检索结果-南通市图书馆

大连理工大学学报 1997年第2期37卷 125-128页

作者：马腾才大连理工大学三束材料改性国家重点实验室

采用流体近似和迁移－扩散近似分别研究了外磁场作用下射频等离子体的离子和电子动力学．特别指出了外磁场对鞘层中离子通量和能量分布的支配作用．

关键词：磁场等离子体鞘层射频等离子体

射频辉光放电等离子体风速传感器在低速来流下的响应特性

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高电压技术 2019年第10期45卷 3375-3382页

作者：王康张耘玮张志波李应红空军工程大学等离子体动力学重点实验室

为了推动等离子体风速传感器走向应用,建立了射频辉光等离子体风速传感器自动化实验系统,进行了在静止大气、定常流场和动态流场中的放电实验,研究了大气压射频尖尖放电的电压电流特性,以及来流对等离子体电压、电流的影响,分析了等离... 详细信息

为了推动等离子体风速传感器走向应用,建立了射频辉光等离子体风速传感器自动化实验系统,进行了在静止大气、定常流场和动态流场中的放电实验,研究了大气压射频尖尖放电的电压电流特性,以及来流对等离子体电压、电流的影响,分析了等离子体风速传感器测量的风速和频率范围。实验结果表明:钨电极在大气中放电发生烧蚀氧化现象,影响电极间距,因此放电时间不宜太长;在低速(5~45 m/s)范围内,等离子体传感器有效电压与风速成线性关系,风速较高(>30 m/s)时,发生熄灭然后重新击穿的周期性现象,表现为电压有效值的周期性脉动,其主脉动频率与风速成线性关系;验证了等离子风速传感器能够测量500~1 500 Hz流场动态频率。

关键词：射频等离子体辉光放电风速传感器放电特性响应特性

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射频等离子体气相沉积a－C：N薄膜

微细加工技术 1996年第3期 49-54页

作者：张贵锋西北工业大学材料科学与工程系

用Ｃ２Ｈ２－Ｎ２射频等离子体化学气相沉积法在单晶硅、锗衬底上沉积了无定形碳化氮膜（ａ－Ｃ：Ｎ）。通过改变反应气中氮气分压，得到不同掺氮含量的ａ－Ｃ：Ｎ膜，该膜的显微硬度高达３９００ｋｇ．ｆ／ｍｍ２。电阻率和掺氮量随反... 详细信息

用Ｃ２Ｈ２－Ｎ２射频等离子体化学气相沉积法在单晶硅、锗衬底上沉积了无定形碳化氮膜（ａ－Ｃ：Ｎ）。通过改变反应气中氮气分压，得到不同掺氮含量的ａ－Ｃ：Ｎ膜，该膜的显微硬度高达３９００ｋｇ．ｆ／ｍｍ２。电阻率和掺氮量随反应气氛中氮分压的升高而增加。ＸＰＳ分析表明，ａ－Ｃ：Ｎ膜中可能存在三种不同的Ｃ－Ｎ键合状态，键能分别位于４０１．０ｅＶ、３９９．０ｅＶ和３９８．０ｅＶ，红外吸收谱分析表明掺入的氨是以化学键的形式存在于膜中。

关键词：射频等离子体 CVD 薄膜生长碳氮薄膜

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常温下采用射频等离子体法合成碳化硅膜

真空 2005年第2期42卷 27-30页

作者：宋巧丽王德真张鹏云张家良大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室辽宁大连116024

采用射频等离子体增强的气相沉积法,以硅烷和乙烯为原料,在常温下成功的合成了碳化硅薄膜。对于该条件下合成的碳化硅薄膜的结构特征,采用SEM、TEM、XRD、IR等手段进行了分析;分析结果表明我们的样品是以碳硅键为主的薄膜。

关键词：碳化硅膜射频等离子体气相沉积

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射频等离子体处理对氧化石墨烯的影响

大连民族大学学报 2016年第3期18卷 226-229页

作者：刘佳杨林燊莫华兴马禹更大连民族大学物理与材料工程学院辽宁大连116605

分别使用氢气和氩气射频等离子体放电处理氧化石墨烯溶液,快速的对氧化石墨烯进行还原,同时得到了三维多孔的表面形貌。结果显示,还原性气体(氢气)对氧化石墨烯的还原程度高于惰性气体(氩气)对其的还原;通过改变射频等离子体的放电功率... 详细信息

分别使用氢气和氩气射频等离子体放电处理氧化石墨烯溶液,快速的对氧化石墨烯进行还原,同时得到了三维多孔的表面形貌。结果显示,还原性气体(氢气)对氧化石墨烯的还原程度高于惰性气体(氩气)对其的还原;通过改变射频等离子体的放电功率,表明放电功率越大,氧化石墨烯的还原程度越高。用射频等离子体还原氧化石墨烯,方法更有效且环境友好,处理后得到的三维多孔形貌的还原氧化石墨烯有望进一步应用于超级电容器、锂电池、传感器等领域。

关键词：氧化石墨烯还原射频等离子体

射频感应耦合等离子体调谐基片自偏压特性的进一步研究

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辽宁师范大学学报（自然科学版） 2008年第2期31卷 158-161页

作者：霍伟刚杨艳刘成森丁振峰辽宁师范大学物理与电子技术学院辽宁大连116029 大连水产学院生命科学技术学院辽宁大连116023 大连理工大学物理系辽宁大连116024

在已有的调谐基片自偏压研究的基础上,进一步研究了基片台空间轴向位置对基片自偏压-调谐电容曲线的影响;研究了基片分支串联电阻对基片自偏压的影响,发现了在电阻值区自偏压自振荡现象;在不同的放电参数下,采用自制诊断工具测量了射频... 详细信息

在已有的调谐基片自偏压研究的基础上,进一步研究了基片台空间轴向位置对基片自偏压-调谐电容曲线的影响;研究了基片分支串联电阻对基片自偏压的影响,发现了在电阻值区自偏压自振荡现象;在不同的放电参数下,采用自制诊断工具测量了射频感应耦合等离子体电子温度、电子密度等参量的空间分布.并对基片自偏压相应的实验现象给出了物理模型解释.

关键词：射频等离子体调谐基片自偏压正反馈

脉冲偏压协同射频等离子体对PET膜的表面改性

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脉冲偏压协同射频等离子体对PET膜的表面改性

作者：解艳凤东华大学

学位级别：硕士

柔性电子技术是一场全新的电子技术革命,引起全世界的广泛关注并得到了迅速发展。鉴于透明度、柔韧性及力学性能要求,高分子聚合物材料是柔性基板的理想选择,但是由于高分子薄膜的表面能低,柔性基板表面与导电膜之间的黏结情况会直接影... 详细信息

柔性电子技术是一场全新的电子技术革命,引起全世界的广泛关注并得到了迅速发展。鉴于透明度、柔韧性及力学性能要求,高分子聚合物材料是柔性基板的理想选择,但是由于高分子薄膜的表面能低,柔性基板表面与导电膜之间的黏结情况会直接影响柔性电子器件的整体质量。目前,最普遍的方法就是对其进行表面改性处理。本文采用直流(DC)脉冲偏压协同射频(RF)脉冲等离子体对聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜进行表面改性,并对其改性原因进行分析。借助场发射电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)等测试方法对改性后PET膜表面的形态结构和化学组成进行了表征分析,通过接触角测试仪和剥离试验对改性后的润湿性和黏结性进行了测量和表征。利用朗缪尔探针和发射光谱对等离子体内粒子状态进行诊断,发射光谱主要讨论O777.3nm (3s5P→3s5S0)、844.6nm (3p3P→3s5S0)、Ar912.3nm (2p→101s5)特征谱线的发光强度。实验结果如下：通过增加脉冲偏压协同作用,可以在15s时间内快速有效的提高表面亲水性和黏结性。调制频率1KHz情况下,接触角15s内降低至200,且随着偏压的增大,表面亲水性越好,黏结性越好,改性后的PET与Au膜的剥离力比未处理样品提升了近6倍。通过FESEM和XPS测试分析,经偏压协同等离子体处理后,PET膜表面刻蚀现象明显,粗糙程度增加,甲基碳(O-CH2)含量上升,溅射镀金过程产生Au-O键,增加金膜与PET膜之间的结合力。脉冲调制频率200Hz时,相对于1KHz时改性后亲水性更佳,接触角最低降至17°,表面粗糙程度增大。低频调制时有利于等离子体活性种能量的增大,表面刻蚀加剧。时效性分析表明,改性效果越好接触角恢复越慢,例如BV=-800V最慢。且施加偏压的时效性优于未加偏压的情况,当处理条件为BV=0V时,4天后恢复至47°,而处理条件BV=-800V恢复至47。需要15天。通过改变等离子体活性种浓度时发现,偏压源未延迟,即delay0ms时,活性种浓度和能量最大,AFM测试表面粗糙度最大,XPS分析表面C-C键被打断,含量降低,PET膜表面改性效果最好。时间延迟后,等离子体活性种浓度和能量降低,刻蚀程度降低,表面粗糙度下降,同时表面C-C无法打开,羧基、羟基等含氧官能团含量略有上升,脂基氧含量下降,而脂基官能团亲水性最好,所以导致延迟后改性处理效果略差,说明DC脉冲偏压的协同处理作用效果显著。

关键词： PET薄膜脉冲偏压射频等离子体表面改性亲水性黏结性

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射频等离子体制备球形复合镍钛粉体

有色金属科学与工程 2020年第1期11卷 67-71页

作者：徐平刘丹华胡杰林高用中南大学材料科学与工程学院长沙410083 广东省科学院广东材料与加工研究所广州510650

以气雾化镍粉和不规则形状的钛粉作为原料,采用TEKNA射频等离子体设备制备宏观等原子比的球形复合镍钛粉末。研究载气流量对球化粉末的形貌、粒径、相分布和元素分布的影响。通过扫描电子显微镜和粒度分析仪表征粉体的形貌和粒径分布;通... 详细信息

以气雾化镍粉和不规则形状的钛粉作为原料,采用TEKNA射频等离子体设备制备宏观等原子比的球形复合镍钛粉末。研究载气流量对球化粉末的形貌、粒径、相分布和元素分布的影响。通过扫描电子显微镜和粒度分析仪表征粉体的形貌和粒径分布;通过XRD和EDS表征粉体的相以及元素分布。研究发现:与原料粉末相比,采用射频等离子体制备的复合粉末的粒径明显增大;载气流量增加会引起粉末镍元素质量分数的增加,在载气流量为2.5 L/min时,镍质量分数为55.2%,是最为接近理想的质量分数,球化率达到100%;球化粉末由Ni相、Ti相、NiTi相三相组成;各个粉末颗粒都能观察到Ni、Ti 2种元素,但各个颗粒中含有的钛、镍元素质量分数是不完全相同的。

关键词：射频等离子体载气流量复合镍钛粉末元素分布

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送粉速率对射频等离子体球化粉末性能的影响

兰州理工大学学报 2020年第2期46卷 19-23页

作者：尹燕赵超潘存良张瑞华兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室甘肃兰州730050 中国钢研科技集团有限公司北京100081 阳江市五金刀剪产业技术研究院广东阳江529533

采用射频等离子体球化技术对多次激光3D打印废弃的GH4169合金粉末颗粒进行二次改造,研究了送粉速率对粉末球化效果的影响规律,分析了粉末球化前后显微组织及性能的差异.研究结果表明:送粉速率越小,单位质量粉末吸收过多的热量而导致其气... 详细信息

采用射频等离子体球化技术对多次激光3D打印废弃的GH4169合金粉末颗粒进行二次改造,研究了送粉速率对粉末球化效果的影响规律,分析了粉末球化前后显微组织及性能的差异.研究结果表明:送粉速率越小,单位质量粉末吸收过多的热量而导致其气化,颗粒表面“吸附小颗粒粉末”较多,球形粉末收得率很小;送粉速率越高,单位质量粉末吸收的热量不足以熔化所有粉末颗粒,出现部分的卫星球、包覆粉等缺陷,粉末球化率降低.球化处理后的粉末颗粒显微组织主要包括胞状晶、柱状晶和微晶.在适宜的等离子体球化工艺参数下,获得的粉末颗粒球形度极佳,流动性和松装比得到显著改善,粉末平均粒径增大,粒径分布更趋均匀.

关键词： GH4169 射频等离子体球化送粉速率

射频感性耦合等离子体中容性耦合对放电模式和基片调谐自偏压的影响

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射频感性耦合等离子体中容性耦合对放电模式和基片调谐自偏压的影...

作者：孙景超大连理工大学

学位级别：硕士

在实际的射频感性耦合放电中总是寄生着射频容性耦合。射频容性耦合产生的结果之一是射频感性等离子体源具有感性耦合放电模式(H mode)、容性耦合放电模式(E mode)。在过去关于放电模式转化特性的实验研究中，阻抗匹配网络影响方面的工... 详细信息

在实际的射频感性耦合放电中总是寄生着射频容性耦合。射频容性耦合产生的结果之一是射频感性等离子体源具有感性耦合放电模式(H mode)、容性耦合放电模式(E mode)。在过去关于放电模式转化特性的实验研究中，阻抗匹配网络影响方面的工作很少，仅有G. Cunge[G. Cunge, B. Crowley, D. Vender and M. M. Turner, Plasma Sources Sci.)Technol.8，576(1999)]研究了两种不同匹配下的E-H模式转化，但没有给出对应的机理分析、解释，尚需深入系统的定量研究，并揭示其中物理机理。装置导电地是容性耦合的必经路径，但装置地面积对放电模式及转化特性的影响未见报道。本论文利用Z-Scan测量系统以及电流、电压探头，通过测量等离子体吸收功率、天线电流、电压、等离子体悬浮电位等多种参数，研究了匹配网络、天线耦合强度、导电地面积、气压等多种因素对E、H放电模式特性及模式转化行为的影响。基于Γ型阻抗匹配网络中串联电容对射频电源输出功率的影响，提出了E-H放电模式转化的正负反馈区概念。研究发现当等离子体放电处于正反馈区时，在相同的其它条件下，易于产生跳变型模式转化，模式跳变的临界天线电流、回滞宽度、跳变临界功率、跳变功率差等参数均随阻抗匹配网络参数产生明显变化;在负反馈区内，模式转化过程趋于连续。由于阻抗匹配网络的影响，由E模式向H模式的跳变电流并不是总大于由H模式到E模式的跳变电流。在E、H模式转化过程中，还研究了源于射频电源的受迫振荡的非线性演化行为。在导电地面积对放电模式转化行为影响的研究中发现，不同的地面积并结合阻抗匹配网络、天线耦合强度使模式转化过程呈现多样性。课题组在过去开展基于容性耦合的调谐基片自偏压特性研究，在已有的工作基础上，论文发现并研究了调谐基片自偏压第二连续区;调谐自偏压正、负反馈区与放电正、负反馈区的耦合作用，脉冲型自振荡的周期加倍行为。

关键词：射频等离子体感性耦合容性耦合放电模式基片调谐非线性