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文献类型

  • 2 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 2 篇 电子文献
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日期分布

学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 2 篇 材料科学与工程（可...
    • 2 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 2 篇 掩模光刻机
  • 1 篇 工作台
  • 1 篇 找平判断
  • 1 篇 找平压力控制
  • 1 篇 分辨率
  • 1 篇 找平
  • 1 篇 控制系统
  • 1 篇 压力采集

机构

  • 2 篇 中国电子科技集团...

作者

  • 2 篇 周庆奎
  • 2 篇 刘玄博
  • 1 篇 李霖

语言

  • 2 篇 中文
检索条件"主题词=掩模光刻机"
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掩模光刻机中找平控制研究
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电子工业专用设备 2010年 第11期39卷 1-3,30页
作者： 周庆奎 刘玄博 李霖 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京101601
基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距... 详细信息
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光刻机自动对准工作台控制系统设计
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引用
电子工业专用设备 2014年 第1期43卷 42-44,56页
作者： 刘玄博 周庆奎 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京101601
光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件,直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作;结构设计紧凑精巧,包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度,目前接触接近式掩模光刻... 详细信息
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