检索结果-南通市图书馆

科学（中文版） 1992年第2期 51-57页

作者： Orloff,J 黄炜

聚焦离子束加工的硅酸钇波导中铕离子的光学与超精细跃迁

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物理学报 2024年第22期73卷 115-123页

作者：肖懿鑫朱天翔梁澎军王奕洋周宗权李传锋中国科学技术大学中国科学院量子信息重点实验室合肥230026 中国科学技术大学量子网络安徽省重点实验室合肥230026 合肥国家实验室合肥230088

量子存储是大尺度量子网络的重要组成部分,基于波导等微纳结构的可集成量子存储可以提供更好的可扩展性并实现更低的光电能耗.在众多量子存储候选介质中,^(151)Eu^(3+):Y_(2)SiO_(5)晶体具有长达6 h的自旋相干寿命和1 h的相干光存储时间... 详细信息

量子存储是大尺度量子网络的重要组成部分,基于波导等微纳结构的可集成量子存储可以提供更好的可扩展性并实现更低的光电能耗.在众多量子存储候选介质中,^(151)Eu^(3+):Y_(2)SiO_(5)晶体具有长达6 h的自旋相干寿命和1 h的相干光存储时间,成为长寿命存储的优异候选材料.本文通过聚焦离子束在^(151)Eu^(3+):Y_(2)SiO_(5)晶体表面加工出三角形悬梁臂波导,波导截面的边长为2μm,长度为20μm,并对三角形悬梁臂波导中的^(151)Eu^(3+)离子的^(7)F_(0)-^(5)D_(0)光学跃迁以及^(7)F_(0)基态的超精细跃迁开展了研究.结果显示,在2μm尺度的悬梁臂波导中^(151)Eu^(3+)离子基本保持了和块状晶体中^(151)Eu^(3+)离子一致的跃迁展宽及相干寿命,可以支持量子存储任务的实现.该工作为实现纳米尺度的^(151)Eu^(3+)离子可集成量子存储器以及单个^(151)Eu^(3+)离子的探测打下基础.

关键词：稀土掺杂晶体量子存储聚焦离子束量子信息

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聚焦离子束研制半导体材料光子晶体

物理学报 2007年第2期56卷 916-921页

作者：许兴胜熊志刚金爱子陈弘达张道中中国科学院半导体研究所光电子集成国家重点实验室北京100083 中国科学院物理研究所北京100080

介绍了利用聚焦离子束设备在多种半导体材料上成功研制的近红外波段二维光子晶体,给出了相关微加工结果,发现微加工的尺寸和理论设计尺寸相吻合;测试了所加工的无源光子晶体光子带隙和有源光子晶体的发光谱.实验证明聚焦离子束可以研制... 详细信息

介绍了利用聚焦离子束设备在多种半导体材料上成功研制的近红外波段二维光子晶体,给出了相关微加工结果,发现微加工的尺寸和理论设计尺寸相吻合;测试了所加工的无源光子晶体光子带隙和有源光子晶体的发光谱.实验证明聚焦离子束可以研制二维光子晶体及相关光子晶体器件.

关键词：聚焦离子束半导体材料光子晶体

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聚焦离子束加工微锥形结构的制造误差分析

天津大学学报（自然科学与工程技术版） 2015年第9期48卷 827-833页

作者：徐宗伟申雪岑李云涛李康林枫贾瑞丽天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室天津300072 天津市微纳制造技术有限公司天津300457

聚焦离子束(FIB)纳米制造技术已经成为微纳米尺度功能器件加工的一种重要方法,利用聚焦离子束直写加工可实现复杂二维微纳结构的高精度制造.然而由于离子溅射产额随入射角度非线性变化规律、再沉积现象及离子束能量分布特性的综合影响,... 详细信息

聚焦离子束(FIB)纳米制造技术已经成为微纳米尺度功能器件加工的一种重要方法,利用聚焦离子束直写加工可实现复杂二维微纳结构的高精度制造.然而由于离子溅射产额随入射角度非线性变化规律、再沉积现象及离子束能量分布特性的综合影响,FIB在三维结构加工中会存在复杂形貌误差.针对FIB加工凹面中存在的典型平底现象这一形貌误差进行了分析和实验研究,通过仿真分析和FIB加工直径4,μm锥形凹坑结构的实验验证,阐明了聚焦离子束高斯能量分布特性与溅射产额规律耦合是产生平底现象的主要原因,为FIB三维结构加工的误差的修正提供了重要的基础和依据.

关键词：聚焦离子束微纳制造直写加工三维结构加工高斯分布溅射产额

聚焦离子束系统中图形发生及自动套准系统的研究

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电子学报 1998年第5期26卷 69-71页

作者：张恝恕杜秉初陈华周永健清华大学电子工程系北京100084

本文描述了一种用于聚焦离子束系统的图形发生器和自动套准系统的研究和实现，并探讨了发展和改进的方向．该系统采用硬件实现扫描控制和坐标变换．在我们的实验条件下，实现了单场扫描2秒钟，套准计算4秒钟．该系统同样也适用于电子束... 详细信息

本文描述了一种用于聚焦离子束系统的图形发生器和自动套准系统的研究和实现，并探讨了发展和改进的方向．该系统采用硬件实现扫描控制和坐标变换．在我们的实验条件下，实现了单场扫描2秒钟，套准计算4秒钟．该系统同样也适用于电子束曝光机系统。

关键词：聚焦离子束图形发生自动套准电子束曝光机

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聚焦离子束辐照对MOS晶体管性能的影响

固体电子学研究与进展 2007年第3期27卷 295-300页

作者：宋云陆海纬陈忠浩张兆强郑国祥李越生曾韡复旦大学材料科学系上海200433

聚焦离子束(Focusedionbeam)系统现在被广泛应用于大规模集成电路的修补中,FIB辐照对器件性能的影响受到广泛的关注。研究了两种栅尺寸的NMOS晶体管(20μm×20μm和20μm×0.8μm)在不同辐射剂量作用下的阈值电压变化情况,发现在辐射后... 详细信息

聚焦离子束(Focusedionbeam)系统现在被广泛应用于大规模集成电路的修补中,FIB辐照对器件性能的影响受到广泛的关注。研究了两种栅尺寸的NMOS晶体管(20μm×20μm和20μm×0.8μm)在不同辐射剂量作用下的阈值电压变化情况,发现在辐射后的阈值电压都发生了明显的漂移,辐照后的晶体管阈值电压在室温环境下静置数日后有约30%的恢复,而在退火条件下阈值电压几乎完全恢复。文中从理论上对电离辐射引起阈值电压的漂移予以解释,使实际的电路修补工作最优化,从而确保器件在修补后的可靠性。

关键词：聚焦离子束电离辐射金属氧化物半导体晶体管阈值电压

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聚焦离子束系统的研制

清华大学学报（自然科学版） 1997年第10期37卷 57-60页

作者：汪健如应根裕杜秉初汪荣军清华大学电子工程系

研制了一台具有二级透镜的聚焦离子束（ＦＩＢ）装置。它利用液态金属离子源：镓和金硅合金。离子束束斑在０．３μｍ左右，最小束斑达０．２１μｍ。能稳定、长时间地运行。文中论述了该系统的总体结构，对聚焦离子束系统的核心部件离... 详细信息

研制了一台具有二级透镜的聚焦离子束（ＦＩＢ）装置。它利用液态金属离子源：镓和金硅合金。离子束束斑在０．３μｍ左右，最小束斑达０．２１μｍ。能稳定、长时间地运行。文中论述了该系统的总体结构，对聚焦离子束系统的核心部件离子光学系统及辅助系统的参数选择、以及它们的结构特点作了详细的讨论，最后给出了系统的实验结果。并用离子束进行刻蚀工艺的研究，给出了ＦＩＢ在镀了一层金膜的硅样品进行刻蚀的电子扫描显微镜照的图象。

关键词：聚焦离子束刻蚀半导体器件液态金属离子源

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聚焦离子束再沉积修正方法的元胞自动机验证

光学精密工程 2021年第9期29卷 2108-2115页

作者：陈杰马邦俊王晓龙韩添廖俊生中国工程物理研究院材料研究所四川绵阳621908 东南大学机械工程学院江苏南京211189

利用聚焦离子束技术加工微结构时,由于溅射过程的再沉积效应,难以获得较为陡直的侧壁,对于高深宽比微结构尤甚。为优化聚焦离子束的加工工艺,提出一种单像素线辅助溅射刻蚀方法,对非陡直侧壁进行局部刻蚀修正,以期改善再沉积现象,提高... 详细信息

利用聚焦离子束技术加工微结构时,由于溅射过程的再沉积效应,难以获得较为陡直的侧壁,对于高深宽比微结构尤甚。为优化聚焦离子束的加工工艺,提出一种单像素线辅助溅射刻蚀方法,对非陡直侧壁进行局部刻蚀修正,以期改善再沉积现象,提高侧壁陡直度。采用元胞自动机算法,对该方法应用于溅射过程时各参数对刻蚀结果的影响进行了数值模拟,获得了V型截面侧壁的修正效果,指出实际加工中局部刻蚀修正的位置选择存在着侧壁再沉积改善和离子束斑扩展之间的矛盾。聚焦离子束刻蚀实验验证了该方法的有效性,确定了局部刻蚀修正的最佳位置,在刻蚀宽度100 nm的圆环微结构时,沟道侧壁的校正效果较好,获得了深宽比为3∶1的沟槽结构。该方法可为相似微结构再沉积现象削弱提供技术支持。

关键词：聚焦离子束再沉积效应高深宽比侧壁校正

基于聚焦离子束纳米剪纸/折纸形变的三维微纳制造技术及其光学应用

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物理学报 2019年第24期68卷 1-19页

作者：陈珊珊刘幸刘之光李家方北京理工大学物理学院教育部先进光电量子结构设计与测量重点实验室北京市纳米光子学与超精密光电系统重点实验室北京100081 中国科学院物理研究所光物理重点实验室北京100190

高精度的三维微纳制造技术是现代光电子学和微纳光子学发展的重要基础之一,是实现下一代微纳光子集成器件的重要前提.纳米尺度的剪纸和折纸技术由于能够实现丰富的三维形变,正发展成为一门新兴的研究领域.本文系统地介绍了一种新型的片... 详细信息

高精度的三维微纳制造技术是现代光电子学和微纳光子学发展的重要基础之一,是实现下一代微纳光子集成器件的重要前提.纳米尺度的剪纸和折纸技术由于能够实现丰富的三维形变,正发展成为一门新兴的研究领域.本文系统地介绍了一种新型的片上三维微纳加工方法基于聚焦离子束的纳米剪纸/折纸技术.该技术利用聚焦离子束辐照具有不同拓扑形貌的自支撑膜片,可实现优于50 nm精度、前所未见的三维形状变换,包括片上、实时的多向折叠、弯曲、扭曲等形变.提出了“树型”纳米剪纸和“闭环”纳米剪纸两种类型的加工方法,并针对不同类型的工艺特性和优缺点进行分析对比.利用全局扫描纳米剪纸技术制备的闭环纳米结构实现了独特的光学效应,包括超光学手性、超构表面衍射、相位和偏振调控以及光子自旋霍尔效应等.研究结果表明,纳米剪纸/折纸形变技术在保持结构复杂性和功能性的同时,可实现高精度、原位、片上、一步成型的三维微纳加工,可望为三维微纳光子器件的设计、制备和应用提供一类新的设计方法和技术途径,乃至为相关微纳光学、微电子、微机电系统、生物医学等领域的发展提供新颖的加工平台.

关键词：三维微纳制造纳米剪纸聚焦离子束光学手性

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聚焦离子束在金属研究中的应用

冶金分析 2012年第7期32卷 7-11页

作者： XHOFFER Chris DHONT Annick WILLEMS Annick 阿塞洛米塔尔研究工业有限公司

由于聚焦离子束(Focused Ion Beam,简称FIB)显微镜的最新运用,材料科学得以迅速发展。钢铁行业中,聚焦离子束技术不仅可以不断将涂料和钝化层变薄,而且特别适用于多相或成分混杂的和/或多孔材料的透射电子显微镜(Transmission Electron ... 详细信息

由于聚焦离子束(Focused Ion Beam,简称FIB)显微镜的最新运用,材料科学得以迅速发展。钢铁行业中,聚焦离子束技术不仅可以不断将涂料和钝化层变薄,而且特别适用于多相或成分混杂的和/或多孔材料的透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,简称TEM)薄片制备。四年前,在ArcelorMittal Gent设备上安装了三重束聚焦离子束仪器。随后利用该仪器对大量的各种各样的材料进行筛选和/或处理,以进一步进行TEM分析。FIB技术成功运用于图层、基体和界面研究领域。比如:1)图层应用:厚度均匀性、缺损性及腐蚀研究;2)衬底分析:裂纹扩展、晶界及晶粒取向;3)界面分析:金属间(化合的)相、扩散和偏聚,外延研究。由于FIB仪器的高成本性以及配套需要的专业操作技能,毫无疑问局限了其在钢铁研究中的日常应用。不过,仍然可以从聚焦离子束制备样品的独特方式中获得许多经济效益,比如更短的样品制备时间、对抽样区域的选择性,当然还有人为因素的影响极其有限。因此,通常情况下,FIB样品制备成为唯一一种可以用于制备透射电子显微镜薄片的途径。FIB同TEM的联用分析技术开启了一个化学的、微结构和晶体信息的新世界,这种新领域将在以下研究中得以体现:1)锌-铝-镁涂层的共晶相表征;2)富铬钝化层的缺损学研究;3)耐候钢的结构组成;4)无锌涂层的微结构:铝/镁显示为纳米晶体状的铝镁多相结构。

关键词：聚焦离子束透射电子显微镜截面涂层