检索结果-南通市图书馆

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

梯度膜作为高功率激光反射膜的初步研究

强激光与粒子束 2007年第1期19卷 58-62页

作者：邓洪祥祖小涛郑万国吴卫东徐世珍赵军普向霞电子科技大学应用物理系成都610054 中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900

对渐变折射率薄膜替代均匀膜系作为高功率激光反射膜的可行性进行了理论研究。以较容易获得的线性共蒸法制备的光学膜在中心波长为1 064 nm的激光作用为例,分析了薄膜与基体之间波长的匹配、场强分布等问题。提出了通过改变微小单元获... 详细信息

对渐变折射率薄膜替代均匀膜系作为高功率激光反射膜的可行性进行了理论研究。以较容易获得的线性共蒸法制备的光学膜在中心波长为1 064 nm的激光作用为例,分析了薄膜与基体之间波长的匹配、场强分布等问题。提出了通过改变微小单元获得梯度膜匹配厚度的数值方法,将之运用在14个周期结构的梯度膜中,并由膜系计算软件验证了所获得结果。最后通过分析Maxwell方程,计算了梯度膜中与薄膜损伤密切相关的电场强度分布。结果表明:周期性结构梯度高反射膜中的电场分布与传统高反射膜具有相似性,但相对于传统高反射膜容易在界面处出现损伤的情形而言,梯度膜更容易在表面出现损伤,使梯度膜表面反射相移接近π是高功率梯度高反射膜的设计方向。

关键词：梯度膜高反射高功率激光电场分布波长匹配反射相移表面损伤

聚丙交酯-乙交酯共混膜与梯度膜的体外降解特性研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

功能材料 2011年第1期42卷 43-46页

作者：刘洪泽齐民朱兴华郭博大连理工大学材料科学与工程学院辽宁大连116024

以聚丙交酯-乙交酯(PLGA)50/50与75/25为原料,采用流延法制成薄膜,其中包括PLGA50/50单成分膜、PLGA75/25单成分膜、两者的共混膜以及成分非均匀分布的梯度膜,将4种不同类型的膜浸泡在37℃、pH=7.4的磷酸盐缓冲液中进行体外降解实验。对... 详细信息

以聚丙交酯-乙交酯(PLGA)50/50与75/25为原料,采用流延法制成薄膜,其中包括PLGA50/50单成分膜、PLGA75/25单成分膜、两者的共混膜以及成分非均匀分布的梯度膜,将4种不同类型的膜浸泡在37℃、pH=7.4的磷酸盐缓冲液中进行体外降解实验。对4种膜降解过程中的分子量、质量损失、吸水率、pH值以及表面形貌等性能进行分析。结果表明,PLGA梯度膜具有最平稳的降解特性。

关键词：聚丙交酯-乙交酯共混膜梯度膜降解

硬质合金表面TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N梯度膜的微结构与力学性能

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

真空科学与技术学报 2013年第3期33卷 214-218页

作者：赵时璐张钧陈卫华王双红沈阳大学机械工程学院沈阳110044 沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室沈阳110044 华晨宝马汽车有限公司涂装车间沈阳110143

采用多弧离子镀技术,使用T-iA-lZr合金靶和Cr单质靶,在WC-8%CO硬质合金基体上制备了TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N多组元梯度膜。分析了梯度膜的成分、结构和微观组织,并研究了梯度膜的显微硬度和膜/基结合力。研究结果表明,该多组元梯度膜为... 详细信息

采用多弧离子镀技术,使用T-iA-lZr合金靶和Cr单质靶,在WC-8%CO硬质合金基体上制备了TiAlZrCr/(Ti,Al,Zr,Cr)N多组元梯度膜。分析了梯度膜的成分、结构和微观组织,并研究了梯度膜的显微硬度和膜/基结合力。研究结果表明,该多组元梯度膜为B1-NaCl型的TiN面心立方结构;薄膜的成分是以TiAlZrCr合金为过渡层的(Ti,Al,Zr,Cr)N梯度膜;薄膜的组织致密均匀,是典型的柱状晶结构;沉积偏压为-50～-200V时,梯度膜均可获得比(Ti,Al,Zr,Cr)N单层膜更高的硬度(最高值为HV4000)和膜/基结合力(临界载荷大于200 N)。

关键词：梯度膜多弧离子镀硬质合金显微硬度结合强度

磁控溅射法制备Ti-Si-N薄膜和Ti-Si-N梯度膜及其性能研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

磁控溅射法制备Ti-Si-N薄膜和Ti-Si-N梯度膜及其性能研究

作者：张璐东北大学

学位级别：硕士

随着材料科学的发展,传统的TiC和TiN薄膜材料不能满足切削刀具材料的要求,Ti-Si-N膜具有高硬度、低摩擦因数、良好的热稳定性和化学稳定性等优良特性,非常适合于高速切削刀具的表面保护和模具的现代机械行业的要求,目前在薄膜行业中的... 详细信息

随着材料科学的发展,传统的TiC和TiN薄膜材料不能满足切削刀具材料的要求,Ti-Si-N膜具有高硬度、低摩擦因数、良好的热稳定性和化学稳定性等优良特性,非常适合于高速切削刀具的表面保护和模具的现代机械行业的要求,目前在薄膜行业中的应用前景十分广泛。利用磁控溅射技术,通过调整工艺参数:氮流量、溅射温度、溅射功率、沉积时间、渐变时间、调制周期以及调制比,在304不锈钢基体上制备一系列Ti-Si-N 单层膜、Ti-Si-N 梯度膜和 TiN/TiSiN 多层膜。用 Philips X’Pert MPD 全自动衍射仪和JDM-7001F场发射电子扫描显微镜分别研究了样品的晶体结构和微观形貌,401MVDTM显微硬度仪和WS-25型涂层附着力自动划痕仪分别研究了薄膜的硬度、膜基结合力等力学性能。研究了薄膜微观结构、晶体结构和力学性能的相互关系。（1）对于单层Ti-Si-N薄膜,通过氮流量、溅射温度等工艺参数对Ti-Si-N薄膜微观组织、晶体结构和力学性能的影响发现:随着氮流量的增加,均出现γ-Si3N4（511）的特征峰,薄膜的硬度先增加后降低。当氮气流量增加到8 sccm时（Ti-10Si（at%）靶）,薄膜晶粒细小均匀、致密度高。当氮流量为10 sccm时（Ti-20Si（at%）靶）,晶粒细小,此时薄膜硬度（4181 HV）和结合力达到（41 N）达到最大值,薄膜的综合性能达到了最佳值。随着溅射温度的增加,TiN（200）特征衍射峰逐渐增强。当温度为300℃时,薄膜晶粒显著变小、致密度高,两种靶材溅射薄膜的硬度分别达到3878 HV（Ti-10Si（at%）靶）和 41 81 HV（Ti-20Si（at%）靶）。随着溅射功率的增加,Ti-Si-N薄膜的衍射图谱中以TiN为主。功率增加到600 W和800 W时,薄膜晶粒细小均匀。当功率为800 W时（Ti-20Si（at%）靶）,硬度达到最大为4582 HV。随着沉积时间的增加,晶粒尺寸均匀细小,硬度呈线性增加。当沉积时间为 240 min 时（Ti-20Si（at%）靶）,硬度达到 4605 HV。（2）对于Ti-Si-N梯度膜,随着渐变时间增加梯度膜中出现Ti、TiN、γ-Si3N4三种物相,梯度膜表面形貌的变化不大。硬度和结合力随着渐变时间的增加先增加后减小,当渐变时间为90 min时,硬度达到最大值为4558 HV,结合力达到了 44 N。与单层膜相比硬度提高了 200 HV,结合力提高了 18N。（3）对于TiN/TiSiN多层膜,出现Ti、TiN、Ti2N和γ-Si3N4四种物相,当调制比为1:2时,薄膜的表面形貌变为胞状,晶粒尺寸较小,且晶粒致密度好,获得的薄膜质量好。调制周期为15层时,结合力随着调制周期的增加先增加后减小,结合力达到了 35 N。

关键词：反应磁控溅射 Ti-Si-N薄膜梯度膜多层膜

11nm及以下技术节点极紫外光刻物镜梯度膜设计

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

11nm及以下技术节点极紫外光刻物镜梯度膜设计

作者：沈诗欢北京理工大学

学位级别：硕士

极紫外(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻是实现11nm及以下节点光刻技术中最具潜力的光刻技术。EUV光刻投影物镜系统使用反射式光学元件,且必须设计多层膜来获得高反射率。然而,11nm及以下节点光刻技术牵引EUV光刻投影物镜设计向超高NA、... 详细信息

极紫外(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻是实现11nm及以下节点光刻技术中最具潜力的光刻技术。EUV光刻投影物镜系统使用反射式光学元件,且必须设计多层膜来获得高反射率。然而,11nm及以下节点光刻技术牵引EUV光刻投影物镜设计向超高NA、组合倍率方向发展,导致光刻投影物镜系统的入射角和入射角范围急剧增大,现有的规整膜和横向梯度膜设计方案难以满足物镜系统反射率及像质要求。同时,国外光刻机企业对我国一直进行相关技术的封锁,针对大视场、超高数值孔径(Numerical Aperture,NA:0.30～0.50)EUV光刻投影物镜系统的膜系设计研究鲜见报道。在此背景下,为进一步支撑我国实现自主研制超高NA EUV光刻系统,本文针对适用于11nm及以下节点光刻技术的超高NA EUV光刻投影物镜系统的多层膜设计方法展开深入研究,提出了在系统中同时采用横、纵梯度膜的混合设计方法,并应用于课题组设计的超高NA EUV光刻投影物镜系统,确保系统拥有高反射率的同时维持高成像性能,对超高NA EUV光刻投影物镜系统的研制具有重要的工程意义。在国家科技重大专项的支持下,本文主要进行了以下研究:本文建立了横、纵梯度膜混合设计法。通过对EUV多层膜光学特性的分析,结合EUV光刻投影物镜系统发展趋势,提出了在系统中同时采用横、纵梯度膜的混合设计方法,依据系统各反射镜的入射角分布,确定各反射镜适合的梯度膜并进行设计,用横向梯度膜提高反射率,用纵向梯度膜提高反射率均匀性,并降低膜层引入的像差。该方法适用于具有大入射角和大入射角范围的反射系统。本文首次针对适用于7nm技术节点的NA0.50新型组合倍率EUV光刻投影物镜系统进行了梯度膜设计。通过对该物镜系统的分析,兼顾高反射率与高像质要求,确定了合理的膜系设计方案,完成了该系统梯度膜的设计与含膜物镜系统的分析。设计结果有力地支撑了新型超高NA组合倍率EUV光刻投影物镜在未来EUV光刻系统中的实际应用。本文针对课题组设计的适用于11～8nm技术节点的NA0.30、NA0.33两套共轴EUV光刻投影物镜系统进行了梯度膜设计。确定了有效的膜系设计策略并在此基础上完成梯度膜的设计及含膜物镜系统的分析,提高了EUV光刻投影物镜系统的实际应用价值。本文对直接构造法用于组合倍率EUV光刻投影物镜设计进行了探索研究。为保持课题组在新型组合倍率EUV光刻系统研究中的国际领先地位,提出了直接构造法用于该种物镜的设计方案。通过对简化的组合倍率反射系统的优化设计,验证了直接构造法在组合倍率EUV光刻投影物镜设计中的可行性。

关键词：光学设计梯度膜反射系统极紫外光刻组合倍率

在Ti—6Al—4V基体上用直流反应溅射法制成Ti／N成分梯度膜涂层

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

稀有金属快报 1998年第5期17卷 10-11页

作者：武宏让

法,切向力作用下梯度膜接触应力的有限元分析

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

大连海事大学学报 1999年第A期25卷 65-70页

作者：潘新祥徐久军大连海事大学金属材料工艺研究所

研究了几种覆层体受法，切向力共同作用，即类似于一球状压人入在体覆层体表面人摩擦滑动时，膜层，基体中及界面处的应力分布情况，运用有限元法计算了单层，双层及五层（梯度层）在各处的应力值大小，通过计算结果，着重比较了受相同... 详细信息

研究了几种覆层体受法，切向力共同作用，即类似于一球状压人入在体覆层体表面人摩擦滑动时，膜层，基体中及界面处的应力分布情况，运用有限元法计算了单层，双层及五层（梯度层）在各处的应力值大小，通过计算结果，着重比较了受相同表面载荷作用，梯度层与单，双覆层中各应力分布的不同，从而得到了梯度层的有关重要结论。

关键词：摩擦滑动梯度层有限元梯度膜接触应力

聚N-异丙基丙烯酰胺/聚氨酯梯度复合膜的温敏亲-疏水性及透湿性

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

纺织学报 2021年第9期42卷 17-23,38页

作者：杨群梁琦王黎明代正伟上海工程技术大学纺织服装学院上海201620 上海纺织化学清洁生产工程技术研究中心上海201620 浙江省纱线材料成形与复合加工技术研究重点实验室浙江嘉兴314001

为解决智能防水透湿膜材料温敏响应度低和温敏透湿通量不足的问题,将聚N-异丙基丙烯酰胺(PNIPAM)通过涂覆的方式复合于具有多级孔结构的聚氨酯(PU)梯度膜上,通过调控PNIPAM的涂覆量制备PNIPAM/PU梯度复合膜,并对复合膜的结构、温敏亲-... 详细信息

为解决智能防水透湿膜材料温敏响应度低和温敏透湿通量不足的问题,将聚N-异丙基丙烯酰胺(PNIPAM)通过涂覆的方式复合于具有多级孔结构的聚氨酯(PU)梯度膜上,通过调控PNIPAM的涂覆量制备PNIPAM/PU梯度复合膜,并对复合膜的结构、温敏亲-疏水性和温敏湿热传递性进行研究。结果表明:PNIPAM温敏层的构筑不仅没有改变膜材料的多级孔结构,还赋予了梯度复合膜材料温敏亲-疏水转变性能,即低于转变温度(30℃)时表现为亲水性,高于转变温度时表现为疏水性;PNIPAM的引入提高了梯度复合膜的温敏透湿通量,50℃时PNIPAM质量分数为6%的梯度复合膜的透湿率为6398.3 g/(m^(2)·24 h),高于PU膜的透湿率(4843.4 g/(m^(2)·24 h)),且PNIPAM的质量分数越高,梯度复合膜的溶胀性随温度的增加下降越显著。

关键词：多级孔梯度膜温敏性亲-疏水转变透湿性功能纺织材料

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

陶瓷薄膜制备技术研究进展

材料科学与工艺 2005年第4期13卷 427-430,434页

作者：田永生陈传忠王德云陈丽霞雷廷权山东大学材料科学与工程学院山东济南250061 山东电子器材厂山东济南250103 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院黑龙江哈尔滨150001

陶瓷薄膜具有耐磨、耐蚀、耐高温和抗微生物侵蚀等性能,在航天、化工机械、生物医学等行业获得了广泛的应用,从而推动着陶瓷薄膜的材质和制备工艺不断发展.综述了微弧氧化、溶胶凝胶和电泳沉积等制备陶瓷薄膜常用工艺的研究进展,分析了... 详细信息

陶瓷薄膜具有耐磨、耐蚀、耐高温和抗微生物侵蚀等性能,在航天、化工机械、生物医学等行业获得了广泛的应用,从而推动着陶瓷薄膜的材质和制备工艺不断发展.综述了微弧氧化、溶胶凝胶和电泳沉积等制备陶瓷薄膜常用工艺的研究进展,分析了工艺参数对陶瓷膜组织结构和性能的影响.目前,制备工艺正向着电子束、离子束和激光束之间的组合和其工艺间复合的方向发展,陶瓷薄膜正向着多元膜、多层膜、梯度膜和纳米复合膜方向发展.

关键词：陶瓷薄膜制备工艺研究进展纳米复合膜梯度膜多层膜多元膜