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  • 4 篇 工学
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主题

  • 4 篇 光刻热熔法
  • 2 篇 离子束刻蚀
  • 1 篇 微透镜列阵
  • 1 篇 微型透镜
  • 1 篇 光致抗蚀剂
  • 1 篇 微光学阵列元件
  • 1 篇 辐射交
  • 1 篇 辅料
  • 1 篇 凹微透镜阵列
  • 1 篇 光纤端部
  • 1 篇 平面折射微透镜阵...
  • 1 篇 基底材料
  • 1 篇 太阳能聚光器
  • 1 篇 面形误差
  • 1 篇 重铬酸铵明胶
  • 1 篇 表面微结构形貌
  • 1 篇 制备工艺
  • 1 篇 光敏剂
  • 1 篇 二维
  • 1 篇 光刻胶

机构

  • 1 篇 华中科技大学
  • 1 篇 华中理工大学
  • 1 篇 华中光电技术研究...
  • 1 篇 浙江大学
  • 1 篇 沈阳建筑工程学院

作者

  • 2 篇 张新宇
  • 2 篇 易新建
  • 1 篇 周勃
  • 1 篇 裴先登
  • 1 篇 祝金兰
  • 1 篇 郝红
  • 1 篇 杨国光
  • 1 篇 付希亮
  • 1 篇 张智
  • 1 篇 赵兴荣
  • 1 篇 汤庆乐
  • 1 篇 何苗

语言

  • 4 篇 中文
检索条件"主题词=光刻热熔法"
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凹折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作
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光学学报 2001年 第4期21卷 485-490页
作者： 张新宇 汤庆乐 张智 易新建 裴先登 华中科技大学计算机科学与技术学院外存储系统国家专业实验室 武汉430074 华中光电技术研究所 武汉430074 华中科技大学光电子工程系 武汉430074
利用光刻热熔成形工艺及离子束刻蚀制作 12 8× 12 8元凹微透镜阵列。所制硅及石英凹微透镜的典型基本图形分别为凹球冠形、凹柱形和矩顶凹面形。分析了在光致抗蚀剂柱凹微透镜图形制作过程中的膜系匹配特性 ,与制作该种微透镜有关的光... 详细信息
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微光学阵列元件离子束刻蚀制作的分析与讨论
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华中理工大学学报 1998年 第A2期26卷 1-3页
作者： 张新宇 易新建 何苗 赵兴荣 华中理工大学光电子工程系
阐述了利用离子束刻蚀技术制作微光学阵列元件的工艺条件．研究和实验结果表明，通过光刻热熔法制作的光致抗蚀剂掩模图形经具有不同能量的离子束刻蚀后可以有效地实现向衬底材料上所作的选择性转移，所作的理论分析结果为非球面微光学... 详细信息
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二维微透镜列阵制备的新方法及技术研究
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光电子·激光 1997年 第S1期 72-73页
作者： 杨国光 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 杭州 310027
1.概述二维微透镜列阵是光学前沿学科——微光学的关键器件。制备微透镜列阵的传统方法是离子交换形成梯度折射率(GRIN)法和光敏玻璃热成形法(光解法)以及二元光学制备微透镜法(二元Fresnel法),近几年又提出光刻胶热熔法(光熔法)。本项... 详细信息
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光纤端部微型透镜的研究
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沈阳建筑工程学院学报（自然科学版） 2003年 第1期19卷 37-40页
作者： 周勃 郝红 付希亮 祝金兰 沈阳建筑工程学院建筑技术研究所 辽宁沈阳110015
在光刻热熔法的基础上 ,研究使用掺有重铬酸盐的明胶在光纤端部制备微型透镜的工艺 .分析了重铬酸铵明胶体系的辐射交联和光敏机理 ,阐述了配制、曝光、显影和热熔成形的实验方法 ,同时研究曝光机理和显影机理以确定最佳浓度和质量比、... 详细信息
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