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文献类型

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日期分布

学科分类号

  • 3 篇 工学
    • 2 篇 化学工程与技术
    • 1 篇 机械工程

主题

  • 3 篇 化学气相沉积设备
  • 2 篇 等离子体
  • 1 篇 技术要点
  • 1 篇 性能分析
  • 1 篇 电极板
  • 1 篇 注射器
  • 1 篇 载气注射
  • 1 篇 反应室

机构

  • 1 篇 浙江丽晖智能装备...

作者

  • 1 篇 任想想

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"主题词=化学气相沉积设备"
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化学气相沉积设备
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电镀与涂饰 2002年 第6期21卷 68-68页
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化学气相沉积设备
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电镀与涂饰 2005年 第8期24卷 67-67页
一种用于在基质的整个范围内气相沉积均匀薄膜的化学气相沉积设备。所述化学设备气相沉积设备包括一个与外部隔绝并保持真空的反应室；一个旋转地安装于所应室内并放有至少一片基质的基座；和一个注射器，其包括独立形成的第一和第二气... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 评论
等离子体增强化学气相沉积设备的技术要点及性能分析
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模具制造 2024年 第7期24卷 150-152页
作者： 任想想 浙江丽晖智能装备有限公司 浙江丽水323000
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种重要的表面涂覆技术,可用于制备薄膜材料。对此,需要研究并分析等离子体增强化学气相沉积设备的技术要点和性能,介绍PECVD设备的基本构成和工作原理,研究PECVD设备的关键技术要点。其中,气体供给... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 博看期刊 评论
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