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化学沉积处理对RE-Mg-Ni系负极材料电化学性能影响

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稀有金属 2020年第5期44卷 491-498页

作者：许剑轶胡峰张国芳李永治李霞张胤内蒙古科技大学材料与冶金学院内蒙古包头014010

为了改善RE-Mg-Ni系超晶格负极材料的综合电化学性能,以NaH2PO2作为还原剂,对La0.75Mg0.25Ni3.4Al0.1负极材料进行化学沉积W-PNi/Y3+,对化学沉积的实验条件进行正交实验设计L9(34)。研究了不同化学沉积实验条件下(还原剂浓度、温度和时... 详细信息

为了改善RE-Mg-Ni系超晶格负极材料的综合电化学性能,以NaH2PO2作为还原剂,对La0.75Mg0.25Ni3.4Al0.1负极材料进行化学沉积W-PNi/Y3+,对化学沉积的实验条件进行正交实验设计L9(34)。研究了不同化学沉积实验条件下(还原剂浓度、温度和时间)合金电极的电化学性能。扫描电镜及能谱(SEM-EDS)分析表明,包覆处理后,样品表面沉积了球形Y-Ni-W-P共沉积物的颗粒,电化学性能测试表明,与未处理相比,沉积处理后合金电极活化次数、合金电极循环寿命、高倍率放电性能、交换电流密度和极限电流密度率均得到明显的提高。这表明了WNi-P三元共沉积能有效地提高贮氢合金电极电化学性能,处理温度是电极循环寿命和放电容量最为显著的影响因素,在NaH2PO2浓度25 g·L^-1,处理温度80℃,时间30 min时综合电化学性能最佳。

关键词： La-Mg-Ni系负极材料化学沉积最佳实验条件处理后合金

化学沉积RE-Ni-Mo-P-WC复合镀层组织结构及性能研究

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材料科学与工艺 2007年第3期15卷 413-416页

作者：肖顺华陈永福桂林工学院材料与化学工程系教育部有色金属加工技术重点实验室广西桂林541004

研究了化学沉积RE-Ni-Mo-P-WC复合镀层的组织结构及性能.结果发现:加入稀土元素能使镀层表面的晶粒急剧细化,分散性大大加强.镀层结构由非晶态转化为晶态结构.镀层的耐蚀性略有下降.硬度随WC浓度增加而增加,钼酸钠浓度为0.05 g/L并经过... 详细信息

研究了化学沉积RE-Ni-Mo-P-WC复合镀层的组织结构及性能.结果发现:加入稀土元素能使镀层表面的晶粒急剧细化,分散性大大加强.镀层结构由非晶态转化为晶态结构.镀层的耐蚀性略有下降.硬度随WC浓度增加而增加,钼酸钠浓度为0.05 g/L并经过200℃热处理后,显微硬度增大.氧化膜的质量随温度的升高逐渐增加,但在600℃以下氧化温度对镀层增重不明显.

关键词：化学沉积 RE-Ni-Mo-P-WC 复合镀层组织结构性能

化学沉积Mn掺杂ZnO薄膜的结构和光学性能

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Journal of Central South University 2023年第3期30卷 691-706页

作者： Emine GÜNERI Johnson HENRY Fatma GÖDE Nilgün KalaycioğluÖZPOZAN Faculty of Education Erciyes UniversityKayseri 38039Turkey Department of Physics Manonmaniam Sundaranar UniversityTirunelveli 627012Tamil NaduIndia Department of Physics Arts and Science FacultyBurdur Mehmet Akif Erosy UniversityBurrur 15030Turkey Department of Chemistry Faculty of ScienceErciyes UniversityKayseri 38039Turkey

采用化学沉积法制备了纯ZnO和不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜,并对所制备薄膜的结构、形态和光学性能进行了研究。XRD分析显示,所有薄膜都呈六角形结构,但Mn掺杂的ZnO薄膜存在峰移。随Mn掺杂浓度的升高,晶体尺寸增大。Mn掺杂ZnO薄膜表... 详细信息

采用化学沉积法制备了纯ZnO和不同Mn掺杂浓度的Mn掺杂ZnO薄膜,并对所制备薄膜的结构、形态和光学性能进行了研究。XRD分析显示,所有薄膜都呈六角形结构,但Mn掺杂的ZnO薄膜存在峰移。随Mn掺杂浓度的升高,晶体尺寸增大。Mn掺杂ZnO薄膜表面分布不规则颗粒,并呈团聚状。Mn掺杂ZnO薄膜在可见光区表现出更高的透射率,但随着Mn掺杂浓度的升高,透射率逐渐降低。随Mn掺杂浓度的升高,薄膜的带隙减小。Mn掺杂ZnO薄膜在紫外区表现出更高的光导率和导电率。

关键词： ZnO 掺杂薄膜化学沉积光导率

化学沉积非晶态Ni-W-P合金激光晶化组织与耐磨性的关系

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材料工程 2011年第12期39卷 42-47,52页

作者：刘宏郭荣新卞建胜钟浩巩芳李太宗山东轻工业学院机械与汽车工程学院济南250353 淄博市新材料研究所山东淄博255040

用XRD定量分析法研究化学沉积非晶态Ni-W-P合金激光晶化前后的显微组织特征。通过硬度测试、磨损实验、金相和SEM研究镀层的磨损行为。结果表明:在不同的扫描速率下,均发生Ni3P相的晶化反应;随扫描速率的降低,镀层的晶化程度增加,但均... 详细信息

用XRD定量分析法研究化学沉积非晶态Ni-W-P合金激光晶化前后的显微组织特征。通过硬度测试、磨损实验、金相和SEM研究镀层的磨损行为。结果表明:在不同的扫描速率下,均发生Ni3P相的晶化反应;随扫描速率的降低,镀层的晶化程度增加,但均未达到完全晶化;扫描速率为7mm/s时,镀层的晶化程度为73.0%。在发生Ni3P晶化反应的临界扫描速率(10mm/s)下,析出的Ni3P晶粒尺寸大于Ni;扫描速率降低时,两相的尺寸特征向相反的方向演变,但均保持在纳米级范畴。激光晶化前后镀层的硬度和耐磨性受其晶化程度,Ni及Ni3P相的尺寸、数量影响,7mm/s时主要表现为黏着磨损,8mm/s时以磨粒磨损为主。具有适宜的晶化程度、合适的晶粒尺寸,镀层的耐磨性才能得到改善。

关键词：激光晶化化学沉积晶化程度晶粒尺寸耐磨性

化学沉积Ni-P/Ni-W-P合金的热处理晶化及磨损行为

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材料热处理学报 2011年第2期32卷 139-145页

作者：刘宏郭荣新宗云卞建胜李莎山东轻工业学院机械工程学院山东济南250353 淄博市新材料研究所山东淄博255040

用XRD定量法分析了W的共沉积对Ni-P基合金镀层热处理晶化程度、晶粒尺寸的影响,通过镀层硬度测试、干摩擦条件下的磨损实验以及SEM形貌观察研究了镀层的磨损行为。结果表明:W的共沉积提高了镀态和热处理的Ni-W-P镀层的晶化程度,加速Ni... 详细信息

用XRD定量法分析了W的共沉积对Ni-P基合金镀层热处理晶化程度、晶粒尺寸的影响,通过镀层硬度测试、干摩擦条件下的磨损实验以及SEM形貌观察研究了镀层的磨损行为。结果表明:W的共沉积提高了镀态和热处理的Ni-W-P镀层的晶化程度,加速Ni相的晶化过程,提高了Ni3P相的晶化反应温度,并使Ni-W-P镀层硬度大于Ni-P镀层的硬度。非晶态Ni-9.27%P镀层晶化前后的磨损行为主要表现为粘着磨损;当P含量与其相同(相近)时,W的加入不改变Ni-5.13%W-9.32%P合金在镀态及低温热处理时的粘着磨损行为,但对高温(600℃以上)热处理镀层起主导作用的磨损形式为微切削磨损机制。

关键词：化学沉积晶化程度晶粒尺寸硬度磨损行为

化学沉积法制备Ni-P纳米线与纳米管有序阵列

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物理化学学报 2006年第1期22卷 102-105页

作者：任鑫黄新民张胡海合肥工业大学材料科学与工程学院合肥230009

以多孔氧化铝膜为模板,在室温下的酸性化学镀镍槽中通过化学沉积法生长出纳米线与纳米管有序阵列.分别用X射线衍射仪(XRD)与透射电子显微镜(TEM)对纳米线、纳米管阵列进行表征.并通过对纳米线与纳米管的生长方式进行分析比较,系统地研... 详细信息

以多孔氧化铝膜为模板,在室温下的酸性化学镀镍槽中通过化学沉积法生长出纳米线与纳米管有序阵列.分别用X射线衍射仪(XRD)与透射电子显微镜(TEM)对纳米线、纳米管阵列进行表征.并通过对纳米线与纳米管的生长方式进行分析比较,系统地研究了多孔氧化铝模板的前处理对纳米阵列生长的影响.结果表明,生成的纳米线与纳米管均为非晶态的镍磷合金.室温下镍纳米管的生成主要取决于敏化、活化过程,而当纳米管的厚度达到一定程度后就不再随时间变化.

关键词：纳米线阵列纳米管阵列化学沉积多孔氧化铝模板

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化学沉积^(103)Pd工艺的研究

原子能科学技术 2013年第9期47卷 1508-1513页

作者：李忠勇高惠波韩连革张文辉金小海崔海平原子高科股份有限公司北京102413 中国原子能科学研究院北京102413

以Ф 0.5mm×3.0mm碳棒为载体,氯化钯为前体,103Pd为放射性示踪剂,水合肼为还原剂,研究了化学沉积103Pd工艺。结果表明,化学沉积103Pd的优化条件为:2g/L PdCl2、65g/L Na2EDTA、700mL/L 25%NH3·H2O、100mL/L 5%H4N2·H2O,pH=10,时间90min,温度50℃。化学沉积103Pd溶液稳定性好,反应易进行;有95%的103 Pd沉积到载体棒上,碳棒对103 Pd的吸收仅约为12%,103Pd利用率高;沉积层呈灰白色,表面平整;化学沉积103Pd批内均匀性好,重复性好。化学沉积103Pd技术可用于制备103Pd粒子和新型103Pd-125I复合粒子。

关键词：碳棒化学沉积肼浴 103_Pd粒子 103_Pd_125 I复合粒子

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自组装方法化学沉积NiMoP镀层研究

稀有金属材料与工程 2009年第5期38卷 895-900页

作者：刘璐杨志刚刘殿龙张弛清华大学先进材料教育部重点实验室北京100084

应用自组装膜吸附钯的活化方法,在SiO2/Si平面基板表面化学沉积NiMoP阻挡层。应用XRF、XRD、SEM以及四探针等方法探讨了镀液中钼酸根浓度、温度及pH值对NiMoP镀层的影响。结果表明,镀层中Mo与P含量互相制约;随钼酸钠浓度上升,化学镀NiMo... 详细信息

应用自组装膜吸附钯的活化方法,在SiO2/Si平面基板表面化学沉积NiMoP阻挡层。应用XRF、XRD、SEM以及四探针等方法探讨了镀液中钼酸根浓度、温度及pH值对NiMoP镀层的影响。结果表明,镀层中Mo与P含量互相制约;随钼酸钠浓度上升,化学镀NiMoP的沉积速度逐渐降低,镀层结构由非晶态向晶态转变,镀层电阻率降低;随镀液温度上升,NiMoP镀层的沉积速度逐渐升高;镀液pH值在一定范围内上升可提高NiMoP镀层的沉积速度,镀层的晶粒尺寸与沉积速度有相同的变化趋势。

关键词：化学沉积自组装层 NiMoP阻挡层

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化学沉积法制备CdS薄膜及性质研究

太阳能学报 2003年第1期24卷 1-4页

作者：张辉杨德仁马向阳阙端麟浙江大学硅材料国家重点实验室杭州310027

利用化学沉积 (CBD)的方法制备立方相的CdS薄膜。实验表明 ,在无搅拌、柠檬酸纳作为络合剂的条件下 ,在溶液的配方为 0 .0 2mol/L的CdCl2 、0 .0 2mol/L的柠檬酸钠、0 .0 5mol/L的CS(NH2 ) 2 的体系中 ,当 pH值为 11.5 ,溶液温度为 80℃... 详细信息

利用化学沉积 (CBD)的方法制备立方相的CdS薄膜。实验表明 ,在无搅拌、柠檬酸纳作为络合剂的条件下 ,在溶液的配方为 0 .0 2mol/L的CdCl2 、0 .0 2mol/L的柠檬酸钠、0 .0 5mol/L的CS(NH2 ) 2 的体系中 ,当 pH值为 11.5 ,溶液温度为 80℃时 ,在ITO玻璃上沉积得到CdS薄膜的前驱体 ,再把所得的前驱体在 35 0℃ ,N2 保护下热处理两个小时经X射线衍射 (XRD)和扫描电镜分析 ,表面薄膜是结晶良好、立方相、表面均匀光滑的CdS薄膜。随着热处理温度的提高 ,CdS薄膜的晶化程度有很大的提高 ,晶粒有明显的长大 ,其光学性能也有很大的改善。

关键词： CdS 化学沉积柠檬酸钠