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基于工业以太网的MOCVD反应腔压力控制

电子工业专用设备 2010年第4期39卷 36-38页

作者：常依斌上海蓝宝光电材料有限公司上海201616

介绍了一种新型MOCVD反应腔压力控制系统,采用MKS最新蝶阀T3BI,其内部集成了压力控制器,并且带有压力传感器接口。反应腔内目标压力由主控PC通过工业以太网ProfiNet发送到蝶阀,接下来压力控制子系统即可完成整个压力控制过程。

关键词： MOCVD 反应腔 ProfiNet 压力控制

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用于一个外延反应器的反应腔

表面技术 2002年第5期31卷 71-71页

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一种环形波导微波等离子体装置

高电压技术 2009年第1期35卷 48-53页

作者：冯剑张贵新刘亮王淑敏张庆清华大学电机工程与应用电子技术系北京100084 河北省石家庄市供电公司石家庄050021 华北电力科学研究院北京100045

微波等离子体可以通过无极放电方式产生,相对其它放电方式而言,容易在高气压下维持较高容量,有较好的工业应用价值,但目前在较高气压下使用的微波等离子体装置还不成熟。为此,介绍了一种新型的微波等离子体反应腔,包括该腔体的结构和设... 详细信息

微波等离子体可以通过无极放电方式产生,相对其它放电方式而言,容易在高气压下维持较高容量,有较好的工业应用价值,但目前在较高气压下使用的微波等离子体装置还不成熟。为此,介绍了一种新型的微波等离子体反应腔,包括该腔体的结构和设计原理,并将其与现有的纯狭缝式微波反应腔作了比较,以说明两缝结合腔体的优点;通过引入喷气电离管前后微波激发所需要的能量变化以说明电离管的作用:它利用环形波导的狭缝天线和大缝向腔内传输微波以激发和维持等离子体,这种两缝结合的形式使反应腔内高场强区域扩大,有助于大面积等离子体的产生;同时,该腔体还配套有一喷气电离管,通过其产生的电离流的作用,有效降低了微波激发等离子体所需的能量。通过摄像头观察到的实验现象表明,在大气压下其产生的等离子体是相对均匀的,且覆盖面积大,可有效的应用于工业中。

关键词：微波等离子体环形波导大气压电离管反应腔

行星式化学气相沉积反应器内对流涡旋的数值模拟

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工程热物理学报 2005年第4期26卷 671-673页

作者：左然张红刘祥林江苏大学能源与动力工程学院江苏镇江212013 中国科学院半导体研究所北京100080

针对三重进口行星式CVD反应器的输运过程进行了二维数值模拟研究。通过改变反应腔几何尺寸、导流管位置、三重进口流量组合、压强、温度等条件,研究反应器内对流涡旋的相应变化。根据模拟结果,对这类反应器中输运现象与外部参数的关系,... 详细信息

针对三重进口行星式CVD反应器的输运过程进行了二维数值模拟研究。通过改变反应腔几何尺寸、导流管位置、三重进口流量组合、压强、温度等条件,研究反应器内对流涡旋的相应变化。根据模拟结果,对这类反应器中输运现象与外部参数的关系,特别是反应腔内对流涡旋的产生和发展作了较全面的分析和讨论,给出了抑制对流涡旋、获得薄膜生长所需的最佳输运过程的条件。

关键词：反应器化学气相沉积行星式涡旋对流数值模拟研究输运过程几何尺寸模拟结果外部参数输运现象薄膜生长 CVD 反应腔进口组合

高世代TFT-LCD产线制备非晶硅膜过程中的微粒改善方法研究

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高世代TFT-LCD产线制备非晶硅膜过程中的微粒改善方法研究

作者：胡绍君华南理工大学

学位级别：硕士

薄膜晶体管液晶显示(thin film transistor liquid crystal display,简称TFT-LCD)是一种微电子技术与液晶显示技术相结合的产物,被广泛应用在笔记本电脑、平板电脑、车载显示、电视、手机、手表等日常电子用品的生产制作上。等离子体增... 详细信息

薄膜晶体管液晶显示(thin film transistor liquid crystal display,简称TFT-LCD)是一种微电子技术与液晶显示技术相结合的产物,被广泛应用在笔记本电脑、平板电脑、车载显示、电视、手机、手表等日常电子用品的生产制作上。等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapor deposition,简称PECVD)是一种化学气相成膜技术,因其反应温度低、成膜速率快、成膜均匀性好,被广泛应用于大规模工业生产,是TFT-LCD行业非晶硅成膜的主要方式。但使用PECVD技术制备非晶硅膜时,因成膜前清洗不佳、非晶硅膜粘附性不佳、高功率对反应腔轰击、硬件设计不佳等,容易产生微粒污染,导致TFT器件失效,对产品良率及可靠性影响极大。此外随着TFT-LCD技术的发展,产品品阶越来越高,TFT尺寸越来越小,导致非晶硅膜微粒对产品良率及可靠性影响进一步放大,如何改善非晶硅膜微粒已成为各TFT-LCD工厂重要的研究课题。本文通过从非晶硅膜成膜工艺、成膜设备、成膜工艺设备管理三个方向对非晶硅膜微粒改善进行研究,通过验证找到了改善非晶硅膜微粒的有效方法。工艺优化方向:(1)针对两团聚集微粒,研究发现成膜前处理工艺是导致两团聚集微粒的主要原因。成膜前NH/N处理时间缩短、处理功率降低可显著改善。(2)针对电弧放电微粒,研究发现高速绝缘膜(gate insulator high depositon rate,简称GH)成膜工艺是导致电弧放电微粒高发的主要原因。GH成膜功率降低、成膜压力升高、成膜功率提升速率降低可显著改善,此外腔室硬件也有一定影响。(3)针对首片基板微粒,研究发现清洁周期膜工艺是导致首片基板微粒的主要原因,此外上电极表面状况也有一定影响。反应腔清洁气体NF流量降低、清洁功率降低、增加反应腔阀门位置清洁、反应腔清洁后使用Ar或N进行吹扫、周期膜加厚、周期膜使用SiO/SiON/SiN叠层结构、上电极阳极膜粗糙度增加、反应腔停机后复机使用H等离子体对腔室进行处理均可有效改善。(4)针对小颗微粒,研究发现成膜前清洗工艺、成膜工艺、清洁周期膜工艺对小颗微粒均有重要影响。通过优化成膜前清洗工艺、成膜工艺绝缘膜(gate insulator,简称GI)膜质、成膜工艺GH成膜条件、反应腔清洁工艺、反应腔清洁周期膜周期均可有效改善。设备优化方向:(1)针对四周四角聚集微粒,研究发现装载腔抽气口、遮蔽框、遮蔽框支撑件是导致四周四角聚集微粒的主要原因。装载腔抽气速率降低、抽气口增加挡板搭配快慢抽分开控制、反应腔遮蔽框陶瓷材质改为铝材质、反应腔遮蔽框支撑件L型改为T型、遮蔽框支撑件分离式改为一体式均有改善效果。(2)针单侧聚集微粒,研究发现装载腔进出门及快门、反应腔闸门及接地片、成膜前清洗机毛刷及风刀是导致单侧聚集微粒的主要原因。装载腔进出门框架拆除、装载腔快门阻挡片面积增大、反应腔阀门采用减振设计、反应腔接地片铝基改为镍基或采用铝基沙漏型设计、清洗机毛刷单元去离子水二次水改为直水、清洗机风刀单元单风刀改为双风刀设计均可有效改善。(3)针对长条聚集微粒,研究发现反应腔下电极接地片、传送腔真空手臂垫片、成膜前清洗机毛刷是导致长条聚集微粒的主要原因。反应腔接地片固定螺丝帽阳极膜工艺硫酸法改为草酸法、反应腔下电极分体式改为一体式、传送腔真空手臂垫片固定式改为一体按压式、成膜前清洗机开启下毛刷清洗均可有效改善。工艺设备管理优化方向:非晶硅膜微粒增加研磨工艺、反应腔上电极增加微粒管控、反应腔背板增加光泽度管控、设备保养复机流程优化、设备环境管理优化等可有效改善。

关键词： TFT-LCD PECVD 非晶硅膜微粒聚集设备工艺反应腔

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太阳能裂解ZnO/Zn工质中热输运特性

太阳能裂解ZnO/Zn工质中热输运特性

作者：张慧媛哈尔滨工业大学

学位级别：硕士

随着社会经济的发展,人类对能源的需求量越来越大。面临传统化石燃料不断减少及由其造成的环境污染问题日益严重的现状,迫切需要我们发展环境友好型新能源。太阳能热化学制氢是以太阳能作为热源,通过化学反应制取氢气的过程。由于其成... 详细信息

随着社会经济的发展,人类对能源的需求量越来越大。面临传统化石燃料不断减少及由其造成的环境污染问题日益严重的现状,迫切需要我们发展环境友好型新能源。太阳能热化学制氢是以太阳能作为热源,通过化学反应制取氢气的过程。由于其成本较低、环境友好、循环效率较高等特点而具有极大的发展空间。本文对Zn O/Zn工质对的太阳能两步热化学循环水解制氢过程进行了研究。主要包括Zn O在太阳能反应腔内的高温分解过程及锌颗粒在水解反应腔内的水解反应两个过程。研究反应腔的热输运特性对提高反应腔内反应物的转化率,优化反应腔的设计及提高太阳能-化学能的转化率是非常重要的。本文借助CFD建立了耦合了导热、对流、辐射及化学反应的综合过程的太阳能反应腔的稳态热传输模型。利用该稳态热传输模型得到了太阳能热解Zn O/Zn制氢反应中稳态热输运特性及太阳能反应腔的运行参数及结构参数对Zn O转化率的影响规律。根据稳态热传输模型建立了太阳能反应腔的瞬态热传输模型。该瞬态热传输模型对其中的辐射传输模型进行了改进,包括将光谱的影响加入到辐射传输方程的求解中,考虑陶瓷壁面的发射率及Zn O颗粒吸收因子的光谱及温度特性。得到的反应腔温度比采用稳态热传输模型高,并且获得了太阳能热解Zn O反应中瞬态热输运特性。本文研究内容有助于进一步了解太阳能两步热化学循环制氢过程,为反应腔运行参数的选取及反应腔的优化设计提供参考,并为提高太阳能-化学能的转化效率的研究奠定基础。

关键词：太阳能热化学制氢热传输反应腔转化率

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大腔体合成金刚石技术和装备的历史性进展

磨料磨具通讯 2009年第12期 1-2页

作者：左宏森河南工业大学超硬材料磨料磨具工程系

我国是超硬材料大国却不是强国，同国际工业先进的国家相比，我国仍有一定的差距。主要表现在：合成设备吨位小，合成高压反应腔容积小，单次产量低，质量不稳定等。

关键词：合成金刚石大腔体历史装备技术超硬材料设备吨位反应腔

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金刚石合成腔体的特征及其术语问题

超硬材料与工程 2000年第3期 31-32页

作者：马金龙程真中国科学院长沙大地构造研究所

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高强度碳密封涂覆光纤

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