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衍射光栅刻划机的闭环控制系统

光学精密工程 2012年第11期20卷 2416-2423页

作者：蔡锦达王英颜廷萌秦绪祥王亮上海理工大学机械工程学院上海200093 大连理工大学机械工程学院辽宁大连116024

以S3C2440A为控制核心,设计了衍射光栅刻划机的高精度运动控制系统,实现了现场显示、实时控制等功能。用S3C2440A微控制器控制伺服电机和步进电机完成光栅刻划的分度运动和刻划运动,通过SiGNUMTM RELM直线光栅尺反馈和PD加前馈控制算法... 详细信息

以S3C2440A为控制核心,设计了衍射光栅刻划机的高精度运动控制系统,实现了现场显示、实时控制等功能。用S3C2440A微控制器控制伺服电机和步进电机完成光栅刻划的分度运动和刻划运动,通过SiGNUMTM RELM直线光栅尺反馈和PD加前馈控制算法补偿由于惯性等原因造成的分度误差,并用MATLAB对使用PD加前馈控制算法的分度运动进行仿真。采用RON225增量式角度编码器反馈以补偿执行刻划运动的步进电机因失步造成的误差,通过分析和处理实验数据获得分度运动最佳速度和伺服电机在此分度运动速度下停止时的过冲距离。最后,对可能产生控制误差的原因进行了初步分析,并提出了需要进一步改进和完善之处。

关键词：衍射光栅刻划机运动控制 S3C2440A 刻划光栅 PD加前馈控制

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衍射光栅刻划机分度误差的实时测量

仪器仪表学报 1993年第4期14卷 408-411页

作者：杨厚民王晓琳中国科学院长春光学精密机械研究所

本文提出了对光栅分度误差进行实时测量的方法,阐述了此方法的原理和实现过程。对测得数据,根据stroke理论分析了分度误差对光栅谱线产生的影响。实践证明,用此方法得到的谱线轮廓与用光谱法测得的谱线基本一致。

关键词：光栅刻划机分度误差实时测量

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高精度控制光电光栅刻划机的光栅外差干涉仪

激光技术 2008年第5期32卷 474-476,526页

作者：王芳齐向东中国科学院长春光学机密机械与物理研究所长春130033 中国科学院研究生院北京100039

为提高光电式光栅刻划机的控制精度,设计了一种自准直式激光光栅外差干涉仪的新型测量系统。以光栅衍射和偏振光学为理论基础,结合电子学的相关知识对系统进行了理论分析,设计了基准光栅,并进行了大量的实验研究。由实验研究可知,这种... 详细信息

为提高光电式光栅刻划机的控制精度,设计了一种自准直式激光光栅外差干涉仪的新型测量系统。以光栅衍射和偏振光学为理论基础,结合电子学的相关知识对系统进行了理论分析,设计了基准光栅,并进行了大量的实验研究。由实验研究可知,这种利用光栅的自准直衍射和以光栅栅距作为计量基准的干涉测量系统,具有受环境因素的影响低,结构简单、装调方便等优点;采用双频激光得到的测量信号增益大,信噪比高;该系统用于光栅刻划,得到的栅线间距刻划偏差优于10nm,在3mm行程内累积误差约为0.3μm。结果表明,该系统具有纳米级分辨力,用于实时测量控制系统,测量误差很小,完全达到了中阶梯光栅等特种光栅对刻划机的高精度分度要求。

关键词：测量与计量光栅干涉仪位移测量自准直衍射刻划机双频激光

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红外宽波段光栅调频激光器光栅和刻划机

光学仪器 1981年第4期 58-63+82页

作者：周志康林桂荣唐青云上海分析仪器厂

本文介绍了自制红外光栅刻机的主要结构,恒温防震等环境要求的解决,刻划刀的设计与安装,并介绍了用该刻机刻制的光栅经检验达到日本同类光栅的技术水平。

关键词：红外光栅刻划机宽波段宽频带集光效率红外激光器光激射器电子器件

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日本大型高密度刻线光栅刻划机概述

光机电世界 1994年第6期11卷 1-5页

作者：王春霞中国科学院长春精密机械研究所

1.引言随着同步辐射应用和空间天文学领域的发展,需要高性能高质量的新型光谱仪,而这类光谱仪又要求大面积,高刻划密度的光栅,为此,日本日立有限公司中心研究室研究制成功了大型高密度刻线光栅刻划机。

关键词：光谱仪高密度刻线光栅刻划机

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变栅距衍射光栅刻划机的控制系统设计

微细加工技术 2002年第4期 32-35页

作者：时轮中国科学院长春光学精密机械与物理研究所长春130022

提出了采用相位扫描方法加工变栅距 (VLS)光栅的基本原理 ,给出了VLS光栅刻划机的控制系统 ,并通过刻划实验对这一新方法进行了验证。

关键词：变栅距光栅刻划机控制系统干涉仪工作原理微电子

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激光刻划机刻出迄今最大的衍射光栅

激光与光电子学进展 1970年第6期 32-33页

刻划机在镀铝反射镜上刻出120,000呎的槽长大约须费时1周多。而凹槽的陡峭的边在整个加工过程中须维持不变的斜率。美帝麻省理工学院所属科学学校曾用各种光源去控制刻划机,经过十多年的实验研究,认为只有激光干涉仪这种仪器才能达到

关键词：刻划机衍射光栅光栅铝反射镜激光

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我国第一台双光束光盘刻划机研制成功

应用激光 1990年第6期 256-256页

作者：陈康德上海激光所

国家七·五攻关项目《光盘伺服槽及预制格式刻划机》由中国科学院长春光学精密机械研究所与上海市激光技术研究所共同完成,于11月19日在上海通过技术鉴定。我国著名光学专家、中国光学学会理事长王大珩出席了鉴定会。会议由光学界前(?)... 详细信息

国家七·五攻关项目《光盘伺服槽及预制格式刻划机》由中国科学院长春光学精密机械研究所与上海市激光技术研究所共同完成,于11月19日在上海通过技术鉴定。我国著名光学专家、中国光学学会理事长王大珩出席了鉴定会。会议由光学界前(?)、浙江大学董太和教授主持。出席会议的还有干福熹、王之江、唐九华、庄松林等有关专家。鉴定委员一致认为光盘伺服槽及预制格式刻划机是在缺乏国外技术资料的条件下自行设计与研制的高技术装

关键词：刻划机伺服双光束光盘

我国第一台光盘伺服槽及预制格式刻划机的诞生——王立鼎院士访谈录

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中国科技史杂志 2021年第1期42卷 161-161页