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文献类型

  • 17 篇 期刊文献
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  • 19 篇 电子文献
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主题

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  • 1 篇 刀片服务器
  • 1 篇 ⅱ系列
  • 1 篇 ic
  • 1 篇 电压稳定

机构

  • 4 篇 南京电子器件研究...
  • 2 篇 河北机电学院
  • 1 篇 南昌航空工业学院
  • 1 篇 自动化系
  • 1 篇 河北科技大学
  • 1 篇 吉化仪表厂研究所

作者

  • 3 篇 李拂晓
  • 3 篇 沙占友
  • 3 篇 蒋幼泉
  • 3 篇 邵凯
  • 3 篇 钮利荣
  • 3 篇 杨乃彬
  • 2 篇 丘松有
  • 2 篇 高建峰
  • 2 篇 陈继义
  • 1 篇 徐中仓
  • 1 篇 李振强
  • 1 篇 王晓君
  • 1 篇 郑国川
  • 1 篇 马学军
  • 1 篇 卢永宁
  • 1 篇 李洪英
  • 1 篇 苏达义
  • 1 篇 林立强
  • 1 篇 林毅
  • 1 篇 吴红奎

语言

  • 19 篇 中文
检索条件"主题词=单片开关"
19 条 记 录,以下是1-10 订阅
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单片开关集成稳压器L4960
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基础自动化 1994年 第5期1卷 45-46,54页
作者: 李振强 吉化仪表厂研究所
本文介绍单片开关集成稳压器L4960的工作原理及其应用。它不仅具有使用外围元件少的特点,而且具有完善的保护电路。
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L296大电流单片开关稳压器的原理与应用
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电测与仪表 1991年 第10期28卷 29-32页
作者: 沙占友 河北机电学院电子工程系
L296是国际80年代中期研制的大电流单片开关集成稳压器,其输出电流为4A (可扩大到10A),最大输出功率为160W,输出电压在5.1~40V 间可调。本文给出L296电路框图,对过压保护电路、重置电路作了说明,给出了一个设计实例及二个典型应用电路(... 详细信息
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恒压/恒流输出式单片开关电源的设计原理(单片开关电源技术讲座之五)
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电源技术应用 2000年 第12期3卷 48-51页
作者: 沙占友 武卫东 王晓君 河北科技大学,石家庄050054
单片开关电源是国际上90年代才开始流行的新型开关电源芯片,本文阐述恒压/恒流输出式的设计原理。
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一种新型单片开关电源的设计与实验
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黄石高等专科学校学报 2000年 第3期16卷 12-14页
作者: 马学军 自动化系
本文介绍了一种开关电源用功率芯片TOP2 2 4Y的功能、特点及其应用电路 ,并通过一种反激式变换电路的设计和实验证明了其良好的性能。
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大电流单片开关稳压电源的制作
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电气时代 1994年 第5期 8-9页
作者: 沙占友 河北机电学院
单片开关式集成稳压器被誉为新型高效节能稳压电源,其电源效率可达90%以上。由于它把开关功率管也集成在芯片中,所以不仅性能优良,而且外围电路简单,为开关电源的推广与普及创造了条件。 单片开关式集成稳压器的典型产品有意大利SGS公... 详细信息
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直焊式LNK500系列单片开关电源集成电路
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家庭电子 2005年 第11S期 53-55页
作者: 郑国川 四川
所谓直焊式集成电路,指印刷电路板上无需打孔,在集成电路正面焊接的封装形式,如贴片式集成电路即为其中一种.
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高成品率手机用砷化镓单片开关
高成品率手机用砷化镓单片开关
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2001年全国微波毫米波会议
作者: 李拂晓 蒋幼泉 陈继义 钮利荣 高建峰 邵凯 杨乃彬 南京电子器件研究所
采用砷化镓3英寸0.7μm离子注入MESFET标准工艺技术研制出手机用砷化镓单片开关(以下简称单片开关)。该单片开关面积1310×1250μm,总栅宽36mm,工作频率DC-2GHz,1GHz下插入损耗I小于0.52dB,隔离度I大于17dB,驻波VSWR≤1.3,2GHz下I小于0.... 详细信息
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可满足2016EPS能效标准的单片开关IC
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今日电子 2014年 第9期 68-68页
新器件可以为最高功率为10W的充电器和适配器提供精确的初级侧稳压,使它们适用于智能手机、平板电脑和其他移动设备,特别是那些必须满足30mW宅载限制的设备,这些标准包括即将实施的强制性美国能源部EPS效率法规和欧盟委员会的COCTier... 详细信息
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Broadcom发布新型16端口单片开关BCM56580
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电子元器件应用 2006年 第5期8卷 142-142页
Broadcom发布新的16端口2.5 Gigabit单片开关,使用现有的千兆位以太网(GbE)网络架构,在刀片服务器中同时实现1 Gigabit以太网(1GbE)与2.5 Gigabit连接。新的Broadcom StrataXGS Ⅲ 2.5 Gigabit开关与Broadcom通用的NetXtreme ... 详细信息
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高成品率砷化镓DPDT单片射频开关
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固体电子学研究与进展 2003年 第2期23卷 202-204,245页
作者: 李拂晓 蒋幼泉 陈继义 钮利荣 高建峰 邵凯 杨乃彬 南京电子器件研究所 南京210016
采用砷化镓 76mm 0 .7μm离子注入 MESFET工艺技术研制出手机用砷化镓 DPDT单片射频开关(以下简称单片开关 )。该单片开关面积 1 3 1 0 μm× 1 2 5 0 μm,总栅宽 3 6mm,工作频率 DC~ 2 GHz,1 GHz下插入损耗 IL小于 0 .5 2 d B,隔离度... 详细信息
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