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西北建筑工程学院学报（自然科学版） 1996年第1期13卷 72-76页

作者：韩新普王明军太良贫西安建筑科技大学

介绍用Ｃ语言程序实现ＡｕｔｏＣＡＤ中图形尺寸自动标注的方法。阐述了图形尺寸标注Ｃ语言子函数的分类及功能。

关键词：图形处理 C语言 CAD 图形尺寸自动标注

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利用激光实时检测大量规则图形尺寸的平均值

激光杂志 1986年第4期7卷 199-204页

作者：王向军叶岗冯克猷叶声华天津大学精仪系

本文主要论述利用激光对大量规则图形尺寸的平均值进行实时检测的基本原理和实际测量系统。给出了较为详细的理论推导和所有的测量公式。该测量系统具有测量速度快,检测精度高、劳动强度低和数据处理自动化等特点。它可对被测物体进行... 详细信息

本文主要论述利用激光对大量规则图形尺寸的平均值进行实时检测的基本原理和实际测量系统。给出了较为详细的理论推导和所有的测量公式。该测量系统具有测量速度快,检测精度高、劳动强度低和数据处理自动化等特点。它可对被测物体进行连续采样或全扫描。该系统是由付里叶光学系统、光电转换及信号修正部份、数据采集及处理系统组成。此系统也能应用于其它类似的领域。

关键词：图形尺寸实时检测平均值量规激光测量系统测量公式理论推导测量速度检测精度

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CAD中的图形尺寸自动修改

计算机辅助工程 1992年第3期1卷 77-80页

作者：陈东帆王荣航上海工业大学机器人研究所

国內外二维图形系统只能对图形作逐线段的修改,如果只修改一个线段,势必影响其它线段的位置,往往会导致图形的重新绘制,不易显示出CAD系统的优越性。本文应用尺寸回路原理,使图形上某个尺寸修改以后,其它相关尺寸就自动跟着修改,仍旧保... 详细信息

国內外二维图形系统只能对图形作逐线段的修改,如果只修改一个线段,势必影响其它线段的位置,往往会导致图形的重新绘制,不易显示出CAD系统的优越性。本文应用尺寸回路原理,使图形上某个尺寸修改以后,其它相关尺寸就自动跟着修改,仍旧保持原来的几何形状, 大大地节省了设计绘图的时间。本文建立了尺寸和图形之间双向交互关系,从一个新的角度初步解决了几何图形的精确定位的问题。

关键词：图形尺寸 CAD 设计绘图二维图形几何形状尺寸标注图形的定位问题标注尺寸机械零件

大量规则图形尺寸激光在线检测中数据处理方法的研究

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量子电子学报 1991年第1期 19-19页

作者：张广军叶声军王向军刘书桂天津大学精密仪器工程系天津大学精密仪器工程系 300072

随着现代激光技术、近代光学和光电子工程中的CCD技术等多学科相结合的迅速发展,在几何测量中,特别是对大量规则图形尺寸平均值的检测中,采用激光—傅里叶频谱分析技术已经具有相当重要的地位。而在检

关键词：数据处理方法主极大傅里叶频谱干涉谱图形尺寸激光

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一种有效监控制版图形尺寸的方法

半导体技术 1987年第4期 43-43页

作者：范江长沙市晶体管厂制版组

在绘制原图时于靠近划片槽位置外加一组四条等间距的小条,其中条宽和间距同为该套版最小线宽(我们曾取5μ或10μ两种),条长为100μ或150μ.由于在版图上增加了这一组监控图形,因此在每次工序后于版图上就留下了这组监控图形.在制版中只... 详细信息

在绘制原图时于靠近划片槽位置外加一组四条等间距的小条,其中条宽和间距同为该套版最小线宽(我们曾取5μ或10μ两种),条长为100μ或150μ.由于在版图上增加了这一组监控图形,因此在每次工序后于版图上就留下了这组监控图形.在制版中只要控制好初缩时的缩小倍率,通过显微镜监控小条与间距宽度之比,就可以很快发现图形尺寸是扩大了,还是缩小了.对正阳版来说,前者表

关键词：图形尺寸小条

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微细图形的微小尺寸测量

压电与声光 1979年第1期 73-75页

作者：中沢喜和雄,龙自强日本光学

本文叙述关于用光学法自动测量集成电路和大规模集成电路用的掩模或基片上所形成的微细图形尺寸的方法.图1是利用放大的光学象测量掩模图形线宽方法之一例.掩模置于可沿x-y方向定位的工件台上,由透射光照明,要测的图形,经过显微镜光学... 详细信息

本文叙述关于用光学法自动测量集成电路和大规模集成电路用的掩模或基片上所形成的微细图形尺寸的方法.图1是利用放大的光学象测量掩模图形线宽方法之一例.掩模置于可沿x-y方向定位的工件台上,由透射光照明,要测的图形,经过显微镜光学系统放大成象,在成象面上,沿着图形线宽的测量方向放

关键词：微小尺寸测量微细图形图形的光学系统显微镜光斑激光束片上实验设备莱塞光束图形尺寸掩模图狭缝扫描图象

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分辨率纵横谈

照相机 2000年第3期 9-10+12页

作者：谢永忠

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金属门窗参数化设计的一种新方法

重庆建筑大学学报 2001年第4期23卷 36-39页

作者：宋豫川阎春平刘飞刘万奇重庆大学机械工程学院制造工程研究所重庆400044

针对金属门窗设计的图形特点 ,在研究图形尺寸约束问题基础上 ,提出了一种通过表达式求解来实现门窗参数化设计的新方法 ,该方法将图素的各种约束转换成表达图素大小和位置的参数表达式 ,通过表达式的求解实现图形的参数驱动 ,使图形的... 详细信息

针对金属门窗设计的图形特点 ,在研究图形尺寸约束问题基础上 ,提出了一种通过表达式求解来实现门窗参数化设计的新方法 ,该方法将图素的各种约束转换成表达图素大小和位置的参数表达式 ,通过表达式的求解实现图形的参数驱动 ,使图形的参数化简单、快速。

关键词：建筑金属结构门窗设计图形尺寸

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关于图式造型及如何正确运用问题

测绘通报 1964年第2期 20-25页

作者：肖玺明

在测绘工作中，地形图图式是不可缺少的法规。因此，图式内容的精粗繁简合理与否，都将影响到测绘工作的工效。对于地图的使用价值来说，图式也起着极其重要的作用。因为图式是地图的表达形式，不但要表达得正确美观清晰悦目，而且要具... 详细信息

在测绘工作中，地形图图式是不可缺少的法规。因此，图式内容的精粗繁简合理与否，都将影响到测绘工作的工效。对于地图的使用价值来说，图式也起着极其重要的作用。因为图式是地图的表达形式，不但要表达得正确美观清晰悦目，而且要具有高度的易读性，使看图的人能够一目了然，有如置身其境！

关键词：图式地图正确运用测绘工作符号图形尺寸造型

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微细加工技术与高密度器件

压电与声光 1978年第4期 63-69页

作者：堀内重治罗小春

微细加工技术与高密度器件是超大规模集成电路的两大支柱。微型加工技术大致分为:在抗蚀剂上形成图形的光刻,光刻用的抗蚀剂材料和曝光技术与在抗蚀剂面形上刻蚀掉基片和作为掩膜、薄膜的腐蚀技术。为了提高性能和降低成本,每年元件以... 详细信息

微细加工技术与高密度器件是超大规模集成电路的两大支柱。微型加工技术大致分为:在抗蚀剂上形成图形的光刻,光刻用的抗蚀剂材料和曝光技术与在抗蚀剂面形上刻蚀掉基片和作为掩膜、薄膜的腐蚀技术。为了提高性能和降低成本,每年元件以大约两倍的趋势向高密度化和大容量化发展。图1表示根据,スライツク公司调查的研究水平和商品水平使用的图形尺寸,和每个片子的元件数的过去实况与将来的预测。到一九八〇年,将达到0.6微米1 M比特位的研究水平和3微米16K比特位的商品水平。

关键词：刻蚀蚀刻水蚀器件掩膜微细加工技术集成电路工艺抗蚀剂随机存取存贮器随机存贮器基片衬底图形尺寸高密度