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文献类型

  • 2 篇 期刊文献
  • 1 篇 学位论文

馆藏范围

  • 3 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 3 篇 工学
    • 3 篇 电子科学与技术(可...
    • 1 篇 机械工程

主题

  • 3 篇 光刻热点检测
  • 1 篇 光学邻近校正
  • 1 篇 检测精度
  • 1 篇 改进ghost模块
  • 1 篇 sigmoid线性单元激...
  • 1 篇 改进yolov5s
  • 1 篇 坐标注意力机制
  • 1 篇 网格索引
  • 1 篇 集成电路
  • 1 篇 yolov5
  • 1 篇 深度学习
  • 1 篇 scylla交并比损失...
  • 1 篇 半监督学习

机构

  • 2 篇 华中科技大学
  • 1 篇 湖北光谷实验室
  • 1 篇 安徽理工大学

作者

  • 2 篇 吴清岳
  • 1 篇 徐辉
  • 1 篇 黄文馨
  • 1 篇 马瑞君
  • 1 篇 刘佳敏
  • 1 篇 刘世元
  • 1 篇 肖鑫忠
  • 1 篇 江浩
  • 1 篇 张松
  • 1 篇 袁野

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"主题词=光刻热点检测"
3 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
基于改进Yolov5s的光刻热点检测算法
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激光与光电子学进展 2023年 第24期60卷 243-251页
作者: 吴清岳 刘佳敏 张松 江浩 刘世元 华中科技大学智能制造装备与技术全国重点实验室 湖北武汉430074 湖北光谷实验室 湖北武汉430074
光刻热点检测是实现集成电路可制造性设计,保障集成电路芯片最终良率的关键。鉴于传统基于深度学习的光刻热点检测方法难以满足先进集成电路制造对检测精度的要求,提出了一种基于改进Yolov5s的检测算法,用于光刻版图热点缺陷的精确检测... 详细信息
来源: 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
基于深度学习的光刻热点检测方法研究
基于深度学习的光刻热点检测方法研究
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作者: 吴清岳 华中科技大学
学位级别:硕士
随着半导体技术的不断发展,光刻成像系统由于光的衍射效应会产生光学邻近效应现象,使光刻成像产生畸变,进而导致光刻热点的产生。尽管业界采用光学邻近校正技术来减缓这种效应,但版图中依然存在少量难以解决的光刻热点。因此在光学邻近... 详细信息
来源: 同方学位论文库 同方学位论文库 评论
基于改进Ghost的半监督光刻热点检测方法
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重庆工商大学学报(自然科学版) 2024年
作者: 肖鑫忠 马瑞君 徐辉 黄文馨 袁野 安徽理工大学计算机科学与工程学院
【目的】 鉴于传统的半监督光刻热点检测方法逐渐无法满足集成电路制造对检测精度的要求,且难以解决数据集不平衡引起的精度损失问题,提出一种新的半监督光刻热点检测模型GSSL。【方法】 在该模型中,将卷积注意力模块(Convolutional ... 详细信息
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论