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  • 1 篇 化学气相沉积
  • 1 篇 反应物浓度起伏
  • 1 篇 组织缺陷
  • 1 篇 wf6
  • 1 篇 杂质形状

机构

  • 1 篇 中国航天员科研与...
  • 1 篇 北京理工大学

作者

  • 1 篇 沈艳波
  • 1 篇 谭成文
  • 1 篇 才鸿年
  • 1 篇 于晓东
  • 1 篇 王富耻
  • 1 篇 马红磊

语言

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化学气相沉积钨显微组织缺陷的形成与控制
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中国有色金属学报 2015年 第6期25卷 1648-1654页
作者： 沈艳波 于晓东 谭成文 王富耻 马红磊 才鸿年 北京理工大学材料学院 北京100081 中国航天员科研与训练中心 北京100081
以WF6为前驱体,采用化学气相沉积法(CVD)在纯铜基体上沉积出钨涂层。利用光学显微镜(OM)和扫描电镜(SEM)分析研究钨制品组织缺陷的形成。结果表明:反应物浓度起伏对化学气相沉积钨的显微组织具有显著影响。当n(WF6):n(H2)≥1:3时,沉积... 详细信息
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