检索结果-南通市图书馆

作者：吴天赐华中科技大学

学位级别：硕士

光谱椭偏仪是一种利用偏振光学原理来测量薄膜样件的精密光学仪器,通过对光谱椭偏测量数据的分析,可以获得有用的薄膜光学特性和膜厚。传统光谱椭偏数据分析过程中,操作人员根据自身光学经验知识手动选择介电函数模型,专业知识要求高且... 详细信息

光谱椭偏仪是一种利用偏振光学原理来测量薄膜样件的精密光学仪器,通过对光谱椭偏测量数据的分析,可以获得有用的薄膜光学特性和膜厚。传统光谱椭偏数据分析过程中,操作人员根据自身光学经验知识手动选择介电函数模型,专业知识要求高且分析结果因人而异。本论文围绕光谱椭偏数据分析中介电函数模型构建这一问题,结合人工智能、机器学习中的相关方法,提出开展光谱椭偏数据分析中介电函数模型的智能选取研究,论文的主要研究内容和创新点如下:(1)系统研究了椭偏数据分析的基本流程和原理,阐述了椭偏数据分析流程中的光学特性建模(包括多层膜系反射/透射特性模型和介电函数模型)和基于非线性回归的参数提取方法。(2)针对传统椭偏数据分析中介电函数模型选择特别依赖经验和先验知识,操作复杂,分析结果因人而异等问题,提出了基于支持向量机的介电函数模型自动识别方法,降低了建模时人为因素的影响,保证了分析效果的一致性。(3)提出了基于信息理论准则的椭偏数据分析模型评判方法,综合考虑椭偏数据分析中模型的拟合效果以及复杂度,实现了椭偏数据分析模型更为合理地评判与选择。(4)开发了椭偏数据分析中介电函数模型智能选取系统,具体包括色散振子的智能分类、介电函数模型集的生成和模型选择等模块。针对开发的系统,开展了实验验证,结果表明:介电函数模型的智能选取系统能够得到一个拟合精度高且模型结构相对简单的模型。

关键词：光谱椭偏仪数据分析介电函数模型支持向量机自动识别

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NiSiO2太阳光谱选择吸收涂层的设计制备及热稳定性研究

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功能材料 2018年第9期49卷 9101-9106页

作者：武永鑫王聪中国大唐集团科学技术研究院有限公司北京100040 北京航空航天大学物理学院凝聚态物理与材料物理研究中心北京100191

采用软件模拟辅助实验的方式制备了新型Al/NiSiO_2(M)/NiSiO_2(D)/SiO_2太阳光谱选择吸收涂层,并对其热稳定性进行了研究。使用磁控溅射技术,通过改变氧气(O_2)流量制备了一系列NiSiO_2膜层,研究了O_2流量对膜层光学性能的影响,并使用... 详细信息

采用软件模拟辅助实验的方式制备了新型Al/NiSiO_2(M)/NiSiO_2(D)/SiO_2太阳光谱选择吸收涂层,并对其热稳定性进行了研究。使用磁控溅射技术,通过改变氧气(O_2)流量制备了一系列NiSiO_2膜层,研究了O_2流量对膜层光学性能的影响,并使用光学模拟软件对涂层进行设计和优化。根据模拟优化结果在不锈钢基底上成功制备了Al/NiSiO_2(M)/NiSiO_2(D)/SiO_2光谱选择吸收涂层,其吸收率(α)为0.933,400℃下的发射率(ε)为0.14。涂层在空气中450℃高温下热处理100h后,其吸收率与发射率之比(α/ε)由6.66上升至7.62,依然保持着较高的光谱选择性,表明涂层具有较好的热稳定性。

关键词：光谱选择吸收涂层介电函数模型磁控溅射光学模拟

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基于椭偏光谱的磁性金属薄膜介电函数温度响应特性研究

基于椭偏光谱的磁性金属薄膜介电函数温度响应特性研究

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作者：洪琳华中科技大学

学位级别：硕士

近年来,磁性材料,尤其是低维的磁性纳米薄膜已成为磁性存储、微机电系统磁执行器、磁传感器中的重要构件,其磁学特性往往直接决定了器件的诸多性能。为了全面获取不同环境温度下磁性材料的光学特性,进而分析材料光学特性的温度响应特性... 详细信息

近年来,磁性材料,尤其是低维的磁性纳米薄膜已成为磁性存储、微机电系统磁执行器、磁传感器中的重要构件,其磁学特性往往直接决定了器件的诸多性能。为了全面获取不同环境温度下磁性材料的光学特性,进而分析材料光学特性的温度响应特性,本论文采用光谱椭偏测量的方法,系统研究了Ni金属薄膜和Co金属薄膜介电函数对温度的响应特性,论文的主要研究内容如下:(1)分析了磁性金属薄膜的特点,并根据其特点,提出了磁性金属薄膜光谱椭偏分析流程和对应的参数分析方法。并以Cu薄膜和Ni薄膜为例开展了比对分析。(2)完成了Ni、Co金属薄膜在有磁激励和无磁激励下的常温椭偏测量实验,以阐述常温下外部磁激励对Ni、Co薄膜光学属性的影响。通过实验结果分析发现,在室温300K下,随着外界磁场的激励,Ni、Co薄膜从顺磁态转变为铁磁态,其介电函数也会发生相应改变。(3)完成了无磁激励条件下Ni、Co金属薄膜300K～900K温度变化下的椭偏测量实验,以阐述温度对顺磁态Ni、Co薄膜光学属性的影响。结果显示,非磁激励下Ni薄膜,其椭偏参数在300K～600K内随着温度增加而向上平移,而在600K以上则是随着温度增加而向下平移。非磁激励下Co薄膜的椭偏参数在300K～400K内略向下平移,而在400K以上则是随着温度增加而向上平移。(4)初步开展了充磁后Ni、Co薄膜300K～900K温度变化下的椭偏测量实验,以阐述温度对铁磁态Ni、Co薄膜光学属性的影响,为将来磁场作用下磁性材料光学特性温度响应研究奠定了基础。

关键词：光谱椭偏分析磁性金属薄膜介电函数模型温度响应特性

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