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  • 2 篇 期刊文献

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  • 2 篇 工学
    • 2 篇 电子科学与技术（可...
    • 1 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 2 篇 hgcdte
  • 2 篇 微台面列阵
  • 1 篇 刻蚀非线性
  • 1 篇 刻蚀形貌
  • 1 篇 干法刻蚀
  • 1 篇 刻蚀速率
  • 1 篇 干法技术
  • 1 篇 反应离子刻蚀

机构

  • 2 篇 中国科学院上海技...
  • 1 篇 中国科学院上海技...

作者

  • 2 篇 何力
  • 2 篇 胡晓宁
  • 2 篇 叶振华
  • 1 篇 全知觉
  • 1 篇 丁瑞军
  • 1 篇 郭靖

语言

  • 2 篇 中文
检索条件"主题词=微台面列阵"
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HgCdTe探测列阵干法技术的刻蚀形貌研究
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红外与毫米波学报 2006年 第5期25卷 325-328页
作者： 叶振华 胡晓宁 全知觉 丁瑞军 何力 中国科学院上海技术物理研究所材料器件中心 上海200083 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室 上海200083
首次报道了HgCdTe微台面焦平面探测列阵成形工艺的干法刻蚀技术有关刻蚀形貌的一些研究结果.从HgCdTe外延材料的特点出发,详细分析了其干法刻蚀适用的RIE(reactive ion etching)设备和刻蚀原理.采用高等离子体密度、低腔体工作压力、高... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
HgCdTe焦平面探测阵列干法技术的刻蚀速率研究
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引用
激光与红外 2005年 第11期35卷 829-831页
作者： 叶振华 郭靖 胡晓宁 何力 中国科学院上海技术物理研究所材料器件中心 上海200083
首次报道了HgCdTe焦平面探测器微台面列阵成形工艺的干法技术有关刻蚀速率的一些研究结果。从HgCdTe外延材料的特点出发,详细分析了其干法刻蚀适用的R IE(ReactiveIon Etching)设备、刻蚀原理以及刻蚀速率的影响因素。采用ICP(Inductive... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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