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物理学报 2002年第4期51卷 882-888页

作者：丁瑞钦王浩于英敏王宁娟佘卫龙李润华丘志仁罗莉蔡志岗 W Y Cheung S P Wong 五邑大学薄膜与纳米材料研究所江门529020 中山大学超快速激光光谱国家重点实验室广州510275 香港中文大学电子工程系暨材料科技研究中心

应用射频磁控共溅射方法和真空退火方法制备了GaAs SiO2 纳米颗粒镶嵌薄膜 .X射线衍射实验结果表明 ,经高温退火的薄膜中形成了面心立方闪锌矿结构的GaAs纳米晶粒 ,晶粒平均直径为 1.5— 3.2nm .吸收光谱展示了由于强量子限域引起的 1.5... 详细信息

应用射频磁控共溅射方法和真空退火方法制备了GaAs SiO2 纳米颗粒镶嵌薄膜 .X射线衍射实验结果表明 ,经高温退火的薄膜中形成了面心立方闪锌矿结构的GaAs纳米晶粒 ,晶粒平均直径为 1.5— 3.2nm .吸收光谱展示了由于强量子限域引起的 1.5— 2eV的吸收边蓝移 .室温光致荧光 (PL)光谱显示了电子重空穴激子与电子劈裂空穴激子的近紫外和紫外双PL谱峰以及深俘获态的PL谱峰 .对实验吸收边蓝移量与有效质量模型的蓝移量的悬殊差别、俘获态PL谱的形成以及PL谱线的特征作了解释 .应用激光Z扫描技术测量了退火温度为 5 0 0℃的复合膜在非共振条件下的光学非线性 ,结果表明 ,复合膜的非线性折射率系数和非线性吸收系数都比块材GaAs相应的系数增大了 5个数量级 .

关键词：射频磁控共溅射 GaAs/SiO2 纳米颗粒镶嵌薄膜光谱激光Z扫描光学性质砷化镓二氧化硅半导体纳米材料

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直流/射频反应磁控溅射法制备W掺杂VO_X薄膜的工艺和性能

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真空 2011年第4期48卷 65-68页

作者：聂竹华李合琴都智储汉奇宋泽润合肥工业大学材料科学与工程学院安徽合肥230009 中国电子科技集团公司第43研究所安徽合肥230022

用直流/射频反应磁控共溅射法分别在玻璃和单晶硅片基底上制备VOX薄膜和W掺杂VOX薄膜,经退火后,对薄膜进行电阻-温度特性、XRD、表面形貌等测试。结果表明:当溅射气压为1.5 Pa、氧氩比为0.8:25 sccm、V靶采用100 W直流电源、W靶10 W射... 详细信息

用直流/射频反应磁控共溅射法分别在玻璃和单晶硅片基底上制备VOX薄膜和W掺杂VOX薄膜,经退火后,对薄膜进行电阻-温度特性、XRD、表面形貌等测试。结果表明:当溅射气压为1.5 Pa、氧氩比为0.8:25 sccm、V靶采用100 W直流电源、W靶10 W射频电源共溅射制备的W掺杂VOX薄膜,经Ar气氛中450℃退火2 h后,薄膜相变温度由未掺杂时的68℃降低到40℃左右。XRD衍射结果表明部分W原子进入了VOX晶格;另外单晶硅片上制备的VOX薄膜的电阻温度系数和电阻值均大于玻璃基片上制备的薄膜。

关键词：直流射频磁控共溅射 VOx薄膜 W掺杂相变温度基底

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射频磁控溅射法制备Ag-WO3复合薄膜及电致变色性能的研究

射频磁控溅射法制备Ag-WO3复合薄膜及电致变色性能的研究

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作者：汪小小安徽大学

学位级别：硕士

W03薄膜是发现最早,研究最为深入的无机电致变色（Electrochromism）材料,在智能窗、显示器件、太阳能电池等领域具有非常好的应用前景。为了能够应用于实际,需要进一步提高其电致变色性能。因此,提高W03薄膜的调光性,延长循环寿命,缩... 详细信息

W03薄膜是发现最早,研究最为深入的无机电致变色（Electrochromism）材料,在智能窗、显示器件、太阳能电池等领域具有非常好的应用前景。为了能够应用于实际,需要进一步提高其电致变色性能。因此,提高W03薄膜的调光性,延长循环寿命,缩短响应时间,制备电致变色性能优异的W03薄膜,已成为光化学、材料科学等领域的前沿研究课题。本论文采用射频磁控共溅射法分别在Si片、ITO玻璃基底上制备一系列不同Ag组分含量（3.0-12.0Vo1.%）的Ag-WO3颗粒复合薄膜,同时沉积纯W03薄膜作为对比。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）, X射线光电子能谱仪（XPS）、紫外可见分光光度计（UV-Vis）、椭圆偏振光谱仪（SE）、电化学工作站等测试仪器分别对所制备薄膜的微结构、表面形貌、组分、光学性能及电致变色等性能进行表征,研究Ag组分含量与溅射时间对薄膜的微结构、表面形貌、组分、光学性能与电致变色性能的影响。结果表明：室温下沉积的薄膜均无定形态,当金属Ag镶嵌于W03基中,结构由四方相结构转变为单斜相,并且随着Ag组分含量的增加,复合薄膜的生长择优取向发生改变,薄膜中的Ag组分主要以Ag单质的形式存在。随着Ag含量的增加,薄膜变色所需的电压下降,响应时间减少,薄膜电极的反应速度提高,该结果归因于复合薄膜的载流子浓度随Ag含量的增大而增多。然而,薄膜的循环性能随着Ag含量的增加而下降,这主要是由于在氧化还原过程中复合薄膜中的Ag组分与注入薄膜中的Li+离子发生相互作用,阻碍了Li+离子从着色后的薄膜中抽出,使得薄膜的褪色性能下降。为了提高Ag-WO3复合薄膜的循环性能,在不同的溅射时间下制备6.0Vol.%Ag-WO3薄膜,研究溅射时间对该复合薄膜电致变色性能的影响。分析结果表明,在不同的溅射时间下制备的复合薄膜均为单斜相结构,并沿着晶面指数（110）方向择优生长,在溅射时间为30min的条件下,复合薄膜的循环性能明显提高,并且薄膜的调光度达到46.3%,响应时间为3.5s,这是由于该条件下制备的薄膜表面疏松多孔,有利于Li+离子的注入/抽出,从而实现良好的变色可逆性。本文的创新点： ①首次采用射频磁控共溅射法将金属Ag镶嵌在w03基中,研究Ag-WO3颗粒复合薄膜的电致变色性能。 ②通过研究溅射时间对复合薄膜微结构、表面形貌及电致变色性能的影响,获得了最佳的溅射时间,提高了复合薄膜的循环性能。 ③通过对纯w03薄膜与Ag-WO3复合薄膜的电致变色性能的研究,可以推断复合薄膜中Ag颗粒与注入的Li+离子发生相互作用,为探讨薄膜的电致变色机理提供了实验依据。

关键词：射频磁控共溅射 Ag-WO3复合薄膜电致变色响应时间

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