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文献类型

  • 1 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 1 篇 电子文献
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日期分布

学科分类号

  • 1 篇 工学
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 1 篇 微电子器件
  • 1 篇 导向自组装光刻
  • 1 篇 深紫外光刻
  • 1 篇 先进工艺节点
  • 1 篇 光刻
  • 1 篇 亚十纳米制造

机构

  • 1 篇 复旦大学

作者

  • 1 篇 李自力
  • 1 篇 熊诗圣
  • 1 篇 胡晓华

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=亚十纳米制造"
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亚十纳米导向自组装与深紫外混合光刻技术
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引用
激光与光电子学进展 2022年 第9期59卷 438-453页
作者： 李自力 胡晓华 熊诗圣 复旦大学信息科学与工程学院 上海200438
光刻图形化工艺对芯片制造乃至于现代信息技术的发展起着至关重要的作用。随着微电子器件关键尺寸的持续微缩,芯片制造工艺日益演进,迫切需要立足国内产业现状,开发用于先进工艺节点的下一代光刻工艺。导向自组装(DSA)光刻技术是一种基... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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