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日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 低温外延
  • 1 篇 无hcl抛光
  • 1 篇 超高阻
  • 1 篇 多次本征工艺
  • 1 篇 电阻率不均匀性
  • 1 篇 硅外延片

机构

  • 1 篇 河北省硅基外延材...
  • 1 篇 河北普兴电子科技...

作者

  • 1 篇 米姣
  • 1 篇 薛宏伟
  • 1 篇 张志勤
  • 1 篇 王刚
  • 1 篇 袁肇耿

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=多次本征工艺"
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重掺As衬底上超高阻薄层硅外延片的制备
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半导体技术 2020年 第3期45卷 200-205页
作者： 薛宏伟 米姣 袁肇耿 王刚 张志勤 河北普兴电子科技股份有限公司 石家庄050200 河北省硅基外延材料工程技术研究中心 石家庄050200
超高阻薄层硅外延片可用于制备光电探测器的二极管、瞬态电压抑制二极管等分立器件。利用E200型单片外延炉在直径为150 mm的重掺As硅单晶衬底上制备了参数可控且均匀性高的外延层。采用多次本征生长技术,在重掺As硅衬底边缘形成掺杂原... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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