咨询与建议

限定检索结果

文献类型

  • 3 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 3 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 3 篇 工学
    • 1 篇 材料科学与工程(可...
    • 1 篇 电子科学与技术(可...
    • 1 篇 化学工程与技术
  • 1 篇 理学
    • 1 篇 物理学

主题

  • 3 篇 低介电常数绝缘介...
  • 2 篇 制备方法
  • 1 篇 专利
  • 1 篇 氟化铝
  • 1 篇 碳酸钡
  • 1 篇 碳酸盐
  • 1 篇 低压室
  • 1 篇 次氧化锌
  • 1 篇 纳米氧化铝
  • 1 篇 易溶性氢氧化铝
  • 1 篇 水化硅酸镁
  • 1 篇 镀金属
  • 1 篇 真空室
  • 1 篇 对管例相器单元电...
  • 1 篇 碳渣
  • 1 篇 株式会社
  • 1 篇 申请人
  • 1 篇 专利申请号
  • 1 篇 表面处理
  • 1 篇 集成电路

机构

  • 1 篇 台湾集成电路制造...
  • 1 篇 复旦大学

作者

  • 1 篇 张卫
  • 1 篇 李伟
  • 1 篇 王季陶
  • 1 篇 王鹏飞
  • 1 篇 丁士进

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"主题词=低介电常数绝缘介质"
3 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
专利技术
收藏 引用
无机盐工业 2005年 第4期 61-62页
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
低k介质对CMOS芯片动态功耗的影响
收藏 引用
自然科学进展(国家重点实验室通讯) 2001年 第3期11卷 317-321页
作者: 王鹏飞 丁士进 张卫 王季陶 李伟 复旦大学电子工程系 上海200433 台湾集成电路制造公司
利用CMOS电路动态功耗模型,对采用不同介电常数绝缘介质的CMOS集成电路进行模拟,研究了不同特征尺寸集成电路中低介电常数绝缘介质薄膜对电路动态功耗的影响。发现集成电路特征尺寸越小,电路功耗-延迟积与金属互连长度的线性关系越好。... 详细信息
来源: 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
专利
收藏 引用
表面技术 2008年 第4期 3-3页
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论