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光子学报 2024年第4期53卷 11-19页

作者：汤丽峰胡中文陈儒周楠季杭馨中国科学院南京天文光学技术研究所南京210042 中国科学院天文光学技术重点实验室(南京天文光学技术研究所) 南京210042 中国科学院大学北京100049 中国科学院大学南京学院南京211135

天文光谱仪的成像质量可用点扩散函数或线扩散函数来表征,但其相对于光谱仪探测器通常为欠采样,很难直接测量。在新一代帕洛马天文台光谱仪的像质测试中引入虚拟刀口法进行光源物面扫描,并应用虚拟刀口法开展欠采样光谱仪像质及光源尺... 详细信息

天文光谱仪的成像质量可用点扩散函数或线扩散函数来表征,但其相对于光谱仪探测器通常为欠采样,很难直接测量。在新一代帕洛马天文台光谱仪的像质测试中引入虚拟刀口法进行光源物面扫描,并应用虚拟刀口法开展欠采样光谱仪像质及光源尺度测量,通过模拟和实验研究,对比分析过采样经典直边刀口法和过采样直接测量方法,验证了虚拟刀口法具有良好的测量精度。在693 nm处,直边刀口法测得光谱仪过采样线扩散函数的半高全宽为7.05μm,虚拟刀口法测量欠采样线扩散函数的半高全宽为7.14μm,测量误差为1.3%。在0.3"视场的光源尺度下,虚拟刀口法测得689、693、701 nm欠采样线扩散函数的半高全宽分别为24.2、27.7、30.8μm,以过采样直接测量结果为参考,其测量准确度分别为98.3%,93.9%和88.8%。实验结果表明,探测器成像严重欠采样时,采用光源物面扫描的虚拟刀口法可准确测量光谱仪的成像质量,该方法结合色散系数还可实现光谱仪分辨率的测量,相关研究工作可为天文光谱仪像质的直接测量提供借鉴。

关键词：点扩散函数线扩散函数虚拟刀口欠采样成像像质测量

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DLP光机投影屏特性测量系统的研究

DLP光机投影屏特性测量系统的研究

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作者：黄丹丹浙江大学

学位级别：硕士

DLP数字光处理技术是目前较先进的投影显示技术,但是对DLP光机投影屏特性测量系统的研究尚属探索阶段。论文首先介绍了DLP投影系统的工作原理与特点,它是利用人眼视觉滞留特性,采用DMD快速翻转,调制红绿蓝三色光,由时间混色得到各种彩... 详细信息

DLP数字光处理技术是目前较先进的投影显示技术,但是对DLP光机投影屏特性测量系统的研究尚属探索阶段。论文首先介绍了DLP投影系统的工作原理与特点,它是利用人眼视觉滞留特性,采用DMD快速翻转,调制红绿蓝三色光,由时间混色得到各种彩色。因此DLP光机投影屏像质特性的测量原理、方法不同于传统的显示屏屏质的测量,其特点是:利用CCD对准DLP光机投影屏上单个像元(即一个DMD像素单元)进行点扩展函数测量,光强度高,要求CCD曝光时间短,小于1/10000秒;CCD曝光时间必须与被测屏的图形信号同步,为全屏快速测量,至少需要九个CCD,它们之间亦需要同步。论文根据上述特点提出了利用外部触发、脉冲宽度控制,并使用CCD实现测量DLP光机投影屏像质的测量系统的方案,它由绿色传感模块、同步单元、信号发生子系统、光电转换(CCD)子系统、图像采集子系统和计算机六个部件组成。设计制作了绿色传感模块、同步单元,研究了信号发生、CCD曝光与读写、图像采集等各个子系统的工作特点及它们之间的时序关系,建立了测量装置系统。根据用户要求和功能需要,DLP光机投影屏特性测量的软件系统分为主控制模块、光度测量模块和像质测量模块。光度测量模块包括色度测量子模块和亮度测量子模块。像质测量模块划分为三个子模块:初始化配置子模块、获取图像数据子模块、傅立叶变换子模块。初始化配置子模块负责正确配置像质测量系统的硬件,并根据主控制模块传入的参数进行对应的软件设置。获取图像数据子模块负责控制信号发生子系统、图像采集子系统,从而获取光电转换子系统CCD的图像数据。傅立叶变换子模块把图像数据进行变换,以得到光学传递函数参量。编制了以上全部软件程序,实现了全自动控制,可选用自动或手动方式测量。建立的DLP光机投影屏特性测量系统经多次调试改进,较长时间的试用测量表明,光度测量结果与国外成熟的测量系统相比,偏差小于5%;像质实测结果符合理论分析,像质测量的稳定性的变异系数(均方根误差/平均测量值)小于3.5%,重现性的变异系数小于4.5%,达到了设计要求,能为DLP光机和DLP投影仪的研究和生产提供有力的技术指标测量手段。

关键词： DLP光机像质测量时序硬件调试软件系统测试

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球面像差的容限——一种工艺窗口的实验性研究(英文)

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电子工业专用设备 2005年第10期34卷 30-34页

作者： Zhiyong Wang Ping Zheng Qiang Wu Huahong NEC Electronics Company Ltd. Shanghai 201206 P.R. China

球面像差能破坏光刻的成像质量。它不仅影响工艺窗口, 即, 曝光容裕度和焦深( DOF ),而且也降低了掩模误差因子( MEF ), 这能导致附加的掩模费用。尽管最近已经报道了一些系统的测量方法, 但这种像差的程度到实际实验工艺窗口的降级之... 详细信息

球面像差能破坏光刻的成像质量。它不仅影响工艺窗口, 即, 曝光容裕度和焦深( DOF ),而且也降低了掩模误差因子( MEF ), 这能导致附加的掩模费用。尽管最近已经报道了一些系统的测量方法, 但这种像差的程度到实际实验工艺窗口的降级之间的关系尚无清楚的文献证明。在此, 将首先提出一种简单的用规则的铬栅格图形测量球面像差的方法。我们也将根据两台深紫外扫描光刻机提出球面像差和工艺窗口的数据。业已发现有些扫描光刻机的峰值波前误差可达0.1个波型。均方根( rms)波前误差数据与测量到的工艺窗口降级和掩模误差因子对于关键接触孔和多层栅有很好的联系。

关键词：光刻工艺窗口掩模误差因子像质测量

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