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  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 1 篇 直流电解沉积
  • 1 篇 添加剂
  • 1 篇 纳米孪晶cu
  • 1 篇 孪晶片层尺寸

机构

  • 1 篇 中国科学院金属研...

作者

  • 1 篇 程钊
  • 1 篇 金帅
  • 1 篇 卢磊
  • 1 篇 潘庆松

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=孪晶片层尺寸"
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添加剂浓度对直流电解沉积纳米孪晶Cu微观结构的影响
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金属学报 2016年 第8期52卷 973-979页
作者： 金帅 程钊 潘庆松 卢磊 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室 沈阳110016
采用直流电解沉积技术制备出具有高密度择优取向的纳米孪晶结构块体纯Cu样品.利用XRD,SEM和TEM等手段研究了添加剂浓度对其微观结构的影响.结果表明,样品由沿沉积方向生长的微米尺寸柱状晶粒构成,晶粒内含有高密度孪晶界,且大部分孪晶... 详细信息
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