检索结果-南通市图书馆

机械科学与技术 2021年第10期40卷 1561-1566页

作者：石平许志龙徐西鹏陈秀玉吴海锋华侨大学制造工程研究院福建厦门361021 集美大学机械与能源工程学院福建厦门361021

采用UV压印固化成型的方法制备具疏水性的微棱锥阵列减反薄膜,并设计正交试验探究了各工艺对其微观结构成型的影响,得到复形度高的微棱锥阵列薄膜的优化方案(压强0.5~0.8 MPa,充型时间30 s,光固化时间1 min)。通过对其减反性能分析,所... 详细信息

采用UV压印固化成型的方法制备具疏水性的微棱锥阵列减反薄膜,并设计正交试验探究了各工艺对其微观结构成型的影响,得到复形度高的微棱锥阵列薄膜的优化方案(压强0.5~0.8 MPa,充型时间30 s,光固化时间1 min)。通过对其减反性能分析,所制备的微棱锥阵列薄膜比无织构的平膜加权反射率低5%,分析各影响因素发现抑制气泡缺陷,并控制微棱锥特征结构参数高度和侧面夹角精度可使微织构薄膜减反能力相比提高21%,同时织构膜水滴接触角表明其具有自洁性。

关键词：微棱锥阵列 UV压印微织构薄膜反射率疏水

来源：

维普期刊数据库

同方期刊数据库评论

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

阴极超声振动电铸微棱锥阵列粗糙度研究

阴极超声振动电铸微棱锥阵列粗糙度研究

引用

特种加工技术智能化与精密化——第17届全国特种加工学术...

作者：杨光叶飞刘中生皮钧集美大学机械与能源工程学院

微棱锥型反光膜是利用光学原理,把光线逆反射回光源处的一种特殊光学材料,常见的微棱锥尺寸在几十个微米。反光膜的压印工作模是通过电铸原始模方法得到的,要求粗糙度值低于20nm,这种微细结构电铸的难点在于微纳米尺度表面粗糙度的要求... 详细信息

微棱锥型反光膜是利用光学原理,把光线逆反射回光源处的一种特殊光学材料,常见的微棱锥尺寸在几十个微米。反光膜的压印工作模是通过电铸原始模方法得到的,要求粗糙度值低于20nm,这种微细结构电铸的难点在于微纳米尺度表面粗糙度的要求。超声振动增加对流强度,从而保证阴极金属离子浓度,其作用直接影响微棱结构电沉积的均匀性和微棱镜阵列的反光效果。本实验通过机械结构连接,将超声变幅杆在节面位置通过法兰固定在架子上,超声振动直接作用在电化学系统中带有微棱锥阵列结构的阴极板上,沉积获得微棱锥型反光膜的工作模板,阴、阳极均为镍板,基于光学结构要求,主要研究铸层表面质量。采用超声振动(功率为500 W,频率为40 kHz)及普通机械搅拌,电沉积时间为5h。每间隔1h测量沉积层的质量,获得机械搅拌和阴极超声振动下的电沉积效率。结果表明,随着时间的增加,两种电沉积效率均呈现首先增加,然后趋于平缓的趋势。并且,阴极超声振动下的电沉积效率明显高于普通机械搅拌电沉积效率:当沉积时间为1h,阴极超声振动下的电沉积效率为0.34 g/h/dm,比普通机械搅拌电沉积效率0.20 g/h/dm提高了66.4‰当沉积时间为4h,阴极超声振动下的电沉积效率为0.48 g/h/m,比普通机械搅拌电沉积效率0.24 g/h/dm提高了99.1%。从三维显微镜观察到的点铸层显微形貌可看出:机械搅拌沉积表面不平,含有较多的气孔;直接阴极超声振动沉积层表面均匀,棱锥表面没有气孔等缺陷。另外,计算机械搅拌和直接阴极超声电沉积层XRD半峰宽及晶面距离,对比(111)峰、(200)峰和(220)峰的半峰宽,表明,直接阴极超声结果明显比机械搅拌电沉积数值更大。XRD表征结果同时说明了直接阴极超声振动可以减小电铸层的晶粒尺寸。逆反射系数和粗糙度测试结果均表明,超声功率为500W时,获得最好的表面质量,超声功率从低到高,表面质量先变好,经过拐点(500W)之后,表面质量变差,说明超声功率并不是越大越好,可以解释为,振动作用的增强使得很多已经在原有阴极上形成的晶核被打碎,致使晶粒形核速度小于晶粒长大速度。本实验中,在40 kHz和500 W直接阴极超声作用下,镍铸层的表面质量最好。

关键词：阴极超声振动电沉积微棱锥阵列粗糙度

来源： cnki会议评论

在线全文

cnki会议

学校读者我要写书评

暂无评论

陷光织构膜的UV压印及其光学特性研究

陷光织构膜的UV压印及其光学特性研究

引用

作者：石平华侨大学

学位级别：硕士

微纳织构膜的表面特定结构使其具有多功能特性,被广泛应用于光学显示、生物医学、传感等领域。陷光织构膜表面微纳织构具有优异的光功能特性,而且基于聚合物材质更易加工成型微细结构,对于光伏器件有很好的应用前景。通过UV压印（Ultrav... 详细信息

微纳织构膜的表面特定结构使其具有多功能特性,被广泛应用于光学显示、生物医学、传感等领域。陷光织构膜表面微纳织构具有优异的光功能特性,而且基于聚合物材质更易加工成型微细结构,对于光伏器件有很好的应用前景。通过UV压印（Ultraviolet imprinting）制备陷光织构膜相比于其他加工方式具有高分辨率、高效、低成本等优势,而UV压印成型的微结构制备精度会影响陷光织构膜的光学性能,如何进一步提高UV压印微结构成型精度是光学薄膜制造的难题。本文采用UV压印技术制备微棱锥型织构陷光膜,首先对UV压印成型微棱锥结构的充型和脱模过程进行理论研究,模拟分析了UV胶流体充型的规律和固化后的脱模过程,找到减少充型缺陷和易于脱模的条件;其次,设计正交试验制备微棱锥织构膜,通过分析不同工艺下微结构的成型质量,得到优化工艺参数;最后测试微棱锥织构膜的反射率,分析不同复形精度微织构膜的减反性能,并将光学性能最好的微织构膜复合于晶体硅电池上,验证微棱锥织构膜的陷光性能。主要内容从以下三个方面开展:（1）对微棱锥陷光织构膜UV压印的充型和脱模过程进行仿真分析。依据液态UV胶材料的属性,通过实验测定其粘度、表面张力和接触角等仿真参数。创建微棱锥单元充型过程的有限元仿真模型,分析型腔内空气和流体的多相流作用,获得接触角属性、粘度和微型腔入口速度对UV胶流体填充过程的影响规律。建立模板和固化胶微结构的内聚力分离模型,分析固化胶材料弹性模量、微结构倾角和初始分离对脱模载荷的影响,获得顺利脱模的有利条件。（2）设计不同工艺参数的正交试验制备微棱锥织构薄膜,通过测量微棱锥阵列特征结构高度和侧面夹角参数来表征压印成型质量,探究了UV压印各工艺参数对其微观结构成型的影响,得到复形度高的优化方案（压强0.5～0.8 Mpa,充型时间30 s,光固化时间1 min）。（3）测试评价所制备微织构膜的光学特性,分析了特征结构复形度对薄膜减反能力的影响程度,结果表明微棱锥织构膜特征结构高精度复形可有效提高微织构膜减反性能。相比之下,高复形度和抑制微棱锥内气泡缺陷在平面UV压印中可使微织构薄膜减反能力提高21%。最后将复形度高的微棱锥织构膜复合于晶体硅电池表面,测试其电池组件的性能,结果也表明了陷光织构膜可有效提高太阳能电池的光电转换效率。

关键词：微棱锥阵列充型脱模 UV压印减反

来源：

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

欢迎您,

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

在线全文

在线全文

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

通借通还

欢迎您,

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

在线全文

在线全文

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：