检索结果-南通市图书馆

维普期刊数据库博看期刊

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

基于双场力磁耦合的管道应力检测方法

沈阳工业大学学报 2024年

作者：田野陈海艳高富超丁融王国庆沈阳工业大学信息科学与工程学院国家管网集团西部管道有限责任公司科技信息服务中心

针对长输油气管道缺陷处应力难以定量化检测的问题，提出了一种基于双场力磁耦合的管道应力检测方法。该方法结合管道不同应力状态下J-A模型参数的变化情况，建立了磁应力检测模型；分别确定了不同弹性应力、塑性应变和不同外磁场对磁... 详细信息

针对长输油气管道缺陷处应力难以定量化检测的问题，提出了一种基于双场力磁耦合的管道应力检测方法。该方法结合管道不同应力状态下J-A模型参数的变化情况，建立了磁应力检测模型；分别确定了不同弹性应力、塑性应变和不同外磁场对磁化强度和磁信号特征的影响；引入比例系数建立了基于双磁场法的管道弹、塑性应力检测模型，并测量应力为10 kN-80 kN，外磁场为0 A/m-10 A/m的情况下钢条的磁信号作为实验验证。实验结果表明，提出的检测模型在应力较大的情况下与实验结果拥有较高的契合度。

关键词：双磁场力磁耦合长输油气管道磁化强度 J-A模型缺陷弹性应力塑性应变

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

双磁场调制磁齿轮电机磁场调制机理研究

南方农机 2023年第19期54卷 34-37页

作者：廖雪松徐英振包头长安永磁电机有限公司内蒙古包头014030 内蒙古自治区先进永磁电机及其控制技术企业重点实验室内蒙古包头014030

为有效解决双磁场调制磁齿轮电机高密度转矩和振动干扰的矛盾,课题组针对磁齿轮电机在双磁场调制过程中的工作机理进行了分析,采取有限元法研究了磁齿轮电机内、外转子和电枢绕组间的磁场耦合关系;并利用叠加定理,对双转子磁场模型化简... 详细信息

为有效解决双磁场调制磁齿轮电机高密度转矩和振动干扰的矛盾,课题组针对磁齿轮电机在双磁场调制过程中的工作机理进行了分析,采取有限元法研究了磁齿轮电机内、外转子和电枢绕组间的磁场耦合关系;并利用叠加定理,对双转子磁场模型化简,具体推导了反电动势特性。结果表明,电机内、外转子磁场相位差增大会导致反电动势有小幅下降。

关键词：双磁场磁齿轮电机调制机理

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

基于双磁场磁性复合流体的抛光性能

表面技术 2022年第11期51卷 360-372页

作者：王有良史小锋陈秀娟张文娟冯铭兰州理工大学兰州730050 温州大学浙江温州100083

目的针对微结构抛光过程中形貌精度损伤的问题,开发一种环状MCF(Magnetic Compound Fluid,MCF)抛光工具,探究在双磁场作用下MCF工具的抛光性能。方法采用工业相机观察不同条件下MCF抛光工具的成形特征,通过定量分析MCF抛光工具的成形参... 详细信息

目的针对微结构抛光过程中形貌精度损伤的问题,开发一种环状MCF(Magnetic Compound Fluid,MCF)抛光工具,探究在双磁场作用下MCF工具的抛光性能。方法采用工业相机观察不同条件下MCF抛光工具的成形特征,通过定量分析MCF抛光工具的成形参数,构建最优MCF抛光工具特征参数;通过分析双磁场作用下工件表面的磁场强度,建立磁场矢量模型,探究磁场分布与MCF宏观形貌的内在联系;观察磁簇微观形貌,分析MCF抛光工具的内部特征;试验研究MCF组分、磁铁转速n_(m)、载液板转速n_(c)和加工间隙Δ对工件表面粗糙度Ra的影响规律,探究最优的抛光参数。结果当磁铁偏心距r=2 mm,MCF供应量V=1.5 mL时,MCF抛光工具的成形特征相对最优,得到了MCF抛光工具的参数,a=28.70 mm,b=26.90 mm,c_(1)=1.58 mm,c_(2)=1.30 mm,d_(0)=48.60 mm,h=7.20 mm,d_(i)=26.50 mm;磁簇分布方向与磁场矢量方向一致,铁粉沿着磁力线方向分布,磨粒分布在铁粉外部,α–纤维穿插于磁簇内部或磁簇与磁簇之间;通过抛光试验获得了较低表面粗糙度的最佳工艺参数,最佳MCF组分配比(均以质量分数计)为羰基铁粉40%、磨粒12%、α–纤维3%、水基磁流体45%,最佳载液板转速n_(c)=300 r/min,最佳磁铁转速n_(m)=400 r/min,最佳加工间隙Δ=1 mm。结论在抛光20 min后,工件的表面粗糙度由0.578μm降至0.009μm,下降率约为98.44%,证明在双磁场作用下环状MCF抛光工具具有稳定且高效的抛光能力。

关键词：磁性复合流体双磁场抛光性能表面粗糙度磁场分布成形特征

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

双磁场IMPS粒子速度测试系统

实验力学 2000年第1期15卷 15-21页

作者：唐志平胡晓军廖香丽奉孝中中国科学技术大学合肥230026

动载下材料横向行为的直接实时测量 ,对于全面了解材料响应及其机理有重要意义 .本文介绍了自行研制的双磁场电磁IMPS粒子速度测试系统的工作原理、结构性能及初步实验结果 .该装置基于Faraday电磁感应定律 ,可实时测量多点斜碰撞产生... 详细信息

动载下材料横向行为的直接实时测量 ,对于全面了解材料响应及其机理有重要意义 .本文介绍了自行研制的双磁场电磁IMPS粒子速度测试系统的工作原理、结构性能及初步实验结果 .该装置基于Faraday电磁感应定律 ,可实时测量多点斜碰撞产生的纵向和横向质点速度波形 ,从而解决了压剪炮试验中的s波测量问题 .

关键词： IMPS 剪切行为材料双磁场粒子速度测试系统

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

基于磁性复合流体的微沟槽精密加工机理研究

基于磁性复合流体的微沟槽精密加工机理研究

作者：史小锋兰州理工大学

学位级别：硕士

近年来,以微沟槽为代表的微结构元件凭借尺寸小、重量轻且集成度高等优点,被广泛应用于光学领域,是现代光学工程中最重要的光学元器件。为了保证光学元器件的光学效率,需通过高精度的光学模具注塑成型制备。磁场辅助磁性复合流体(Magnet... 详细信息

近年来,以微沟槽为代表的微结构元件凭借尺寸小、重量轻且集成度高等优点,被广泛应用于光学领域,是现代光学工程中最重要的光学元器件。为了保证光学元器件的光学效率,需通过高精度的光学模具注塑成型制备。磁场辅助磁性复合流体(Magnetic Compound Fluid,MCF)抛光工艺是光学模具精密加工的重要方法。目前,MCF已成功对光学玻璃、无氧铜及不锈钢等平面结构材料实现超精密抛光,获得纳米级超光滑表面。采用传统MCF抛光工艺对微结构模具材料去除过程中发现微结构形貌恶化导致其表面形貌精度降低。因此,需开发一种新型MCF抛光方法,获得超光滑无表面缺陷的微结构模具表面。本文针对微结构模具抛光过程中形貌精度损伤的问题,开发了一种新型环状MCF抛光工具,探究在双磁场作用下MCF加工微沟槽的可行性。通过Ansys Maxwell仿真软件和高斯计对单、双环形永磁铁进行磁场模拟与试验测量,探寻单、双环形永磁铁的磁场分布规律;采用工业相机观察单、双磁场分别作用时MCF抛光工具的成形特征,定量分析MCF抛光工具的成形参数,探究最优MCF抛光工具特征参数;试验探究单、双磁场分别作用时MCF组分、磁铁转速n、载液板转速n和加工间隙Δ对工件表面粗糙度Ra的影响规律,对比分析抛光结果,得出MCF最优抛光参数;通过分析双磁场作用时工件表面的磁感应强度,建立磁场矢量模型,探究磁场分布与MCF宏观形貌的内在联系,同时观察磁簇微观形貌,分析双磁场MCF抛光工具的内部特征;计算并测量MCF抛光过程中的抛光力,对比分析MCF抛光PC板后最大材料去除深度的理论值与试验值,验证材料去除模型的可靠性;采用上述理论开展微沟槽抛光试验,探究双磁场MCF抛光工艺加工过程中的材料去除机理。主要试验结果如下:(1)当磁铁偏心距r=2 mm,MCF供应量V=1.5 m L时,双磁场MCF抛光工具的成形特征最优。(2)双磁场MCF抛光试验结果优于单磁场,且采用双磁场试验后获得较低表面粗糙度的最佳工艺参数为:MCF组分配比(均以质量分数计)为羰基铁粉40%、磨粒12%、α-纤维3%、水基磁流体45%,最佳载液板转速n=300 r/min,最佳磁铁转速n=400 r/min,最佳加工间隙Δ=1 mm;(3)双环形永磁铁作用下的MCF抛光工具,其磁簇分布方向与磁场矢量方向一致,铁粉沿着磁力线方向分布,磨粒分布在铁粉外部,α-纤维穿插于磁簇内部或磁簇与磁簇之间;(4)MCF抛光PC板后最大材料去除深度的试验值与理论值分别为22.61μm、22.49μm,相对误差为0.53%,证实了材料去除模型的准确性;(5)MCF对微沟槽抛光160 min后,进口处的表面质量优于出口处的表面质量,且抛光后的微沟槽具有高形貌精度,其中V型槽表面粗糙度由1.893μm降至0.869μm,下降率约为53.20%,相比于抛光前,进口处的形貌精度约为96.67%,出口处的形貌精度约为99.40%;U型槽表面粗糙度由1.899μm降至0.913μm,下降率约为51.92%,相比于抛光前,进口处的表面形貌精度约为97.43%,出口处的形貌精度约为99.80%。上述研究表明,使用双磁场MCF抛光工艺可以在低表面形貌精度损伤下,实现微沟槽的超光滑表面光整加工。

关键词：磁性复合流体双磁场抛光性能表面粗糙度材料去除机理

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

FeTaPt多层膜的磁粘滞研究

河北工程大学学报（自然科学版） 2011年第3期28卷 108-110页

作者：徐静河北工程大学理学院河北邯郸056038

在800℃基底温度下,以单晶硅为基底,采用磁控溅射法制备了FeTaPt多层膜。通过XRD检测样品为单相,利用VSM测量了样品在双磁场下的磁化强度与时间的关系,并且利用磁滞Preisach模型得到材料的拟和参数。结果表明:在样品矫顽力附近出现了磁... 详细信息

在800℃基底温度下,以单晶硅为基底,采用磁控溅射法制备了FeTaPt多层膜。通过XRD检测样品为单相,利用VSM测量了样品在双磁场下的磁化强度与时间的关系,并且利用磁滞Preisach模型得到材料的拟和参数。结果表明:在样品矫顽力附近出现了磁化强度随时间对数的线性变化,当磁场偏离矫顽力时,磁粘滞行为将偏离线性变化,这不仅与H1和H2有关,而且与H1、H2的差值有关,H1、H2差值越小,非线性衰减越明显。

关键词：多层膜磁粘滞双磁场