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  • 9 篇 期刊文献

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  • 9 篇 电子文献
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    • 2 篇 材料科学与工程(可...
    • 2 篇 电气工程
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    • 1 篇 化学工程与技术
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    • 1 篇 化学

主题

  • 9 篇 位错对
  • 2 篇 单晶
  • 2 篇 晶形
  • 2 篇 位错密度
  • 2 篇 晶体
  • 1 篇 蚀坑
  • 1 篇 位错结构
  • 1 篇 刃位错
  • 1 篇 单晶硅材料
  • 1 篇 激光性能
  • 1 篇 析出过程
  • 1 篇 硬化效果
  • 1 篇 电压
  • 1 篇 管芯
  • 1 篇 边界条件
  • 1 篇 合金时效
  • 1 篇 旋涡缺陷
  • 1 篇 alloy
  • 1 篇 电容器
  • 1 篇 减反射膜

机构

  • 1 篇 中国科学院上海光...
  • 1 篇 北京钢铁学院
  • 1 篇 中南矿冶学院
  • 1 篇 河北工学院
  • 1 篇 武汉大学
  • 1 篇 内蒙古大学
  • 1 篇 中南大学

作者

  • 1 篇 硲野重喜
  • 1 篇 易丹青
  • 1 篇 乔景文
  • 1 篇 张纬斌
  • 1 篇 文建国
  • 1 篇 刘阳平
  • 1 篇 韩德伟
  • 1 篇 路钢华
  • 1 篇 张文奇
  • 1 篇 王云辉
  • 1 篇 周明哲
  • 1 篇 王仁卉
  • 1 篇 村冈久志
  • 1 篇 童建筑
  • 1 篇 季秉厚
  • 1 篇 孙以材
  • 1 篇 川井秀夫
  • 1 篇 张存生
  • 1 篇 贾延琳
  • 1 篇 宋大有

语言

  • 9 篇 中文
检索条件"主题词=位错对"
9 条 记 录,以下是1-10 订阅
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位错对耿二极管振荡效率的影响
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微纳电子技术 1974年 第11期 8-10页
作者: 田中修平 朱毓铬
耿二极管作为几千兆到几十千兆范围内的超高频固体振荡源越来越普遍,因此要求高可靠性。已有关于制作二极管用晶片的结晶缺陷影响可靠性的报告,然而至今未见振荡效率和结晶缺陷之间关系的文章。本文叙述了GaAsα—位错对振荡效率的影响... 详细信息
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微量元素、织构和位错对低压(16V)电容器用阳极箔比电容的影响
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中南大学学报(自然科学版) 1982年 第1期 55-61+129-130页
作者: 张纬斌 韩德伟 王云辉 于锋 罗继民 谭雪成 中南矿冶学院材料科学与工程系
本文研究了含微量 Mg—Nd、Cd 的低压(16V)电容器阳极铝箔比电容。实验表明:成份位于一定范围的退火 Al-Mg-Nd 和 Al-Cd 合金箔,与纯铝箔相比,有较高的比电容。其原因在于微量元素提高了铝箔表面(100)织构的含量;同时,也增加了正方形蚀... 详细信息
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在YAG:Nd晶体中位错对激光特性的影响
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光学学报 1982年 第3期 259-269页
作者: 邓佩珍 乔景文 钱振英 中国科学院上海光学精密机械研究所
本文用双折射貌相法和化学腐蚀法测定了六根晶体棒中的位错分布和位错密度,用光学方法检验了晶体的光学质量,晶体的激光性能是在一台Q开关YAG激光装置上测定的。实验表明当位错密度增加到一定程度时,位错形成的应力场会引起明显的双折射... 详细信息
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单晶硅中位错对CBED的零阶Laue带花样影响的实验观察
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电子显微学报 1988年 第3期 174-174页
作者: 文建国 王仁卉 路钢华 武汉大学物理系 武汉大学物理系 中科院沈阳金属研究所
我们用大角度会聚束电子衍射(简称CBED)系统地研究了单晶硅中位错特征及入射束会聚点位置CBED的零阶Laue带(简称ZOLZ)花样的影响,并用衍衬法这些位错进行了鉴定。实验表明:刃位错使ZOLZ花样压缩或伸张(图1),螺位错使ZOLZ花样两部分... 详细信息
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复拉单晶硅材料的高位错密度太阳电池性能影响的研究
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内蒙古大学学报(自然科学版) 1986年 第4期 681-685页
作者: 张存生 季秉厚 内蒙古大学物理系 内蒙古大学物理系
本文报道用高位错密度ND=106~1010废次复拉单晶硅制作太阳电池,研究了位错对太阳电池性能的影响。用损伤吸杂、重掺磷及氢化处理可以消除高位错密度太阳电池特性的影响。实验结果表明,经上述方法处理,以高位错密度单晶硅制备的太阳电... 详细信息
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预变形2E12铝合金时效析出过程的影响
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稀有金属材料与工程 2010年 第12期39卷 2107-2111页
作者: 周明哲 易丹青 贾延琳 刘阳平 中南大学 湖南长沙410083
通过DSC热分析、显微硬度测试、透射电镜分析等研究了预变形2E12铝合金时效析出过程的影响。结果表明:2E12铝合金表现为双阶段时效硬化特征,预变形降低了合金时效第1阶段硬化效果,提高了合金峰时效硬度,缩短了峰时效时间;随预变形量... 详细信息
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硅单晶的热处理问题
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稀有金属 1980年 第3期 67-75页
作者: 孙以材 河北工学院
一、引言硅单晶的热处理工艺在我国已开始受到重视,并开展了这方面的研究工作。在国外,热处理工艺已经是许多半导体硅生产厂家的必要工艺环节。热处理的好处在于: (a) 稳定电阻率,改善截面均匀性,消除杂质条纹; (b) 消除晶体内应力和机... 详细信息
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单晶技术
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上海有色金属 1973年 第1期 73-83页
作者: 村冈久志 川井秀夫 硲野重喜 宋大有
七十年代,硅单晶进入了一个新的发展阶段。一个是所谓完整晶体的质的方向,一个是所谓大容量、自动化设备方面的转折期的到来。前者为金属-氧化物——半导体大规模集成电路或功率器件所要求,受到东芝的PCT(完整晶体器件工艺)的很大刺激,... 详细信息
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工业纯铁中形变氢渗透的作用
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中国腐蚀与防护学报 1986年 第1期 42-48页
作者: 朱日彰 童建筑 张文奇 北京钢铁学院
形变氢渗透的作用与拉伸过程及实验初始和边界条件有关。当初始条件是样品中未充氢时,形变不利于氢渗透;当初始条件是样品中充满氢时,形变有助于氢向外渗出。当边界条件是维持充氢时,形变不利于氢渗透;在停止充氢的条件下,形变使氢通... 详细信息
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