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<100>P型4英寸无位错锗单晶的研制
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稀有金属 2018年 第3期42卷 285-290页
作者: 高欢欢 黎建明 冯德伸 王霈文 李葳 北京有色金属研究总院有研光电新材料有限责任公司
从4英寸无位错锗单晶的生长温度梯度条件出发,设计开发了直拉法生长4英寸无位错锗单晶的双加热器热场系统;并对其热场进行了一系列的数值模拟研究,获得了4英寸无位错锗单晶的温度分布、轴向和径向的温度梯度分布以及热应力的分布结果:... 详细信息
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无位错<110>直拉硅单晶的研究
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中国科技期刊数据库 工业A 2016年 第9期 31-32页
作者: 徐强 张雪囡 孙晨光 王岩 王彦君 高树良 天津市环欧半导体材料技术有限公司 天津300384
本项目研究了直拉炉热场系统及拉晶工艺对拉制无位错直拉硅单晶的影响。通过合理调整直拉炉热系统,大幅度提高拉晶速度、控制引晶直径和长度,采取控制放肩速度、增加单晶收尾长度及控制收尾单晶直径等技术手段成功拉制无位错单晶。本项... 详细信息
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锗:从直拉晶体生长技术的首次应用到大直径无位错晶片
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现代材料动态 2007年 第5期 5-7页
作者: 邓志杰(摘译)
锗是工业上第一个重要的半导体。具有良好半导体性质的第一个Ge晶体由Purdue大学研制茁莱并由贝尔实验室于1947年用它制出第一只晶体管。Ge是研究半导体性质的“模板”。贝尔实验室的Teal和Little于1948年首先用直拉技术生长出Ge单晶。... 详细信息
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国产炉拉制Φ>76.2mm无位错FZ硅单晶的两种工艺热场分析
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半导体技术 1999年 第2期24卷 55-59页
作者: 黄立新 峨眉半导体材料厂
对国产设备试制及生产Φ>76.2mm无位错FZ硅单晶的两种最为稳定的工艺热场作了较全面的分析总结。
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Ti-36Nb-2Ta-3Zr-0.35O合金在热加工与冷加工过程中的组织演变(英文)
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Transactions of Nonferrous Metals Society of China 2016年 第5期26卷 1310-1316页
作者: 张卫东 刘咏 吴宏 刘彬 陈紫瑾 汤慧萍 中南大学粉末冶金国家重点实验室 长沙410083 西北有色金属研究院 金属多孔材料国家重点实验室西安710012
采用元素粉末法通过冷等静压、真空烧结、热锻、冷锻等方法制备了Ti-36Nb-2Ta-3Zr-0.35O(质量分数,%)(TNTZO)合金。运用透射电子显微镜、扫描电子显微镜、金相显微镜以及万能试验机对加工前后合金材料进行显微组织分析和力学性能检测,... 详细信息
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Φ200mm硅单晶的生长工艺特点
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稀有金属 1998年 第1期22卷 67-68页
作者: 张果虎 常青 方锋 吴志强 周旗钢 北京有色金属研究总院
在全自动拉晶条件下,讨论了拉制Φ200mm硅单晶遇到的新问题。热场配置、工艺参数的选择、石英坩埚的选用等有了更严格的要求。合理的轴向温度梯度和径向温度梯度、低拉速、低晶转及规范的拉晶工艺是拉制大直径单晶的关键。
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Femoral head fracture without hip dislocation
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Chinese Journal of Traumatology 2013年 第5期16卷 304-307页
作者: Aditya K Aggarwal Ashwani Soni Daljeet Singh Department of Orthopaedic Surgery Postgraduate Institute of Medical Education & Research Chandigarh India
没有脱臼或 subluxation 的大腿骨的头破裂是极其稀罕的损害。没有一年持续时间的新潮的脱臼或 subluxation,我们在由于道路交通事故支撑了一处高精力损伤的一个 36 岁的病人报导大腿骨的头的孤立的弄碎的骨折的一个忽视的案例。他与... 详细信息
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石英坩埚对大直径直拉硅单晶生长的影响
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电子工艺技术 2021年 第1期42卷 46-49页
作者: 莫宇 张颖武 韩焕鹏 赵堃 李明佳 中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津300220
大直径的单晶硅生长需要更多的时间和资源,提高单晶成晶率非常重要,石英坩埚是影响单晶产量和质量的主要因素。研究了两种不同内涂层的石英坩埚,一种是内层为高纯合成石英砂的坩埚(SQC),另一种是内层涂抹了碱土金属钡的离子溶液的天然... 详细信息
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