。第３种方法从根本上改变了ＭＥＶＶＡ源引出束分布的高斯分布特性，在合适的条件下可能得到更为均匀的束流密度分布。

关键词： MEVVA 束流密度分布等离子体参数离子束分布