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Al_(2)O_(3)层厚度对PbZrO_(3)/Al_(2)O_(3)异质结薄膜储能性能的影响

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沈阳工业大学学报 2024年第1期46卷 72-76页

作者：王占杰于海义邵岩王子权白宇沈阳工业大学材料科学与工程学院辽宁沈阳110870

为了提高Pt/PbZrO_(3)/Pt电介质电容器的储能密度,通过热蒸镀和自然氧化方法在Pt/Ti/SiO_(2)/Si基板上沉积了厚度为0~10 nm的Al_(2)O_(3)(AO)层,采用化学溶液沉积法制备PbZrO_(3)薄膜,研究了Al_(2)O_(3)层厚度对PbZrO_(3)/Al_(2)O_(3)(PZO/AO)异质结薄膜储能性能的影响。结果表明:随着AO层厚度的增加,PZO/AO异质结薄膜的击穿电场强度逐渐增大,极化电场电滞回线由反铁电特征转变为铁电特征。当PZO/AO异质结薄膜的AO层厚度为5 nm时,储能密度最大值为21.2 J/cm^(3)。

关键词：电介质电容器 PbZrO_(3)薄膜 Al_(2)O_(3)插层铁电反铁电储能性能热蒸镀化学溶液沉积法

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化学溶液沉积法制备单分散氧化锌纳米棒阵列

化学学报 2005年第18期63卷 1656-1660页

作者：罗志强张孝彬程继鹏陶新永李昱刘芙唐小明王幼文浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室杭州310027 浙江大学分析测试中心杭州310027

在由溶胶凝胶法制备的纳米ZnO薄膜基底上,采用化学溶液沉积法制备了单分散、高度取向的ZnO纳米棒阵列膜.通过控制纳米ZnO薄膜的制备工艺,可以调节氧化锌纳米棒的直径.利用FESEM,TEM,HRTEM,SAED和XRD表征了氧化锌纳米棒阵列的形貌和晶体... 详细信息

在由溶胶凝胶法制备的纳米ZnO薄膜基底上,采用化学溶液沉积法制备了单分散、高度取向的ZnO纳米棒阵列膜.通过控制纳米ZnO薄膜的制备工艺,可以调节氧化锌纳米棒的直径.利用FESEM,TEM,HRTEM,SAED和XRD表征了氧化锌纳米棒阵列的形貌和晶体结构.ZnO纳米棒的室温PL谱具有很高的紫外带边发射峰,在可见光波段无发射峰,表明该方法制备的ZnO纳米棒晶体结构完整,晶体中O空位的浓度很低.

关键词： ZnO 纳米棒阵列化学溶液沉积氧化锌纳米棒化学溶液沉积法制备工艺单分散阵列纳米ZnO薄膜 HRTEM

化学溶液沉积法制备掺镧Bi_2Ti_2O_7薄膜及其特性的研究

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硅酸盐学报 2004年第3期32卷 251-254页

作者：杨雪娜王弘尚淑霞姚伟峰张寅刘延辉周静涛山东大学晶体材料国家重点实验室济南250100 山东轻工业学院材料系济南250100

采用化学溶液沉积法 ,在Si(10 0 )衬底上制备了 (Bi0 .92 5La0 .0 75) 2 Ti2 O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明 :用一定量的La3+ 来代替部分Bi3+ ,提高了Bi2 Ti2 O7相薄膜的稳定性。研究发现 :经过高温 (85 0℃ )退火处理后 ,该... 详细信息

采用化学溶液沉积法 ,在Si(10 0 )衬底上制备了 (Bi0 .92 5La0 .0 75) 2 Ti2 O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明 :用一定量的La3+ 来代替部分Bi3+ ,提高了Bi2 Ti2 O7相薄膜的稳定性。研究发现 :经过高温 (85 0℃ )退火处理后 ,该薄膜的结晶性和取向性都很好 ,[111]方向取向率为 90 %。根据XRD谱图中的 (4 4 4)衍射峰 ,计算出晶格常数a≈ 2 0 .66 。薄膜的电流电压和电容电压特性的测量结果表明 ,该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数。

关键词：掺镧钛酸铋薄膜化学溶液沉积法 X射线衍射

化学溶液沉积法制备自取向BiFeO_3多铁薄膜

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高等学校化学学报 2013年第10期34卷 2270-2273页

作者：陈蕊黄科科吴小峰司文哲冯守华吉林大学无机合成与制备化学国家重点实验室长春130012

通过化学溶液沉积法在氧化铟锡(ITO)/导电玻璃上生长了BiFeO3多晶薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、磁性测量系统(MPMS)和铁电测试仪对样品的结构、形貌、元素价态、铁磁性和铁电性进行研... 详细信息

通过化学溶液沉积法在氧化铟锡(ITO)/导电玻璃上生长了BiFeO3多晶薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、磁性测量系统(MPMS)和铁电测试仪对样品的结构、形貌、元素价态、铁磁性和铁电性进行研究.结果表明,薄膜为自取向生长,具有良好的[101]生长取向和平整的表面.室温下,样品呈铁磁性,沿样品取向方向为易磁化轴方向.铁电测试结果表明,其饱和电极化强度达到51.3μC/cm2.

关键词：多铁材料 BiFeO3薄膜化学溶液沉积法磁电效应

化学溶液沉积法制备BiFeO_3薄膜的结构及性能研究

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中山大学学报（自然科学版） 2015年第1期54卷 79-83页

作者：陈如麒朱贵文徐初东华南农业大学公共基础课实验教学中心广东广州510642 广东药学院基础学院物理与电子学教研室广东广州510006 华南农业大学理学院广东广州510642

采用化学溶液沉积法在ITO玻璃基片上制备铁酸铋Bi Fe O3薄膜。薄膜呈纯钙钛矿结构,无杂相生成。此外,薄膜表面光滑致密、没有微裂痕。薄膜得到的晶粒尺寸较小,约为45 nm。在550℃1 h退火的薄膜有良好的电学特性,在1 k Hz频率下测得的相... 详细信息

采用化学溶液沉积法在ITO玻璃基片上制备铁酸铋Bi Fe O3薄膜。薄膜呈纯钙钛矿结构,无杂相生成。此外,薄膜表面光滑致密、没有微裂痕。薄膜得到的晶粒尺寸较小,约为45 nm。在550℃1 h退火的薄膜有良好的电学特性,在1 k Hz频率下测得的相对介电常数、损耗因子分别约为198、3%;此外,在760 k V/cm电场驱动下,薄膜得到的剩余极化(2Pr)约为25μC/cm2,矫顽电场(2Ec)约为650 k V/cm。BFO薄膜在550℃退后,通过吸收光谱分析得到BFO薄膜的光学带隙为2.7 e V。这些结果表明,退火温度550℃制备的Bi Fe O3固溶体薄膜具有较好的性能,有望成为光电器件的候选材料。

关键词：化学溶液沉积法 BiFeO3 相对介电常数损耗因子光学带隙

化学溶液沉积法制备铁掺杂镍酸镧薄膜的结构及电学性能研究

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中山大学学报（自然科学版） 2012年第3期51卷 60-62页

作者：陈如麒翁嘉文劳媚媚徐军朱贵文华南农业大学公共基础课实验教学中心广东广州510642 华南农业大学理学院广东广州510642 广东药学院物理与电子学教研室广东广州510006

采用化学溶液沉积法,在(100)取向单晶硅衬底上制备铁掺杂镍酸镧(LaNi1-xFexO3,LNFeO-x)薄膜,研究了其结构和室温下的导电特性。X射线衍射测试结果表明,经700℃1 h退火的薄膜呈钙钛矿结构,没有可以观察到的杂相生成。薄膜表面平整、致密... 详细信息

采用化学溶液沉积法,在(100)取向单晶硅衬底上制备铁掺杂镍酸镧(LaNi1-xFexO3,LNFeO-x)薄膜,研究了其结构和室温下的导电特性。X射线衍射测试结果表明,经700℃1 h退火的薄膜呈钙钛矿结构,没有可以观察到的杂相生成。薄膜表面平整、致密,没有微裂痕出现。随着铁含量的增加,薄膜电阻率由1.7 mΩ.cm增加到3.9 mΩ.cm。

关键词： LaNi1-xFexO3 LNFeO-x 化学溶液沉积法 CSD

化学溶液沉积法制备Pb_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3薄膜的结构及电学性能研究

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中山大学学报（自然科学版） 2012年第6期51卷 78-81页

作者：陈如麒朱贵文刘为方华南农业大学公共基础课实验教学中心广东广州510642 广东药学院基础学院广东广州510006 韩华新能源(启东)有限公司江苏南通226200 中山大学物理科学与工程技术学院∥光电材料与技术国家重点实验室广东广州51027

采用化学溶液沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si基片上制备钛酸铅钡Pb0.5Ba0.5TiO3(PBT)薄膜。薄膜呈纯钙钛矿结构,无杂相生成。此外,薄膜表面光滑致密、没有微裂痕.薄膜得到的晶粒尺寸较小,约为17 nm。在700℃1 h退火的薄膜有良好的电学特性,在1... 详细信息

采用化学溶液沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si基片上制备钛酸铅钡Pb0.5Ba0.5TiO3(PBT)薄膜。薄膜呈纯钙钛矿结构,无杂相生成。此外,薄膜表面光滑致密、没有微裂痕.薄膜得到的晶粒尺寸较小,约为17 nm。在700℃1 h退火的薄膜有良好的电学特性,在1 kHz频率下测量得到的介电常数、损耗因子分别约为265和5%;此外,在500 kV/cm电场驱动下,薄膜得到的剩余极化(2Pr)约为16μC/cm2,矫顽电场(Ec)约为110 kV/cm。这些结果表明,PBT固溶体薄膜有望成为铁电器件的候选材料。

关键词：钛酸铅钡 PBT 介电铁电化学溶液沉积法

用化学溶液沉积方法制备Pr_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3薄膜

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无机材料学报 2004年第5期19卷 1087-1092页

作者：王群董睿陈立东中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷与超微结构国家重点实验室上海200050

混合价态的锰氧化物Pr1-xCaxMnO3薄膜是近年来国际上超导体以及巨磁电阻领域的研究热点之一.本文采用化学溶液沉积方法在Pt/Ti/SiO2/Si基底上制备出Pr1-xCaxMnO3薄膜,降低了材料成本;前驱体中不使用鳌和剂,简化了工艺.采用XRD、FT-IR、... 详细信息

混合价态的锰氧化物Pr1-xCaxMnO3薄膜是近年来国际上超导体以及巨磁电阻领域的研究热点之一.本文采用化学溶液沉积方法在Pt/Ti/SiO2/Si基底上制备出Pr1-xCaxMnO3薄膜,降低了材料成本;前驱体中不使用鳌和剂,简化了工艺.采用XRD、FT-IR、SEM、AFM、EPMA以及俄歇探针仪等方法对所制备的薄膜进行了表征.结果表明,实验中以较低的温度实现了PCMO钙钛矿结构的晶化;薄膜平整光滑致密,各组分分布均匀,C杂质含量处于很低的水平.

关键词：混合价锰氧化物薄膜化学溶液沉积法

化学溶液沉积法制备Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜及其性质的研究

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化学世界 2001年第6期42卷 283-285页

作者：肖卓炳吴显明王弘王卓尚淑霞王民吉首大学生化学院湖南吉首416000 山东大学晶体材料国家重点实验室山东济南250100

报道了用化学溶液沉积法采用价格低廉的原料在电阻率为 6～ 9Ω·cm的 n型 Si( 1 0 0 )衬底上生长 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,并对薄膜的性质进行了研究。结果表明此制膜工艺简单 ,成本低 ,制备的 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜具有较低的结晶温度 ... 详细信息

报道了用化学溶液沉积法采用价格低廉的原料在电阻率为 6～ 9Ω·cm的 n型 Si( 1 0 0 )衬底上生长 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,并对薄膜的性质进行了研究。结果表明此制膜工艺简单 ,成本低 ,制备的 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜具有较低的结晶温度 ,且薄膜均匀 ,致密 ,无裂纹。在 650°C下退火 30 min时得到的 Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜具有良好的绝缘性和铁电性 ,薄膜的剩余极化 Pr=4.9μC/cm2 ,矫顽电场 Ec=87k

关键词：化学溶液沉积法铁电薄膜 X射线衍射钛酸铋性质铁电材料绝缘性铁电性