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  • 186 篇 中文
检索条件"主题词=去除函数"
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熔石英表面离子束抛光去除函数稳定性研究
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表面技术 2022年 第4期51卷 284-291页
作者: 吴鹏飞 王春阳 李晓静 赵仕燕 王大森 聂凤明 长春理工大学电子信息工程学院 长春130022 西安工业大学兵器科学与技术学院 西安710021 中国兵器科学研究院宁波分院 浙江宁波315103
目的检验熔石英光学元件表面离子束抛光过程中去除函数的稳定性。方法对离子束进行法拉第扫描来获取束流密度信息,构建离子束抛光去除函数模型。分析离子束流密度信息与去除函数模型,并通过实验研究束流密度信息与去除函数之间的关系,... 详细信息
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基于超高斯函数的球形抛光工具去除函数库建立方法
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激光与光电子学进展 2024年
作者: 徐梓榕 黄启泰 任建锋 苏州大学光电科学与工程学院 江苏省先进光学制造技术重点实验室
去除函数库是大量不同形状的去除函数所形成的集合,去除函数库的建立对数控抛光中去除函数的调用具有重要的作用。本文以柔性球形抛光头的去除函数为研究对象,建立以超高斯分布为主体的拟合模型并对数十组数据进行了最小二乘拟合,采... 详细信息
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机床与工件相对运动对去除函数形成稳定性的影响机制研究
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机械科学与技术 2022年 第3期41卷 439-444页
作者: 杨航 管瑞 黄文 何建国 遵义师范学院工学院 贵州遵义563006 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 四川绵阳621900
首先阐述机床与工件相对运动的去除机理以及对去除函数的稳定性进行表征,然后对工件在平面以不同速度做平动以及绕定点转动得到的去除函数稳定性进行研究,最后通过数值实验验证。得出结论:X方向速度导致去除函数不稳定;Y方向运动速度增... 详细信息
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离子束抛光去除函数的在位快速计算与抛光实验
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表面技术 2024年
作者: 张旭 王大森 夏超翔 郭海林 黄思玲 赵仕燕 聂凤明 中国兵器科学研究院宁波分院
目的 基于BP神经网络使用法拉第杯扫描离子束流实现离子束抛光去除函数的在位快速计算。方法 对于空间分布不同的离子束流,通过法拉第杯扫描方法获得电流密度分布信息,通过刻蚀实验计算去除函数分布信息,使用BP神经网络对电流密度和... 详细信息
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柔性抛光X/Y定位能力对去除函数创成影响机制
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机械设计与制造 2024年
作者: 杨航 汪朝友 张云飞 黄文 遵义师范学院工学院 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
柔性抛光机床各参数(如抛光液、磁场环境等)对去除函数创成偏差已经有所研究,但定位能力如何影响去除函数创成偏差的研究仍然缺乏。本文对于去除函数创成偏差如何受定位能力精度的影响做了以下研究。首先,定义了X/Y轴定位能力的分析... 详细信息
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尖边喷嘴磨料水射流特性分析及对去除函数轮廓的影响
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液压与气动 2023年 第9期47卷 116-129页
作者: 林琳 赵志磊 蒋东岑 张云朋 尤晖 广西大学机械工程学院 广西南宁530004 广西制造系统与先进制造技术重点实验室 广西南宁530004
磨料水射流抛光喷嘴的出口形状对射流特性及去除函数轮廓有重要影响,从而影响加工质量和效率。因此设计了圆形、三角形、方形、线形四种出口形状的喷嘴,通过数值模拟、射流微观及定点去除实验分析不同喷嘴的射流特性及对去除函数轮廓的... 详细信息
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圆柱曲面剪切增稠抛光材料去除函数仿真与实验研究
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表面技术 2019年 第10期48卷 355-362页
作者: 陈士豪 吕冰海 贺乾坤 杨易彬 邵琦 宋志龙 袁巨龙 浙江工业大学超精密加工研究中心
目的通过有限元仿真方法获得圆柱曲面周围压强场和速度场的分布,结合实验结果拟合得到修正系数,从而建立圆柱曲面剪切增稠抛光(STP)的材料去除函数。方法运用计算流体动力学仿真软件CFX,对圆柱曲面STP过程的抛光液流动进行仿真,通过对... 详细信息
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磁流变抛光去除函数空间滤波效能评价方法
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激光杂志 2022年 第7期43卷 169-173页
作者: 杨航 郑南燕 黄文 贾阳 遵义师范学院工学院 贵州遵义563006 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 四川绵阳621900 华中光电技术研究所武汉光电国家实验室 武汉430073
为了克服磁流变抛光过程中去除函数空间滤波性能处于黑箱的状态,提出了基于频谱分析的去除函数滤波效能评价方法。首先,针对磁流变抛光工艺控制过程,建立了磁流变抛光面形控制方程;进一步,建立了去除函数滤波效能评价方法。利用去除函... 详细信息
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复杂曲面磁流变加工去除函数理论建模及实验研究
复杂曲面磁流变加工去除函数理论建模及实验研究
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作者: 张永生 哈尔滨工业大学
学位级别:硕士
连续相位板(Continuous Phase Plate,CPP)和聚焦非球面透镜是激光惯性约束聚变系统中两个独立的组成元件,如果能够实现聚焦非球面透镜和连续相位板的功能融合,不仅可以降低激光系统的维护难度,还能简化光学元件的加工工艺流程。为此开... 详细信息
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光学元件气囊抛光系统动态去除函数建模
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机械工程学报 2013年 第17期49卷 19-25页
作者: 王春锦 郭隐彪 王振忠 潘日 谢银辉 厦门大学机电工程系 厦门361005
目前对于光学元件气囊抛光系统驻留时间的求解都是基于静态的去除函数,然而实际抛光过程中,抛光头不断地移动,故对于动态去除函数的研究显得尤为必要。通过有限元仿真分析的方法得到动静态接触区的轮廓和接触应力分布数据,发现对于平面... 详细信息
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