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离子刻蚀的概况

真空 1981年第3期 58-62页

作者：陈文浩廖燕南

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溅射光学膜

光学技术 1981年第2期 10-11页

作者：黄天祥

制备固体薄膜的方法很多,其中真空蒸发和溅射是两种主要的方法,电子工业的迅速发展刺激了溅射技术的发展。三极溅射和四极溅射的出现,使溅射薄膜的质量和再现性均有提高。高频溅射更把溅射技术提高到一个新的水平。溅射技术主要应用在... 详细信息

制备固体薄膜的方法很多,其中真空蒸发和溅射是两种主要的方法,电子工业的迅速发展刺激了溅射技术的发展。三极溅射和四极溅射的出现,使溅射薄膜的质量和再现性均有提高。高频溅射更把溅射技术提高到一个新的水平。溅射技术主要应用在电学薄膜中,近十年来,在溅射光学介质薄膜方面也做了一定的工作。

关键词：溅射率光电极值法硒膜高频溅射光学膜

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溅射及其应用

物理 1981年第4期 210-213页

作者：陈国明柳襄怀争世昌中国科学院上海冶金研究所

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高密度等离子体钝化层中电弧放电问题的改善

集成电路应用 2020年第6期37卷 19-21页

作者：田守卫孙洪福胡海天上海华虹宏力半导体制造有限公司上海201203

分析表明,晶圆的电弧放电现象在高密度等离子体钝化层制程中时常发生,随着半导体关键尺寸的减小,电弧放电的概率明显增加,尤其表现在0.13μm及以下晶圆制造过程中。而晶圆一旦发生电弧放电,会严重影响晶圆的良率及可靠性,所以控制及降... 详细信息

分析表明,晶圆的电弧放电现象在高密度等离子体钝化层制程中时常发生,随着半导体关键尺寸的减小,电弧放电的概率明显增加,尤其表现在0.13μm及以下晶圆制造过程中。而晶圆一旦发生电弧放电,会严重影响晶圆的良率及可靠性,所以控制及降低电弧放电的概率可以减少产品的报废。根据电弧放电发生的机理,分析了在高密度等离子体钝化层制程中容易导致电弧放电的因素,从而通过增加衬底层SiO2的厚度,调整沉积钝化层的溅射率,优化整个沉积过程中的沉积溅射比率,可有效降低晶圆电弧放电发生的概率,对0.13μm及以下晶圆的改善尤为显著。

关键词：集成电路制造晶圆高密度等离子体电弧放电钝化层溅射率

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铜离子激光器的放电理论模型

中国激光 1985年第2期 77-81页

作者：余建华龚志伟丘军林华中工学院激光研究所

本文祥细分析了溅射型空心阴极放电(SHCD)铜离子激光器的放电、溅射特性和粒子的相互作用过程,建立了放电模型。该模型由实验得到了验证。

关键词：离子溅射铜离子惰性气体原子亚稳态原子铜原子粒子流溅射率粒子数密度理论模型电荷转移电荷交换离子流密度空心阴极放电阴极暗区彭宁电离电子碰撞电离原子密度

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辉光光谱法在镀层产品质量研究中的应用

辉光光谱法在镀层产品质量研究中的应用

第七届(2009)中国钢铁年会

作者：尹艳清张彬李琳徐静河北钢铁集团邯钢公司技术中心理化研究所

镀锌钢板镀层中残留的有害元素容易因镀层腐蚀而影响产品的质量从而影响产品的使用寿命。本文利用辉光放电光谱仪分别对自制和工业镀锌钢板样品进行了深度分布分析,得到了样品的镀层结构、镀层厚度、镀层组成及各组分的深度分布等信息,... 详细信息

镀锌钢板镀层中残留的有害元素容易因镀层腐蚀而影响产品的质量从而影响产品的使用寿命。本文利用辉光放电光谱仪分别对自制和工业镀锌钢板样品进行了深度分布分析,得到了样品的镀层结构、镀层厚度、镀层组成及各组分的深度分布等信息,重点考察了其中Cr,Pb,Ni,Al等元素在镀层中的分布规律,比较了镀锌板的镀层结构差异。

关键词：有害元素深度分布辉光放电光谱法溅射率

来源： cnki会议评论

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彩色PDP用MgO膜的抗溅射性能研究

彩色PDP用MgO膜的抗溅射性能研究

中国电子学会真空电子学分会第十三届学术年会

作者：郑德修喻志农西安交通大学电子物理与器件研究所

本文利用自行研制的实验装置深入研究了不同工艺条件下制备的MgO薄膜的抗溅射性能,为优化用于PDP的MgO膜的制备工艺提供了科学依据。

关键词： MgO膜溅射率

来源： cnki会议评论

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非球面透镜的离子束抛光

仪表技术与传感器 1972年第5期 44-52+19页

作者：谷口纪男日本理化学研究所

一、前言非球面透镜离子束抛光法是把氩(Ar)、氪(ke)、氙(Xe)等不活性气体原子在真空中(真空度10)用高频或放电等方法使之离子化,同时给以电加速(加速电压20～50KV),使其能对置于高真空中(真空度10)的抛光过的珠面透镜进行轰击,非热式... 详细信息

一、前言非球面透镜离子束抛光法是把氩(Ar)、氪(ke)、氙(Xe)等不活性气体原子在真空中(真空度10)用高频或放电等方法使之离子化,同时给以电加速(加速电压20～50KV),使其能对置于高真空中(真空度10)的抛光过的珠面透镜进行轰击,非热式地从表面对玻璃实质部份按原子的大小一一置换(亦称溅射),以10～20μm程度的球面进行修正加工来制作非珠面透镜的方法。

关键词：离子束加工溶融石英硅氧矿物原子数离子能量溅射率离子轰击离子溅射离子对光学透镜非球面透镜

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真空溅射沉积碳化钛工艺的研究

真空 1982年第5期 15-22页

作者：胡宝山青岛市机械研究所

本文对在高速钢及硬质合金刀具上溅射沉积碳化钛工艺进行了实验研究，并通过优选，取得了一些最佳工艺参数，对碳素工具钢和合金钢溅射工艺作了初步探索，对碳化钛涂层的纯度、硬度特别是结合力和切削性能进行了测定，取得了结合力不... 详细信息

本文对在高速钢及硬质合金刀具上溅射沉积碳化钛工艺进行了实验研究，并通过优选，取得了一些最佳工艺参数，对碳素工具钢和合金钢溅射工艺作了初步探索，对碳化钛涂层的纯度、硬度特别是结合力和切削性能进行了测定，取得了结合力不低于气相沉积碳化钛和切削寿命提高一倍到几拾倍的良好成果；还对影响结合力和溅射率的因素进行了分析讨论，找出提高结合力和溅射率的一些途径。Ｉ

关键词：碳化钛工件表面真空溅射钛化合物溅射沉积真空沉积溅射率