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AgTCNQ衍生物旋涂膜绿光可擦重写光存储性质研究

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光学学报 2004年第9期24卷 1164-1168页

作者：黄伍桥吴谊群顾冬红干福熹中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800

报道了新型电子转移复合物AgTCNQ脂类衍生物 :银 (2 ,5 二丙酸甲酯 7,7,8,8 四氰基对苯醌二甲烷 )的旋涂薄膜的光谱特征、薄膜的静态绿光可擦重写光存储性能 ,并研究了薄膜的可擦重写机理。结果表明该薄膜在 388nm和 6 75nm处有两个... 详细信息

报道了新型电子转移复合物AgTCNQ脂类衍生物 :银 (2 ,5 二丙酸甲酯 7,7,8,8 四氰基对苯醌二甲烷 )的旋涂薄膜的光谱特征、薄膜的静态绿光可擦重写光存储性能 ,并研究了薄膜的可擦重写机理。结果表明该薄膜在 388nm和 6 75nm处有两个源于复合物中阴离子自由基TCNQ(C2 H4COOCH3 ) -2 中的电子跃迁的特征吸收峰 ;AgTCNQ酯类衍生物旋涂膜具有良好的绿光光存储性能 ,该薄膜在写入功率为 9mW ,写入脉冲为 80ns,擦除功率为 4mW ,擦除脉冲为 5 0 0ns时反射率衬比度大于 15 % ,循环次数可达 10 0次以上 ,并且没有出现任何疲劳现象。机理研究表明 ,AgTCNQ酯类衍生物与AgTCNQ有着相同的可逆光致变色机理 ,即在激光作用下因复合物中可逆电子转移引起薄膜光学性质的可逆变化 ,从而实现可擦重写光信息存储。

关键词：薄膜光学高密度光存储可擦重写存储旋涂膜 AgTcNQ脂类衍生物

八异戊氧基酞菁铅旋涂膜对NO_2的气敏性研究

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传感技术学报 2006年第3期19卷 555-558页

作者：李赞左霞王彬陈志敏吴谊群黑龙江大学化学化工与材料学院功能材料实验室哈尔滨150080

为了筛选性能优良的酞菁类气敏性材料,设计合成了可溶性的八异戊氧基酞菁铅。利用旋涂技术制备了较理想的八异戊氧基酞菁铅旋涂膜,研究了八异戊氧基酞菁铅旋涂膜对NO2气体的敏感特性。研究表明,室温下八异戊氧基酞菁铅旋涂膜对NO2表现... 详细信息

为了筛选性能优良的酞菁类气敏性材料,设计合成了可溶性的八异戊氧基酞菁铅。利用旋涂技术制备了较理想的八异戊氧基酞菁铅旋涂膜,研究了八异戊氧基酞菁铅旋涂膜对NO2气体的敏感特性。研究表明,室温下八异戊氧基酞菁铅旋涂膜对NO2表现出良好的敏感性,响应浓度为5mg·m-3,响应恢复较快,对浓度为40mg·m-3的响应时间为30s,恢复时间为1.5min,并且该旋涂膜对NO2气体表现出较理想的可逆性、稳定性和选择性。

关键词：异戊氧基酞菁铅旋涂膜气敏特性响应恢复时间

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C_(60)共聚物旋涂膜的摩擦特性研究

摩擦学学报 2003年第4期23卷 272-275页

作者：张靖张涛王慧胡元中黄兰清华大学摩擦学国家重点实验室北京100084 北京大学化学学院高分子系北京100871

在云母基体上制备了含烷烃链的C60-苯乙烯(C60-PS)和含氟代烃链的C60-全氟代辛硫醇(C60-POTSF)2种C60共聚物旋涂膜,用原子力显微镜观察分析了C60共聚物旋涂膜的表面形貌,利用表面力仪研究了其摩擦力随速度和载荷变化的规律以及不同支链... 详细信息

在云母基体上制备了含烷烃链的C60-苯乙烯(C60-PS)和含氟代烃链的C60-全氟代辛硫醇(C60-POTSF)2种C60共聚物旋涂膜,用原子力显微镜观察分析了C60共聚物旋涂膜的表面形貌,利用表面力仪研究了其摩擦力随速度和载荷变化的规律以及不同支链对C60共聚物旋涂膜摩擦性能的影响.结果表明:所制备的C60共聚物分子未发生聚集;当分子量相同时,含氟代烃支链的C60共聚物旋涂膜的摩擦性能优于含烷烃支链C60共聚物旋涂膜;含烷烃支链的C60共聚物旋涂膜的支链越长,其摩擦力越小,摩擦性能越好.

关键词： C60共聚物旋涂膜摩擦性能

八异戊氧基-2,3-萘酞菁镍旋涂膜对NO_2的气敏特性

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哈尔滨工业大学学报 2009年第9期41卷 228-231页

作者：王彬左霞吴谊群贺春英段武彪黑龙江大学化学化工与材料学院功能无机材料化学省部共建重点实验室哈尔滨150080

为了设计对NO2气体具有高灵敏度、可逆性和专一选择性的敏感材料和克服敏感膜制作工艺复杂的缺点,利用旋涂技术制备了八异戊氧基-2,3-萘酞菁镍(N iNc(iso-PeO)8)气敏薄膜,采用AFM观察其表面形貌,研究了N iNc(iso-PeO)8旋涂膜对NO2的气敏... 详细信息

为了设计对NO2气体具有高灵敏度、可逆性和专一选择性的敏感材料和克服敏感膜制作工艺复杂的缺点,利用旋涂技术制备了八异戊氧基-2,3-萘酞菁镍(N iNc(iso-PeO)8)气敏薄膜,采用AFM观察其表面形貌,研究了N iNc(iso-PeO)8旋涂膜对NO2的气敏性,分析了薄膜形貌和测试温度等因素对薄膜气敏性的影响.结果表明,旋涂溶液浓度较低时制备的薄膜表面均匀,平整度较好,萘酞菁分子以无序聚集形式排列在基片上.工作温度升高,薄膜对NO2的响应恢复能力增强;不同温度下N iNc(iso-PeO)8旋涂膜对NO2灵敏度的顺序为:20℃130℃.

关键词：八异戊氧基-2 3-萘酞菁旋涂膜气敏性

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四烷氧基酞菁铜(Ⅱ)旋涂膜的气敏特性

传感器技术 2004年第5期23卷 24-28页

作者：左霞王彬吴谊群陈志敏李赞韦永德哈尔滨工业大学应用化学系黑龙江哈尔滨150001 黑龙江大学化学化工与材料学院黑龙江哈尔滨150080

设计合成了可溶性的四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜(C64H80N8O4Cu),利用旋涂技术制备了四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜旋涂膜,研究了配合物旋涂膜的红外光谱、电子吸收光谱、对NO2和乙醇蒸汽的敏感特性以及气敏机理。结果表明... 详细信息

设计合成了可溶性的四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜(C64H80N8O4Cu),利用旋涂技术制备了四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜旋涂膜,研究了配合物旋涂膜的红外光谱、电子吸收光谱、对NO2和乙醇蒸汽的敏感特性以及气敏机理。结果表明:可溶性的四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜可制得较理想的旋涂膜,与溶液相比较旋涂膜的电子吸收光谱明显变宽,且Q带的2个吸收峰分别红移了16nm和12nm。室温下配合物旋涂膜对较低体积分数NO2呈现出良好的气敏性,在NO2为1.0～5.0×10-6体积分数范围内表现出较好的线性关系,而薄膜对乙醇蒸汽响应的体积分数为3.0×10-5。动力学研究表明:四 a (2.2.4 三甲基 3 戊氧基)酞菁铜旋涂膜对气体的吸附和脱附分2个过程完成。

关键词：四烷氧基酞菁铜旋涂膜气敏特性化学传感器红外光谱电子吸收光谱

四新戊氧基酞菁锌旋涂膜的吸收光谱的温度特性

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光学学报 1999年第4期19卷 528-531页

作者：尹津龙顾冬红干福熹中国科学院上海光学精密机械研究所

在玻璃基片上制备了四新戊氧基酞菁锌（Ｔｅｔｒａ－ｎｅｏｐｅｎｔｏｘｙｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅＺｉｎｃ，ＴＮＰＰｃＺｎ）的旋涂膜，通过测定该薄膜在不同温度退火后的吸收光谱和Ｘ射线衍射谱图，研究了酞菁分子聚集体在薄膜... 详细信息

在玻璃基片上制备了四新戊氧基酞菁锌（Ｔｅｔｒａ－ｎｅｏｐｅｎｔｏｘｙｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅＺｉｎｃ，ＴＮＰＰｃＺｎ）的旋涂膜，通过测定该薄膜在不同温度退火后的吸收光谱和Ｘ射线衍射谱图，研究了酞菁分子聚集体在薄膜中的变化。随着温度的升高，单体逐渐转变为聚集体；当温度升高到４００℃时，聚集体重又向单体转变，同时还伴随有体系内非晶→晶相→非晶的相变。

关键词：酞菁锌旋涂膜吸收光谱相变薄膜温度特性

酞菁LB薄膜及其旋涂膜光学参数的测量(英文)

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光子学报 2000年第7期29卷 663-668页

作者：顾铮天尹津龙梁培辉干福熹中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800

制备了四新戊氧基酞菁锌 L B膜和旋涂膜 ,采用 p偏振反射法测定了两种薄膜在不同温度退火后的折射率 n和消光系数 k,发现这两种薄膜不仅表现出了相似的光学常数的数值 ,而且具有相似的随温度变化的趋势 .

关键词：酞菁 LB膜旋涂膜 P偏振光光学常数测量

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四叔丁基四氮杂卟啉铅旋涂膜的气敏性研究

功能材料与器件学报 2004年第2期10卷 221-224页

作者：左霞王彬吴谊群陈志敏韦永德黑龙江大学化学化工与材料学院功能材料实验室黑龙江哈尔滨150080 哈尔滨工业大学应用化学系哈尔滨150001

采用可溶性的四叔丁基四氮杂卟啉铅[PbTAP(t-Bu)_4],利用旋涂技术制备了四叔丁基四氮杂卟啉铅配合物旋涂膜,并对旋涂膜进行了红外光谱、电子吸收光谱分析。PbTAP(t-Bu)_4在近紫外区(300～400nm)及可见区(500～700nm)有强吸收带,膜与配... 详细信息

采用可溶性的四叔丁基四氮杂卟啉铅[PbTAP(t-Bu)_4],利用旋涂技术制备了四叔丁基四氮杂卟啉铅配合物旋涂膜,并对旋涂膜进行了红外光谱、电子吸收光谱分析。PbTAP(t-Bu)_4在近紫外区(300～400nm)及可见区(500～700nm)有强吸收带,膜与配合物溶液相比电子吸收光谱谱带明显变宽并略有红移。四叔丁基四氮杂卟啉铅配合物旋涂膜对NH_3和NO_2气体的气敏性研究结果表明:该旋涂膜具有较好的气敏性,PbTAP(t-Bu)_4旋涂膜对NH_3的灵敏度大约是NO_2的2倍,在10s内就可以达到平衡值,并且表现出较好的响应和恢复能力,而对NO_2气体表现出较差的可逆性。

关键词：四叔丁基四氮杂卟啉铅旋涂膜气敏性

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四新戊氧基酞菁锌旋涂膜结构研究

北京同步辐射装置年报 1998年第1期 134-137页

作者：尹津龙郑文莉中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800 北京高能物理所国家同步辐射实验室

将四新戊氧基酞菁锌的甲苯溶液旋涂成膜，经光学显微镜观察，薄膜表面光滑连续，小角度X射线衍射谱图中有规律的Keissig干涉峰说明膜厚均匀，红外反向光谱显示，未加热的薄膜中的分子排列无序，于150℃退火后，分子发生了共面聚集以接... 详细信息

将四新戊氧基酞菁锌的甲苯溶液旋涂成膜，经光学显微镜观察，薄膜表面光滑连续，小角度X射线衍射谱图中有规律的Keissig干涉峰说明膜厚均匀，红外反向光谱显示，未加热的薄膜中的分子排列无序，于150℃退火后，分子发生了共面聚集以接近垂直的角度直立在基片表面上，X射线衍射实验进一步证实了薄膜结构的有序性，并测定出了1．74A的晶面间距。

关键词：四新戊氧基酞菁锌旋涂膜结构分子取向红外反向光谱