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文献类型

  • 5 篇 期刊文献

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  • 4 篇 工学
    • 4 篇 材料科学与工程(可...
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  • 1 篇 理学

主题

  • 5 篇 准分子激光光刻
  • 1 篇 氟化钙
  • 1 篇 斜照明
  • 1 篇 微光刻技术
  • 1 篇 集成电路
  • 1 篇 分辨率
  • 1 篇 electron
  • 1 篇 投影光刻机
  • 1 篇 掩模
  • 1 篇 晶体生长
  • 1 篇 专用设备
  • 1 篇 激光晶体
  • 1 篇 千兆级
  • 1 篇 会议录
  • 1 篇 等离子体刻蚀
  • 1 篇 symposium
  • 1 篇 光学薄膜
  • 1 篇 193nm
  • 1 篇 接近式光刻
  • 1 篇 光刻

机构

  • 3 篇 中国科学院上海光...
  • 1 篇 中国科学院光电技...

作者

  • 1 篇 徐军
  • 1 篇 蒋宝财
  • 1 篇 范正修
  • 1 篇 董永军
  • 1 篇 黄惠杰
  • 1 篇 杨卫桥
  • 1 篇 周国清
  • 1 篇 袁才来
  • 1 篇 冯伯儒
  • 1 篇 苏良碧
  • 1 篇 杨良民
  • 1 篇 邵建达
  • 1 篇 易葵
  • 1 篇 赵永凯
  • 1 篇 尚淑珍
  • 1 篇 杜龙龙
  • 1 篇 路敦武
  • 1 篇 侯德胜
  • 1 篇 张锦
  • 1 篇 王润文

语言

  • 5 篇 中文
检索条件"主题词=准分子激光光刻"
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氟化钙晶体的生长和应用研究
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硅酸盐学报 2003年 第12期31卷 1202-1207页
作者: 苏良碧 徐军 杨卫桥 董永军 周国清 中国科学院上海光学精密机械研究所 上海201800
CaF2晶体作为一种传统晶体材料,应用十分广泛。文中综合介绍了CaF2晶体在深紫外光刻机的光学元件、激光晶体和被动Q开关三个领域的应用现状及趋势,归总了CaF2晶体具有的优异性能,阐述了CaF2晶体与深紫外准分子激光之间的作用,晶体结构... 详细信息
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光刻机系统中193nm薄膜的研究进展
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激光与光电子学进展 2006年 第1期43卷 11-14页
作者: 尚淑珍 易葵 邵建达 范正修 中国科学院上海光学精密机械研究所
193nm的ArF准分子激光光刻可将特征线宽推进到0.10μm。重点介绍了193nm薄膜的研究进展及影响薄膜性能的主要因素,并对具体的研究方向进行了总结。
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接近式光刻中斜照明改善分辨率的模拟与分析
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微细加工技术 2001年 第2期 9-13,60页
作者: 赵永凯 黄惠杰 路敦武 杜龙龙 杨良民 袁才来 蒋宝财 王润文 中国科学院上海光学精密机械研究所 上海201800
根据菲涅尔 基尔霍夫衍射公式 ,推导出斜照明接近式光刻系统中硅片表面的光强分布 ,并在几种条件下进行了模拟数值计算 ,分析了斜照技术的实用条件及改善光刻分辨率的效果和应用前景。
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光刻技术的发展
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微细加工技术 2000年 第1期 1-9页
作者: 冯伯儒 张锦 侯德胜 陈芬 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 成都610209
阐述了光刻技术的发展及其分辨极限 ,对准分子激光光刻技术及其发展作了比较详细的论述。
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制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
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电子科技文摘 2002年 第7期 35-35页
Y2002-63128 02128342001年第6届等离子体及处理感应损伤会议录=2001 6th international symposium on plasma-and process-induced damage[会,英]/American Vacuum Society &IEEE Electron Devices Society.—2001.—128P.(E)本会议录... 详细信息
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