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PECVD形成纳米级薄膜界面陷阱特性的雪崩热电子注入研究

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半导体技术 2004年第1期29卷 51-55页

作者：陈蒲生陈闽捷张昊华南理工大学应用物理系广东广州510640 华南理工大学机电工程系广东广州510640 中电科集团电子第五研究所广东广州510610

采用雪崩热电子注入技术研究了纳米级SiOxNy薄膜界面陷阱特性。证实了PECVD SiOxNy薄膜中界面陷阱来源于悬挂键的物理模型。观察到该纳米膜内存在着受主型电子陷阱,随着注入的增长,界面上产生的这种陷阱将起主导作用。发现到界面陷阱密... 详细信息

采用雪崩热电子注入技术研究了纳米级SiOxNy薄膜界面陷阱特性。证实了PECVD SiOxNy薄膜中界面陷阱来源于悬挂键的物理模型。观察到该纳米膜内存在着受主型电子陷阱,随着注入的增长,界面上产生的这种陷阱将起主导作用。发现到界面陷阱密度随雪崩热电子注入剂量增加而增大,禁带上半部增大得较下半部显著。指出了雪崩注入过程中在SiOxNy界面上产生两种性质不同的电子陷阱,并给出它们在禁带中的位置与密度大小关系。揭示出PECVD法形成的SiOxNy纳米膜与快速热氮化制备的这种薄膜中、氮氧含量不同、界面陷阱特性变化关系不一样,并从形成薄膜氮化机制上予以合理的物理解析。给出了PECVD形成纳米级薄膜的优化工艺条件。

关键词： PECVD 纳米级薄膜界面陷阱雪崩热电子注入 SiOxNy界面

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我国攻克纳米级薄膜材料检测世界难题

塑料科技 2018年第1期46卷 41-41页

在攻克纳米级薄膜材料检测的世界难题上，我国科技人员再出硕果，“功能薄膜材料物理性能检测技术湖北省工程实验室”日前在武汉成立。随着新材料的发展与应用，纳米级薄膜材料在许多领域中被广泛使用，国际上却没有可直接检测薄膜热特... 详细信息

在攻克纳米级薄膜材料检测的世界难题上，我国科技人员再出硕果，“功能薄膜材料物理性能检测技术湖北省工程实验室”日前在武汉成立。随着新材料的发展与应用，纳米级薄膜材料在许多领域中被广泛使用，国际上却没有可直接检测薄膜热特性的设备。1nm仅为1根头发丝直径的六万分之一，如何检测薄膜的热特性成为国际难题，过去需要先把薄膜沉积得很厚，再把待测薄膜材料刮下来，形成一定质量的粉末后，才能进行破坏性检测。

关键词：纳米级薄膜材料检测世界功能薄膜材料破坏性检测科技人员检测技术物理性能

磁控溅射法制备纳米级ZnS薄膜及其性能研究

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四川大学学报（自然科学版） 2008年第3期45卷 619-622页

作者：唐茜黎兵刘才李愿杰冯良桓李卫四川大学材料科学与工程学院成都610064

用磁控溅射技术在玻璃衬底上获得了取向单一的纳米级ZnS薄膜.研究了衬底温度对薄膜结构的影响.得出400℃时沉积的薄膜结晶最好,为六方纤锌矿结构,在可见光范围内有较高的透过率,其光能隙为3.81 eV.

关键词： ZnS 纳米级薄膜

在纳米级薄膜上,飞秒激光实现全彩色无油墨打印

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电子质量 2023年第2期 62-62页

在自然界中,当光照射在细微处大量有序结构上,会发生折射、漫反射、衍射或干涉等反应,由此产生的颜色被称作结构色,比如昆虫和鸟类呈现出的彩色翅膀。这一过程并未用到“颜料”。据报道,西湖大学的仇旻教授和团队成员从这个现象中获得灵... 详细信息

在自然界中,当光照射在细微处大量有序结构上,会发生折射、漫反射、衍射或干涉等反应,由此产生的颜色被称作结构色,比如昆虫和鸟类呈现出的彩色翅膀。这一过程并未用到“颜料”。据报道,西湖大学的仇旻教授和团队成员从这个现象中获得灵感,尝试利用超快激光在材料表面制造微纳结构以产生结构色。近日,国际期刊《自然·通讯》刊登了该团队的研究成果。研究人员将氮化钛和氮化铝钛这两种超硬陶瓷材料组成的复合薄膜作为特殊“纸张”,在其表面利用超快激光进行微纳加工,实现“飞秒激光无墨彩印”,为激光无油墨彩色打印技术的产业化应用提供了新思路。

关键词：全彩色微纳结构超快激光飞秒激光漫反射纳米级薄膜团队成员光照射

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我国攻克纳米级薄膜材料检测世界难题

涂料技术与文摘 2017年第12期38卷 51-51页

在攻克纳米级薄膜材料检测的世界难题上，我国科技人员再出硕果，“功能薄膜材料物理性能检测技术湖北省工程实验室”日前在武汉成立。

关键词：纳米级薄膜材料检测世界功能薄膜材料科技人员检测技术物理性能实验室

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武汉攻克纳米级薄膜材料检测世界难题

橡塑智造与节能环保 2017年第12期1卷 38-38页

武汉在攻克纳米级薄膜材料检测的世界难题上再出硕果——“功能薄膜材料物理性能检测技术湖北省工程实验室”在武汉未来科技城挂牌成立，该实验室由武汉嘉仪通科技有限公司与华中科技大学共同筹建。

关键词：纳米级薄膜材料检测武汉世界功能薄膜材料华中科技大学检测技术物理性能

微接触区中边界膜滑移效应分析:微接触区宽度和表面粗糙度的影响

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工程力学 2010年第6期27卷 215-222页

作者：张勇斌江苏工业学院机械与能源工程学院江苏常州213164

分析研究了微接触区宽度和表面粗糙度对微接触区中边界膜滑移效应的影响。微接触属混合接触,微接触区由边界膜区和传统流体膜区组成。当膜厚较大时,这里边界膜可看成纳米级薄膜。边界膜滑移由较大载荷下边界膜区大的压力梯度引起,在两... 详细信息

分析研究了微接触区宽度和表面粗糙度对微接触区中边界膜滑移效应的影响。微接触属混合接触,微接触区由边界膜区和传统流体膜区组成。当膜厚较大时,这里边界膜可看成纳米级薄膜。边界膜滑移由较大载荷下边界膜区大的压力梯度引起,在两接触表面同时发生。研究结果表明,微接触区宽度的增大使边界膜滑移效应增强,而表面粗糙度增大使边界膜滑移效应减弱甚至可使边界膜不发生滑移。边界膜滑移对微接触性能的影响是:边界膜滑移使通过微接触区的流体流量明显增大,使微接触区的承载能力减小,使微接触区局部压力降低。当边界膜厚度处于1nm量级时,微接触性能分析应考虑边界膜滑移效应,因为此时边界膜滑移可显著降低微接触区局部压力,考虑到实际接触表面为弹性表面,这种压力降低可显著改变接触表面弹性变形量进而影响微接触区的局部膜厚。

关键词：边界膜纳米级薄膜滑移微接触表面粗糙度膜厚

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边界膜剪切弹性模量对于微接触性能的影响

力学学报 2010年第4期42卷 710-718页

作者：张勇斌江苏工业学院机械与能源工程学院常州213164

建立接触模型,理论分析了微接触中边界膜剪切弹性模量对于接触性能的影响.接触区由两平行平面形成,属一维接触.上接触表面为粗糙表面,具有矩形微凸体.下接触表面为光滑平面.两接触表面均处理成刚性表面.微接触区中充满流体.它分成两个子... 详细信息

建立接触模型,理论分析了微接触中边界膜剪切弹性模量对于接触性能的影响.接触区由两平行平面形成,属一维接触.上接触表面为粗糙表面,具有矩形微凸体.下接触表面为光滑平面.两接触表面均处理成刚性表面.微接触区中充满流体.它分成两个子区,在微接触的出口区由于极小的接触间隙充满边界膜,在微接触的入口区由于接触间隙较大充满流体膜.边界膜和流体膜行为决定整个微接触性能.当膜厚较大时,这里边界膜可看成纳米级薄膜.由于上接触表面处有限的剪应力承受能力,边界膜可于上接触表面滑移.设下接触表面处剪应力承受能力很大而边界膜在下接触表面不滑移.由于边界膜-接触表面间相互作用,边界膜黏度、密度和剪切弹性模量均沿膜厚变化,在理论分析中使用它们的等效值,这些值与边界膜厚度有关.流体膜在两个接触表面均不发生滑移,分析中不考虑流体膜剪切弹性模量.流体膜采用传统分析法.给出了理论分析和若干变工况参数下的计算结果.

关键词：边界膜纳米级薄膜流体膜剪切弹性模量微接触

基于局部基底弯曲法的高灵敏度薄膜应力测试技术

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Journal of Semiconductors 2006年第6期27卷 1129-1135页

作者：王莎莎陈兢栗大超黄玉波李志宏北京大学微电子学研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室北京100871 天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室天津300072

针对MEMS(micro electro mechanicalsystem)和NEMS(nano electro mechanicalsystem)对薄膜应力测试的要求,开发了一种新型高灵敏度薄膜应力测试技术,使用自行搭建的准纳米光学干涉测试系统,利用局部基底弯曲来检测薄膜的内应力.该方法... 详细信息

针对MEMS(micro electro mechanicalsystem)和NEMS(nano electro mechanicalsystem)对薄膜应力测试的要求,开发了一种新型高灵敏度薄膜应力测试技术,使用自行搭建的准纳米光学干涉测试系统,利用局部基底弯曲来检测薄膜的内应力.该方法不仅保留了传统基底弯曲法的所有优点,而且消除了其系统误差.使用ANSYS对测试结构进行了模拟和优化,对于30nm厚的薄膜,应力检测的分辨率为1.5MPa,优于目前国际上的相关报道.本测试结构使用各向异性腐蚀和DRIE(deepreactiveionetching)完成,加工工艺简单实用.文中使用该测试技术对常用MEMS薄膜的残余应力进行了测量,结果与其他测试方法得到的结果基本一致,测量重复性优于1%.该技术可以用于测试纳米级薄膜及超低应力薄膜的内应力.

关键词：微机械系统内应力纳米级薄膜基底弯曲法光学干涉测量