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激光在半导体基片制造和修复方面的应用

国外激光 1990年第9期 23-25页

作者：季叶克

近十年来,激光器在半导体工业上的应用虽未达到迷人的地步,但已获得立足之地。激光器主要作为高级的高速标记装置使用,把字码印到半导体器件上。当前,激光器在半导体制造和修复方面的应用已经扩大,在今后6年内,很可能成为存储器和逻辑... 详细信息

近十年来,激光器在半导体工业上的应用虽未达到迷人的地步,但已获得立足之地。激光器主要作为高级的高速标记装置使用,把字码印到半导体器件上。当前,激光器在半导体制造和修复方面的应用已经扩大,在今后6年内,很可能成为存储器和逻辑器件制造的一个主要组成部分。标记仍是激光器在半导体和电子学工业中的主要应用。卢莫尼克斯公司销售经理 KenAndrews 说,由于各厂商对部件高速识别方法的需要,公司的激光标记系统已开始转向。

关键词：激光半导体基片制造修复

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半导体基片—基片的装配工艺

电子工艺简讯 1990年第12期 6-6页

作者：夏建弘

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日拟用纳米技术开发新一代半导体基片

功能材料信息 2006年第6期3卷 44-44页

作者：潘雄

据媒体报道，日本经济产业省将从明年开始，利用纳米技术研发耐高压、超周波的半导体基片。

关键词：半导体基片纳米技术技术开发耐高压

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日本开发下一代半导体基片

现代材料动态 2007年第1期 22-22页

日本经济产业省将从明年开始，研发利用纳米技术的耐高压、超周波的半导体基片。计划开发的下一代技术拟用氮化合物作半导体的基片，从而开发新的基片和成膜方法。新基片预计比目前基片的周波数和电压提高10倍以上。

关键词：半导体基片日本纳米技术氮化合物成膜方法耐高压

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微小激光加工区辐射测温系统的调焦

中国激光 2005年第5期32卷 702-706页

作者：吴云峰叶玉堂杨先明秦宇伟张雪琴电子科技大学光电信息学院四川成都610054

将红外辐射测温系统用于半导体基片表面温度测量时,系统的调焦状况将影响测温结果的准确性。对这种影响进行了理论计算。结果表明,当被测高温区面积较大时,可以允许较大的调焦范围。但在激光诱导扩散等激光微细加工工艺中,曝光区直径仅... 详细信息

将红外辐射测温系统用于半导体基片表面温度测量时,系统的调焦状况将影响测温结果的准确性。对这种影响进行了理论计算。结果表明,当被测高温区面积较大时,可以允许较大的调焦范围。但在激光诱导扩散等激光微细加工工艺中,曝光区直径仅数十微米量级,对系统的调焦提出了较高的要求。计算了在可见光波段和近红外波段两种情况下系统成像物镜的焦距。当成像物镜在波长为0.546μm时的焦距为30mm,并固定像距为196mm时,得到在波长为1.335μm时的物距比波长为0.546μm时大1.33mm。利用这个结果,结合在不同物距时系统对被测高温区进行扫描得到的温度分布,提出了调焦的方法。利用该方法,系统物距可调节到最佳物距为中心±0.05mm的范围内,满足了微小面元温度测量的要求。

关键词：辐射测温系统激光加工表面温度测量微细加工工艺激光诱导扩散半导体基片近红外波段可见光波段理论计算调焦范围温度分布高温区物距准确性波长行扫描可调节焦距物镜成像

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BSQ-Ⅰ型钯管氢气净化器温控线路的改进

半导体光电 1993年第4期14卷 388-390页

作者：曾德胜重庆光电技术研究所永川632163

分析了外购氢气净化器的不足,对其温控线路进行了改进。改进后的氢气净化器,故障少、可靠性高、电路工作范围宽,维修方便。

关键词：氢气净化器温度控制半导体基片

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关于半导体集成电路芯片保护法的探讨

知识产权 1989年第S1期 121-125,120页

作者：贺儒英

一、前言 1、什么是集成电路和芯片的布局设计集成电路是微电子线路,其所有的有源元件(如晶体管、二极管、闸流管等)和无源元件(通常有电阻等)以及连接导线借助于物理淀积、化学淀积、光刻、氧化、扩散、离子注入、腐蚀等工艺将它们制... 详细信息

一、前言 1、什么是集成电路和芯片的布局设计集成电路是微电子线路,其所有的有源元件(如晶体管、二极管、闸流管等)和无源元件(通常有电阻等)以及连接导线借助于物理淀积、化学淀积、光刻、氧化、扩散、离子注入、腐蚀等工艺将它们制作在一块单晶半导体基片上,具有电路功能。见图1.——芯片布局设计是一组相关的图案,它们可以是确定的或者是编码的。

关键词：布局设计超大规模集成电路集成电路芯片半导体芯片保护法半导体集成电路专利法半导体基片电路功能芯片设计

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对于集成电路布图设计的一些基础概念的探讨

专利代理 2022年第3期 98-104页

作者：刘倜陈华成中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

本文就集成电路布图设计的一些基础概念进行探讨,并在此基础上就集成电路布图设计的法理基础提出意见。作者尝试结合集成电路的制备过程和集成电路布图登记的实务对“集成电路”和“布图设计”的定义进行分析和解读,并由此认为,集成电... 详细信息

本文就集成电路布图设计的一些基础概念进行探讨,并在此基础上就集成电路布图设计的法理基础提出意见。作者尝试结合集成电路的制备过程和集成电路布图登记的实务对“集成电路”和“布图设计”的定义进行分析和解读,并由此认为,集成电路布图设计保护的对象实质是抽象的图案,其由掩模版、掩模或半导体基片之上或之中的层实体承载。基于此,进一步探讨了布图设计的保护的法理基础。

关键词：集成电路布图设计保护对象半导体基片电子功能三维配置

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电子材料

新材料产业 2006年第12期 72-75页

广东建全国最大液晶平板基地，日本计划开发下一代半导体基片，日亚白光LED芯片光效有新突破，三井金属开发出事先混合好的白色荧光体。

关键词：电子材料半导体基片白光LED 发光二极管荧光体开发