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文献类型

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日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 1 篇 表面钝化
  • 1 篇 氧化铝
  • 1 篇 反应离子刻蚀
  • 1 篇 去损伤
  • 1 篇 材料

机构

  • 1 篇 南京航空航天大学

作者

  • 1 篇 蒋晔
  • 1 篇 郑超凡
  • 1 篇 李玉芳
  • 1 篇 沈鸿烈
  • 1 篇 金磊
  • 1 篇 杨汪扬
  • 1 篇 杨楠楠

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=去损伤"
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反应离子刻蚀制备的多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究
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光学学报 2017年 第2期37卷 185-190页
作者： 金磊 李玉芳 沈鸿烈 蒋晔 杨汪扬 杨楠楠 郑超凡 南京航空航天大学材料科学与技术学院 江苏省能量转换材料与技术重点实验室江苏南京210016
结合SiO_2纳米球掩模和反应离子刻蚀技术制备了结构呈周期性排列的多晶黑硅,利用低浓度的NaOH溶液去除由荷能离子撞击所带来的损伤层,优化了多晶黑硅结构。在多晶黑硅上用原子层沉积技术沉积一层Al_2O_3薄膜,并对样品进行快速热退火处... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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