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磁镜场对射频等离子体中离子能量分布的影响

物理学报 2000年第9期49卷 1764-1768页

作者：刘洪祥魏合林刘祖黎刘艳红王均震华中理工大学物理系武汉430074

运用阻碍栅极型能量分析器 ,在不同磁镜场参数下测量了低温等离子体中离子的能量分布 .结果表明 ,在放电管中心处离子能量分布 ,随磁镜场强度的增加而向低能方向偏移 ,但离子能量分布宽度却没有明显的变化 ;而随着磁镜比的增加离子能量... 详细信息

运用阻碍栅极型能量分析器 ,在不同磁镜场参数下测量了低温等离子体中离子的能量分布 .结果表明 ,在放电管中心处离子能量分布 ,随磁镜场强度的增加而向低能方向偏移 ,但离子能量分布宽度却没有明显的变化 ;而随着磁镜比的增加离子能量分布却向高能方向偏移 ,并且离子能量分布宽度也将变宽 .由此可见 ,磁镜场参数对离子能量分布有很大影响 .

关键词：磁镜场辉光放电离子能量分布射频等离子体

气体流量对射频等离子体球化GH4169合金粉末的影响

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焊接学报 2019年第11期40卷 100-105,I0005页

作者：尹燕赵超潘存良路超张瑞华兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室兰州730050 中国钢研科技集团有限公司北京100081 阳江市五金刀剪产业技术研究院阳江529533

采用射频等离子体球化技术对多次激光3D打印废弃的不规则GH4169合金粉末进行二次改造,研究载气、氢气流量对球化粉末效果的影响机理.利用扫描电镜、霍尔流动仪、振实密度测试仪及激光粒度分析仪对球化前后粉末的形貌、流动性、松装比及... 详细信息

采用射频等离子体球化技术对多次激光3D打印废弃的不规则GH4169合金粉末进行二次改造,研究载气、氢气流量对球化粉末效果的影响机理.利用扫描电镜、霍尔流动仪、振实密度测试仪及激光粒度分析仪对球化前后粉末的形貌、流动性、松装比及粒度分布进行分析.结果表明,载气流量越大,粉末在等离子体火焰中停留时间越短、运动絮乱,球化率越低;氢气流量越大,单位时间内等离子体与粉末热交换越大,球化生产效率越高.经球化处理的GH4169合金粉末的流动性、松装比得到了显著的改善,粉末颗粒平均粒径增加,粒径分布变窄.

关键词：射频等离子体 GH4169合金粉末气体流量

射频等离子体放电的宏观参数与PET表面改性的关系

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真空科学与技术 1998年第5期18卷 373-376页

作者：张亮王建祺张新生北京大学物理系介观物理国家重点实验室北京100871 北京理工大学化工与材料学院国家阻燃材料研究实验室北京100081 北京教育学院宣武分院北京100050

通过射频等离子体放电，采用O2，CF4及CH4／CF4混合气体等离子体对PET表面进行处理。改变射频等离子体放电的宏观参数，如放电时间、放电功率、电极间距离和复合参数，详细地研究了这些参数对PET表面改性的影响。结果表明：碳氟混合气... 详细信息

通过射频等离子体放电，采用O2，CF4及CH4／CF4混合气体等离子体对PET表面进行处理。改变射频等离子体放电的宏观参数，如放电时间、放电功率、电极间距离和复合参数，详细地研究了这些参数对PET表面改性的影响。结果表明：碳氟混合气体等离子体在PET表面的沉积速率为正值，在PET表面形成了聚合物；而O2和纯CF4气体的沉积速率为负值，两者在PET表面产生刻蚀效应。增加等离子体放电功率和放电时间，聚合或刻蚀效果更明显；而增加电极间距离和复合参数，聚合或刻蚀效果明显减弱。

关键词：射频等离子体沉积速率聚合刻蚀 PET

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射频等离子体制备球形粉末的数值模拟

中国科技论文 2015年第22期10卷 2642-2647页

作者：王建军郝俊杰郭志猛毛瑞奇北京科技大学新材料技术研究院北京100083

为了解决射频等离子体球化制粉过程存在的监测困难和成本高问题,提出将射频等离子体视为磁流体(magneto-hydrodynamic,MHD),借助有限元方法分析等离子体的传热与流动。利用计算流体力学(computational fluid dynamics,CFD)软件Fluent,... 详细信息

为了解决射频等离子体球化制粉过程存在的监测困难和成本高问题,提出将射频等离子体视为磁流体(magneto-hydrodynamic,MHD),借助有限元方法分析等离子体的传热与流动。利用计算流体力学(computational fluid dynamics,CFD)软件Fluent,建立球化制粉过程的数值模型,采用k-ε模型计算流场和温度场,通过离散相(discrete phase model,DPM)模型研究颗粒的运动轨迹来探讨球化率和收粉率的问题。结果表明:等离子体炬中心区温度高达10 148K且具有极大的温度梯度,球化处理可以获得球形度高、结构致密的球形粉末;提高送粉率使单位时间内温度场内的颗粒增多,球化率下降;粉末粒径越大,受重力场作用越大,颗粒更趋向沿轴向快速通过等离子炬;湍流作用下粉末的杂乱运动是收粉率低的主要原因。数值模拟可以为等离子体球化制粉技术的推广提供理论指导。

关键词：射频等离子体数值模拟颗粒运动轨迹球化率

用射频等离子体技术制备乙炔选择加氢催化剂及其性能研究

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催化学报 2003年第10期24卷 775-778页

作者：陈慕华储伟张雄伟四川大学化学工程学院四川成都610065

采用射频等离子体技术制备了α Al2 O3 (MgO修饰 )负载钯催化剂 ,以乙炔选择加氢为模型反应考察了制备方法、钯含量、助剂种类及反应温度对催化剂性能的影响 .结果表明 ,采用等离子体技术制备的催化剂具有催化活性及乙烯选择性高、操作... 详细信息

采用射频等离子体技术制备了α Al2 O3 (MgO修饰 )负载钯催化剂 ,以乙炔选择加氢为模型反应考察了制备方法、钯含量、助剂种类及反应温度对催化剂性能的影响 .结果表明 ,采用等离子体技术制备的催化剂具有催化活性及乙烯选择性高、操作简便和工艺流程短等优点 ,在 5 0℃下反应时乙炔转化率可达 10 0 % ,乙烯选择性可达 71 3% ,而且在反应 2 0h后催化剂样品仍保持有高活性 .CeO2 助剂的加入能改善催化剂的催化性能 .

关键词：钯系催化剂助剂射频等离子体乙炔选择加氢乙烯

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射频等离子体中绝缘基片上自偏压的研究

真空科学与技术学报 2006年第3期26卷 185-189页

作者：潘永强 Y Yin 西安工业大学光电工程学院西安710032 澳大利亚悉尼大学物理系

在薄膜沉积和离子束刻蚀技术中,通常要给绝缘基片加上一个射频或脉冲电极,以便在绝缘基片上形成一个自偏压来控制轰击到绝缘基片表面的离子能量。由于绝缘基片上的自偏压不便于测量,在研究中,大多采用射频电极上的偏压来代替绝缘基片表... 详细信息

在薄膜沉积和离子束刻蚀技术中,通常要给绝缘基片加上一个射频或脉冲电极,以便在绝缘基片上形成一个自偏压来控制轰击到绝缘基片表面的离子能量。由于绝缘基片上的自偏压不便于测量,在研究中,大多采用射频电极上的偏压来代替绝缘基片表面的实际自偏压。本文在研究中发现,绝缘基片表面的自偏压与射频输入电极上的自偏压有一定的差别,并且随着射频输入电极结构的变化和绝缘基片面积的变化,这个差异将发生意想不到的变化,并对绝缘基片厚度对自偏压的影响进行了进一步的研究和分析。这一研究对射频等离子体自偏压控制离子能量等成膜工艺具有重要的意义。

关键词：射频等离子体绝缘基片自偏压电极结构

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射频感应等离子体制备球形Ti粉的工艺

核动力工程 2010年第1期31卷 13-17页

作者：古忠涛叶高英刘川东童洪辉西南物理研究院成都610041

采用射频(RF)感应等离子体球化颗粒形状不规则的Ti颗粒。研究了加料速率、物料分散方式、Ti颗粒大小等因素对球化率的影响。电子扫描显微镜(SEM)观察的球化效果以及对钛粉振实密度的测定表明:当钛原粉以极短暂时间快速穿越等离子体炬时... 详细信息

采用射频(RF)感应等离子体球化颗粒形状不规则的Ti颗粒。研究了加料速率、物料分散方式、Ti颗粒大小等因素对球化率的影响。电子扫描显微镜(SEM)观察的球化效果以及对钛粉振实密度的测定表明:当钛原粉以极短暂时间快速穿越等离子体炬时,钛粉颗粒因受热而熔化成液滴,快速冷却,形成球形固态颗粒。

关键词：射频等离子体球化钛粉

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低风速下射频等离子体的辉光放电特性

高电压技术 2016年第6期42卷 1962-1968页

作者：张耘玮王卫民贾敏宋慧敏王蔚龙李应红空军工程大学等离子体动力学重点实验室西安710038

为研究射频等离子体辉光放电特性与风速、气压之间的关系,以等离子体风速传感器为研究背景,建立了射频等离子体辉光放电实验系统,研究了激励器在不同放电间距（0.05 mm和0.08 mm）、不同来流速度（0-45 m/s）、不同电源输出功率（10 W和... 详细信息

为研究射频等离子体辉光放电特性与风速、气压之间的关系,以等离子体风速传感器为研究背景,建立了射频等离子体辉光放电实验系统,研究了激励器在不同放电间距（0.05 mm和0.08 mm）、不同来流速度（0-45 m/s）、不同电源输出功率（10 W和20 W）和不同气压（50-100 k Pa）下的放电特性。结果表明：电极间距越小,射频等离子体辉光放电稳定性越高;在固定的电源输出功率和工作频率下,发现了激励器负载电压与来流速度关系的3个阶段：电极过热阶段、线性阶段和放电不稳定阶段;在不同的电源输出功率下,对应不同的风速范围,激励器负载电压与风速具有良好的线性关系;在亚音速气流对应的静压（总压为大气压）范围内,射频等离子体辉光放电对气压变化不敏感。

关键词：射频等离子体辉光放电风速风速传感器放电特性气压

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射频等离子体化学气相沉积择优取向膜的研究

真空电子技术 1996年第3期9卷 9-11页

作者：谢雁李世直青岛化工学院等离子体表面技术研究所

用Ｘ－衍射的方法分析影响射频等离子体沉积择优取向的ＴＩＮ膜，取向的原因。

关键词：氮化钛膜回摆曲线择优取向射频等离子体