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    • 1 篇 电气工程
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 掩模优化
  • 1 篇 衍射
  • 1 篇 极紫外光刻
  • 1 篇 厚掩模模型

机构

  • 1 篇 中国科学院大学
  • 1 篇 中国科学院上海光...

作者

  • 1 篇 王向朝
  • 1 篇 成维
  • 1 篇 张子南
  • 1 篇 李思坤

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=厚掩模模型"
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极紫外光刻快速掩模优化方法
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光学学报 2022年 第13期42卷 25-34页
作者： 张子南 李思坤 王向朝 成维 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室 上海201800 中国科学院大学材料与光电研究中心 北京100049
提出了一种快速的极紫外光刻像素化掩模优化方法。优化过程中采用改进的像素化快速厚掩模模型,根据掩模像素尺寸设置边界像素上点脉冲的大小。以双重边界演化方法为基础,在每轮优化时,根据当前光刻胶轮廓与目标图形轮廓的差异自适应地... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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