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混合焙烧法制备多孔氧化硅

矿冶工程 2019年第4期39卷 128-130,135页

作者：罗清威陕西理工大学矿渣综合利用环保技术国家与地方联合工程实验室

为了缓解石棉工业废渣的排放压力,实现石棉尾矿的资源化利用,以陕南石棉尾矿为原料,采用混合焙烧法制备了多孔氧化硅材料,并采用XRD、SEM、BET等对其结构、形貌、比表面积及性能进行了表征。结果表明:500℃下混合焙烧2 h制备的多孔氧化... 详细信息

为了缓解石棉工业废渣的排放压力,实现石棉尾矿的资源化利用,以陕南石棉尾矿为原料,采用混合焙烧法制备了多孔氧化硅材料,并采用XRD、SEM、BET等对其结构、形貌、比表面积及性能进行了表征。结果表明:500℃下混合焙烧2 h制备的多孔氧化硅结晶状况较好,多孔性良好,比表面积为40.23 m^2/g,适合用于工业有机废水的处理。在中性环境下,废水中罗丹明B浓度为25 mg/L、吸附时间30 min时多孔氧化硅对罗丹明B的吸附率最大。

关键词：石棉尾矿混合焙烧法多孔氧化硅

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高环境稳定性多孔氧化硅减反膜的制备及表征

科技导报 2015年第9期33卷 31-34页

作者：孙菁华丁瑞敏张聪张策徐耀中国科学院山西煤炭化学研究所炭材料重点实验室太原030001 中国科学院大学北京100049

以正硅酸乙酯为硅源,氨水为催化剂,采用溶胶凝胶法,经过提拉过程制备了多孔氧化硅光学减反膜,通过后嫁接十七氟癸基三乙氧基硅烷(FAS-17)和六甲基二硅氮烷(HMDS)提高薄膜的环境稳定性。采用紫外可见光谱仪、红外光谱仪、原子力显微镜和... 详细信息

以正硅酸乙酯为硅源,氨水为催化剂,采用溶胶凝胶法,经过提拉过程制备了多孔氧化硅光学减反膜,通过后嫁接十七氟癸基三乙氧基硅烷(FAS-17)和六甲基二硅氮烷(HMDS)提高薄膜的环境稳定性。采用紫外可见光谱仪、红外光谱仪、原子力显微镜和接触角仪等测试技术及抗污染实验分析了薄膜的性能。结果表明,改性后的薄膜光学透射率高达99.82%,表面粗糙度为3.9 nm,薄膜与水接触角达125°,在10^(-3)Pa真空环境下污染2个月后透射率仅降低0.03%,说明薄膜具有很高的环境稳定性。

关键词：溶胶凝胶法多孔氧化硅减反膜环境稳定性十七氟癸基三乙氧基硅烷六甲基二硅氮烷

基于UAFM纳米多孔氧化硅薄膜的制备及弹性模量的检测

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基于UAFM纳米多孔氧化硅薄膜的制备及弹性模量的检测

作者：王灿北京印刷学院

学位级别：硕士

随着大规模集成电路向高密度、高速方面的发展,器件的特征尺寸已减小至纳米尺寸,这必然要求电子元器件和微型集成电路中有较低介电常数(衡量绝缘体储存电能的性能)的绝缘介质薄膜来降低线间串扰和功耗等。纳米多孔氧化硅具有低介电常数... 详细信息

随着大规模集成电路向高密度、高速方面的发展,器件的特征尺寸已减小至纳米尺寸,这必然要求电子元器件和微型集成电路中有较低介电常数(衡量绝缘体储存电能的性能)的绝缘介质薄膜来降低线间串扰和功耗等。纳米多孔氧化硅具有低介电常数、热稳定性好、力学强度高、尺寸稳定以及与集成电路工艺兼容性好等优点,所以纳米多孔氧化硅薄膜正适合应用在这种微电子工艺中。本文中采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体,并通入氧气、氩气,再加入少量的有机物质,通过辉光放电的方式形成等离子体,从而在玻璃基材表面沉积制备出氧化硅薄膜,再在高温下进行热处理,使氧化硅薄膜中的碳氢键等有机组分被除去,形成空隙,从而降低其介电常数;同时,采用超声原子力系统(UAFM)对氧化硅薄膜的弹性模量进行无损检测。主要研究工作如下:(1)通过改变单体与氧气的比例、沉积时间、沉积功率等实验条件,制备出不同介电常数的纳米多孔氧化硅薄膜,再对制备出的氧化硅薄膜在进行热处理,最终制备出K多孔氧化硅薄膜。(2)利用UAFM系统测试悬臂梁、参考试样、试验样品的谐振频率,并结合悬臂梁接触刚度模型的特征方程,利用MATLAB软件计算参考试样和实验样品的接触刚度,最后利用参考法计算出被测试样的弹性模量,实现对氧化硅薄膜弹性模量的无损检测。

关键词： PECVD 介电常数多孔氧化硅薄膜 UAFM 参考法弹性模量

应用于中红外波段的多孔氧化硅一维光子晶体研究

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应用于中红外波段的多孔氧化硅一维光子晶体研究

作者：王哲津华东师范大学

学位级别：硕士

衬底的绝热结构和红外辐射的阻断方式构成了影响非制冷红外焦平面探测器阵列的分辨率和探测率等性能提高的主要因素,本论文探索利用阳极氧化方法构建多孔硅一维多层结构,采用快速热氧化,使孔度高的部分完全氧化而孔度低的部分不完全氧化... 详细信息

衬底的绝热结构和红外辐射的阻断方式构成了影响非制冷红外焦平面探测器阵列的分辨率和探测率等性能提高的主要因素,本论文探索利用阳极氧化方法构建多孔硅一维多层结构,采用快速热氧化,使孔度高的部分完全氧化而孔度低的部分不完全氧化,由此两部分构成光子带隙在红外波段的部分氧化了的多孔硅光子晶体材料,并利用这种材料作为制作非制冷红外焦平面探测器阵列的衬底。研究内容还包括不同氧化条件对不同孔度多孔硅的光学性质的影响,以及根据单层氧化了的多孔硅光学性质对光子晶体材料的设计,鉴于多孔氧化硅材料本身具有绝热特性,因此它既能对特定红外波段的辐射实现阻断,又具有隔热特性,是一种理想的衬底材料。论文第一章对光子晶体和非制冷红外热释电探测器的概念进行了扼要的阐述,介绍了目前基于多孔硅的一维光子晶体的发展现状以及存在的主要问题,由此引出本论文的主要研究内容。论文第二章主要论述了多孔氧化硅一维光子晶体的制备方法。探讨了电流密度、电解液、氧化时间等因素对氧化后结构的影响,并找出了最佳氧化时间。论文第三章根据得到的最佳氧化条件,采用传输矩阵的方法对中红外波段的一维光子晶体进行设计,并对其光学结构参数进行了讨论,如:周期数、折射率之比和中心波长等。接下来对多孔硅多层膜及部分氧化的多孔硅多层膜的红外反射谱进行了研究。文中分析了氧化前后的反射谱的移动变化及与MATLAB拟合的结果对比,分析了形成光子带隙的条件。论文第四章从实验验证了多孔氧化硅一维光子晶体。采用扫描电子显微镜、傅立叶变换红外分析仪及喇曼散射谱对多孔氧化硅一维光子晶体进行了定量和定性的分析。论文第五章对远红外至可见光波段的反射镜进行了初步探讨。最后,对全文工作进行了总结。

关键词：光子晶体热释电探测器布拉格反射镜多孔硅多孔氧化硅孔度折射率阳极氧化快速热氧化红外反射谱喇曼谱

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多孔氧化硅微流控DNA提取芯片的研制

多孔氧化硅微流控DNA提取芯片的研制

表面改性多孔氧化硅减反射膜的制备及其性能分析

第三届全国微全分析系统学术会议

作者：陈兴崔大付刘长春苏波王海宁中国科学院电子学研究所传感技术国家重点实验室中国科学院电子学研究所传感技术国家重点实验室中国科学院电子学研究所传感技术国家重点实验室中国科学院电子学研究所传感技术国家重点实验室中国科学院电子学研究所传感技术国家重点实验室

基于固相萃取原理,采用多孔氧化硅作为提取DNA的固相载体,利用微机械加工（MEMS）技术研制一种多孔氧化硅微流控DNA提取芯片,并优化制备工艺。在多孔氧化硅芯片和普通芯片[4] 上进行DNA提取实验,结果表明多孔氧化硅芯片提取DNA的效率更高。

关键词：多孔氧化硅微流控DNA提取芯片固相萃取 MEMS

来源： cnki会议评论

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山西化工 2024年第9期44卷 11-13页

作者：王逸翔肖志葳贾红宝张子潮朱世海辽宁科技大学理学院辽宁鞍山114051

采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯为前驱体,盐酸为催化剂,三嵌段共聚物F127为模板剂成功制备SiO_(2)溶胶。采用提拉法在石英基底上镀制SiO_(2)光学减反膜,通过后嫁接1H,1H,2H,2H-全氟癸基三乙氧基硅烷对薄膜表面进行改性,提高薄膜的环境稳... 详细信息

采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯为前驱体,盐酸为催化剂,三嵌段共聚物F127为模板剂成功制备SiO_(2)溶胶。采用提拉法在石英基底上镀制SiO_(2)光学减反膜,通过后嫁接1H,1H,2H,2H-全氟癸基三乙氧基硅烷对薄膜表面进行改性,提高薄膜的环境稳定性。采用紫外-可见-近红外光谱仪、接触角测量仪及环境稳定性实验分析薄膜的光学性能和耐用性。结果表明,经改性后的薄膜在中心波长1600 nm的透射率达到99.3%,薄膜的水接触角达93°,在80%相对湿度和40℃的环境下放置7 d后透射率仅下降0.5%,接触角仅下降1.75°,说明薄膜有良好的环境稳定性。

关键词：溶胶-凝胶法表面改性多孔氧化硅减反射膜环境稳定性

PT/P(VDF-TrFE)/多孔氧化硅衬底热释电传感器研制

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功能材料与器件学报 1998年第1期4卷 19-23页

作者：李金华李坤陈燕陈王丽华蔡忠龙江苏石油化工学院功能材料实验室香港理工大学应用物理系及材料研究中心

用电化学方法制备多孔化率约６９％的多孔硅，在湿氧中氧化成多孔氧化硅，作热释电传感器的衬底。将用溶胶凝胶法制备的钛酸铅（ＰＴ）纳米粉粒掺入聚偏氟乙烯／三氟乙烯共聚物中形成ＰＴ／Ｐ（ＶＤＦＴｒＦＥ）热释电复合敏感膜。... 详细信息

用电化学方法制备多孔化率约６９％的多孔硅，在湿氧中氧化成多孔氧化硅，作热释电传感器的衬底。将用溶胶凝胶法制备的钛酸铅（ＰＴ）纳米粉粒掺入聚偏氟乙烯／三氟乙烯共聚物中形成ＰＴ／Ｐ（ＶＤＦＴｒＦＥ）热释电复合敏感膜。ＰＴ粉粒的掺入体积比为０１２时，与成膜条件相同的Ｐ（ＶＤＦＴｒＦＥ）膜相比，热释电优值提高２０％，探测优值提高３５％。多孔氧化硅结构降低了衬底的热导率和元件热容，使多孔硅衬底传感器的电流灵敏度比结构相同的体硅衬底传感器样品高约２倍。

关键词：热释电传感器多孔氧化硅共聚物复合材料

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利用石棉尾矿制备多孔氧化硅及其性能研究

科技创新与应用 2019年第3期9卷 45-47页

作者：郭鹏程刘瑩屈国雄王宇航徐文博罗清威陕西理工大学材料科学与工程学院陕西汉中723001

多孔氧化硅是一维纳米材料,在国民经济及高科技领域具有重要用途。石棉尾矿是石棉开采过程中产生的矿渣,石棉尾矿的大量堆积占据土地,使周围的生态环境恶化。实验以石棉尾矿为原料,采用混合焙烧法制备多孔氧化硅材料,并对其吸附性能进... 详细信息

多孔氧化硅是一维纳米材料,在国民经济及高科技领域具有重要用途。石棉尾矿是石棉开采过程中产生的矿渣,石棉尾矿的大量堆积占据土地,使周围的生态环境恶化。实验以石棉尾矿为原料,采用混合焙烧法制备多孔氧化硅材料,并对其吸附性能进行系统的研究。结果表明:混合焙烧法制备多孔氧化硅结晶状况较好,在C罗丹明B=25mg/L、pH=8条件下吸附50min时多孔氧化硅对罗丹明B的吸附率最大。

关键词：多孔氧化硅石棉尾矿混合焙烧法吸附性能

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低介电常数纳米多孔氧化硅薄膜的制备及表征

低介电常数纳米多孔氧化硅薄膜的制备及表征