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电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素研究

产业创新研究 2024年第14期 96-98页

作者：董丰琦危胜青海黄河水电公司新能源分公司青海西宁810000 青海省新能源材料与储能技术重点实验室青海西宁810000

电子级多晶硅是电子信息产业重要的基础材料,被广泛应用于集成电路、光伏电池、太阳能电池等领域。电子级多晶硅质量的高低直接影响到下游产品的性能和可靠性。因此,深入分析电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素,对于提高产品质量和... 详细信息

电子级多晶硅是电子信息产业重要的基础材料,被广泛应用于集成电路、光伏电池、太阳能电池等领域。电子级多晶硅质量的高低直接影响到下游产品的性能和可靠性。因此,深入分析电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素,对于提高产品质量和加快我国电子信息产业发展具有重要意义。基于此,本文首先概述了电子级多晶硅的发展与现状,并重点分析了影响电子级多晶硅质量的关键因素,以期为电子级多晶硅生产过程的控制和改进提供参考。

关键词：电子级多晶硅制备过程质量影响

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浅谈电子级多晶硅生产控制要点

中国科技期刊数据库工业A 2024年第3期 0203-0205页

作者：赵成武新疆大全新能源股份有限公司新疆石河子832000

现有电子级多晶硅生产工艺,主要采用改良西门子法生产,涉及工艺包括:冷氢化合成工艺、粗三氯氢硅的精馏分离和提纯工艺、三氯氢硅还原工艺、尾气回收工艺、渣浆处理工艺。此种方法以工业硅粉为原料,难免会将金属和硼、磷等杂质引入三氯... 详细信息

现有电子级多晶硅生产工艺,主要采用改良西门子法生产,涉及工艺包括:冷氢化合成工艺、粗三氯氢硅的精馏分离和提纯工艺、三氯氢硅还原工艺、尾气回收工艺、渣浆处理工艺。此种方法以工业硅粉为原料,难免会将金属和硼、磷等杂质引入三氯氢硅。在多晶硅生产过程中如何有效降低三氯氢硅、氢气中杂质含量,及通过对还原工艺参数控制、调整,以降低硅棒表面珊瑚,提升致密料比例,使得产品多晶硅的质量达到电子级多晶硅水平;其次概述了近些年国内关于电子级多晶硅生产过程中,关于杂质高效去除的技术方法,着重探索了电子级多晶硅生产环节关键质量控制点等杂质去除机理;最后提出了在当前国内硅料市场需求朝电子级多晶硅完全生产的趋势下,企业后续应着重加强对多晶硅生产控制、及生产过程中精馏提纯、CLS杂质去除技术的自主研发及创新的研究方向。

关键词：多晶硅电子级多晶硅杂质 TCS H2 还原

CVD反应炉电源系统在高纯电子级多晶硅生产中的应用

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冶金自动化 2024年第S1期 189-193页

作者：刘建中陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司

随着工业半导体的发展，国内高纯电子级多晶硅的生产技术不断取得突破。本文结合高纯电子级多晶硅工艺特点，从高压击穿系统、调功系统和控制保护系统三部分，重点分析研究了CVD反应炉电源系统在高纯电子级多晶硅生产中的应用，并对其... 详细信息

随着工业半导体的发展，国内高纯电子级多晶硅的生产技术不断取得突破。本文结合高纯电子级多晶硅工艺特点，从高压击穿系统、调功系统和控制保护系统三部分，重点分析研究了CVD反应炉电源系统在高纯电子级多晶硅生产中的应用，并对其关键技术的选择进行了分析研究。

关键词：电子级多晶硅电源系统击穿系统调功系统晶闸管

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电子级多晶硅的生产工艺探讨

智能城市应用 2024年第2期7卷 120-122页

作者：霍海洋宗佰利陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司陕西榆林719200

电子级多晶硅是半导体制造中至关重要的材料,其质量和纯度直接影响半导体器件的性能。文章探讨了电子级多晶硅的生产工艺,着重分析了多晶硅技术的特殊性及我国在这一领域的差距,通过对电子级多晶硅生产工艺的详细讨论,包括还原技术、提... 详细信息

电子级多晶硅是半导体制造中至关重要的材料,其质量和纯度直接影响半导体器件的性能。文章探讨了电子级多晶硅的生产工艺,着重分析了多晶硅技术的特殊性及我国在这一领域的差距,通过对电子级多晶硅生产工艺的详细讨论,包括还原技术、提纯技术、耦合生产技术和清洁生产技术等方面的分析,旨在为提高我国电子级多晶硅生产水平提供参考。

关键词：电子级多晶硅生产工艺还原技术提纯技术

电子级多晶硅制备过程中痕量磷杂质的去除研究

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电子级多晶硅制备过程中痕量磷杂质的去除研究

作者：张宇天津大学

学位级别：硕士

电子级多晶硅是半导体工业和集成电路的重要原料,技术的进步对多晶硅产品质量也提出了日益严格的要求。多晶硅生产中循环氢气大量过量,痕量磷杂质若不加以去除,将对多晶硅产品质量产生严重的影响。电子级多晶硅生产过程中磷化氢含量极低... 详细信息

电子级多晶硅是半导体工业和集成电路的重要原料,技术的进步对多晶硅产品质量也提出了日益严格的要求。多晶硅生产中循环氢气大量过量,痕量磷杂质若不加以去除,将对多晶硅产品质量产生严重的影响。电子级多晶硅生产过程中磷化氢含量极低,磷杂质问题成为电子级多晶硅行业发展的瓶颈。因此开发对痕量磷化氢选择性吸附能力强、化学稳定性好、再生性能好的吸附剂成为本课题研究的重点。本文对多晶硅生产中磷化氢去除进行深入研究,并对磷化氢在改性吸附剂上的吸附机理与吸附剂再生机理进行探讨。首先,选取3A分子筛、4A分子筛、5A分子筛、13X分子筛、氧化铝及活性炭作为载体,采用浸渍法进行改性,对载体进行筛选并考察了金属阳离子种类、铜盐种类、浸渍液浓度、煅烧温度、吸附温度、吸附空速对于磷化氢吸附性能的影响。结果表明:Cu Cl/5A改性吸附剂具有优秀的磷化氢净化能力,最优的吸附剂制备条件和吸附操作条件为:浸渍液浓度0.3 mol/L、煅烧温度300℃、吸附温度30℃、吸附空速为1500 h,此时吸附剂穿透吸附容量为12.65 mg/g。在此基础上研究了吸附剂再生性能,实验表明:热空气煅烧是改性吸附剂有效再生手段,三次再生后总吸附容量达到43.3 mg/g。其次,通过实验数据结合BET、XRD、TG-DSC、H-TPR、XPS、SEM-EDS等表征手段分析得出:改性后铜以氯化物和氧化物形式均匀地负载至载体上,Cu O是磷化氢化学吸附中的活性组分,煅烧温度对于Cu O的形成至关重要,最佳的煅烧温度为300℃。当煅烧温度低于250℃时,铜主要以碱式氯化铜形式负载,煅烧温度过高造成吸附剂内部烧结,影响吸附剂性能。最后,探讨了磷化氢在Cu Cl/5A吸附剂上的吸附机理与吸附剂再生机理。改性Cu Cl/5A对于磷化氢的吸附是物理吸附耦合化学吸附,磷化氢首先物理吸附至5A分子筛表面,然后与Cu O反应生成磷酸盐及HPO,Cu O则被还原为CuO,随着化学吸附的不断进行,吸附剂因Cu O含量逐渐降低而失活,热空气内煅烧后重新生成Cu O,磷酸盐分解为PO,吸附剂得到再生。

关键词：电子级多晶硅 5A分子筛磷化氢吸附

基于PolySim电子级多晶硅还原炉三维数值模拟

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人工晶体学报 2019年第1期48卷 144-148页

作者：李有斌张胜涛何银凤梁世民韩金豆付昊赵丽丽青海黄河上游水电开发有限责任公司光伏产业技术分公司西宁810000 哈尔滨工业大学化学与化工学院哈尔滨150001

利用Poly Sim软件建立了国内电子级多晶硅9对棒现役还原炉的三维模型,对还原炉内部的流动、传热进行了数值模拟,得到还原炉内部流场、温场以及硅棒表面温度的分布情况,指出硅棒桥接附近气体流速较小、气体温度及硅棒表面温度过高是该区... 详细信息

利用Poly Sim软件建立了国内电子级多晶硅9对棒现役还原炉的三维模型,对还原炉内部的流动、传热进行了数值模拟,得到还原炉内部流场、温场以及硅棒表面温度的分布情况,指出硅棒桥接附近气体流速较小、气体温度及硅棒表面温度过高是该区域沉积不均匀的主要原因。和实际生产结果对比表明,模拟计算数据的误差不超过5%。

关键词：电子级多晶硅化学气相沉积数值模拟气体循环

结合多晶硅国家标准浅析电子级多晶硅生产控制要点

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中国有色冶金 2021年第2期50卷 59-63页

作者：张鹏远杜俊平洛阳中硅高科技有限公司河南洛阳471000 中国有色工程有限公司北京100036

国内多晶硅生产线大部分是按照太阳能级标准设计建造的,产品质量与电子级多晶硅差距较大。本文通过分析电子级多晶硅国家标准,逐项分析施/受主杂质浓度、少子寿命、碳浓度、氧浓度、基体金属杂质、表面金属杂质、外在品质要求等参数,并... 详细信息

国内多晶硅生产线大部分是按照太阳能级标准设计建造的,产品质量与电子级多晶硅差距较大。本文通过分析电子级多晶硅国家标准,逐项分析施/受主杂质浓度、少子寿命、碳浓度、氧浓度、基体金属杂质、表面金属杂质、外在品质要求等参数,并将以上参数的影响原因归结到生产工艺的具体环节,探究生产电子级多晶硅的技术要点,达到指导技术研发和工艺改进的目的。

关键词：多晶硅电子级多晶硅多晶硅国家标准

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电子级多晶硅生产技术

化工设计通讯 2019年第4期45卷 172-173页

作者：苟海龙新特能源股份有限公司新疆乌鲁木齐830011

电子级多晶硅是多晶硅经过高度提纯所获得的一种材料,广泛应用于高纯硅制品,是人类现代高科技所不可缺少的一种原材料。而随着人类科学技术的发展,对于原材料质量和纯度的要求也不断提升,对此,也产生了对于电子级多晶硅生产技术的探讨... 详细信息

电子级多晶硅是多晶硅经过高度提纯所获得的一种材料,广泛应用于高纯硅制品,是人类现代高科技所不可缺少的一种原材料。而随着人类科学技术的发展,对于原材料质量和纯度的要求也不断提升,对此,也产生了对于电子级多晶硅生产技术的探讨。以全球发展技术状况的阐述作为基础,充分探讨了当前能够获得高质量、高纯度电子级多晶硅的相应生产技术。

关键词：电子级多晶硅高纯硅制品生产技术

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电子级多晶硅生产关键工艺分析

造纸装备及材料 2020年第4期49卷 60-61页

作者：郑盛涛新疆大全新能源股份有限公司新疆石河子832000

文章介绍了几种常见的电子级多晶硅生产技术,分析了我国在该项目中的主要特征和优势,并指出在生产电子级多晶硅时应注意的关键工艺,以期为有关部门提供参考。

关键词：电子级多晶硅生产工艺西门子法硅烷CVD法