检索结果-南通市图书馆

激光与红外 1996年第1期26卷 59-60页

作者：杨雄超程开芳苏星昆明物理所

在８元碲镉汞光导探测器上淀积增透膜可以改善各元的光谱响应的均匀性，同时也提高了在１０．４～１２．４μｍ波长间的响应率与探测率，并给出了实验结果。

关键词： 8元红外探测器增透膜均匀性

不同厚度三倍频SiO_2增透膜的设计、制备与改性

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无机化学学报 2012年第1期28卷 119-124页

作者：张雨露张欣向业海平晏良宏江波四川大学化学学院绿色化学与技术教育部重点实验室成都610064 中国工程物理研究院激光聚变研究中心绵阳621900

本文通过光学计算设计了具有不同厚度的三倍频增透膜。以氨水为催化剂、正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,通过溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术制得SiO2溶胶;采用浸渍提拉法镀膜得到符合设计要求的三倍频增透膜。研究结果表明,增透膜的耐磨擦性能随着... 详细信息

本文通过光学计算设计了具有不同厚度的三倍频增透膜。以氨水为催化剂、正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,通过溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术制得SiO2溶胶;采用浸渍提拉法镀膜得到符合设计要求的三倍频增透膜。研究结果表明,增透膜的耐磨擦性能随着膜层厚度的增大而增大,本文制得的厚度达到200 nm以上的三倍频增透膜耐磨擦性能显著优于传统的1/4波长三倍频增透膜。此外,本文以甲基含氢硅油为膜表面修饰剂,提出一种全新的超快的表面疏水性改性的方法。经该方法处理后,增透膜由亲水膜转变为疏水膜,对水的接触角从23.4°增大至95°,增透膜的耐环境性显著提高。

关键词：溶胶-凝胶技术三倍频增透膜甲基含氢硅油耐磨擦性耐环境性

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超宽带增透膜新的设计法

光子学报 2007年第9期36卷 1694-1696页

作者：黄光伟田维坚卜江萍中国科学院西安光学精密机械研究所西安710068

在设计超宽带增透膜时提出一种新的设计方法,使用这种设计方法来设计在400 nm～1800nm波段内实现增透,同时将其设计结果与使用传统设计方法设计的结果相比较,发现在400nm～1 800 nm波段内使用这种新的设计方法可以将其反射率值控制在2 ... 详细信息

在设计超宽带增透膜时提出一种新的设计方法,使用这种设计方法来设计在400 nm～1800nm波段内实现增透,同时将其设计结果与使用传统设计方法设计的结果相比较,发现在400nm～1 800 nm波段内使用这种新的设计方法可以将其反射率值控制在2 %以下.这种方法解决了在设计超宽带增透膜时传统的设计方法不能解决的难题.

关键词：超宽带增透膜镀膜反射率

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非均匀性对增透膜增透特性的影响

光学技术 2005年第1期31卷 107-109,113页

作者：沈自才宋永香王英剑范正修邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院上海201800

通过对基底与膜层、膜层之间界面处非均匀性对增透膜增透性能影响的讨论,得到以下结论:在沉积初期,由于基底表面特性和沉积参数的波动,从而在基底与膜层之间产生过渡层,使增透性能减弱,对增透膜的增透效果影响较大;在膜层之间的过渡层,... 详细信息

通过对基底与膜层、膜层之间界面处非均匀性对增透膜增透性能影响的讨论,得到以下结论:在沉积初期,由于基底表面特性和沉积参数的波动,从而在基底与膜层之间产生过渡层,使增透性能减弱,对增透膜的增透效果影响较大;在膜层之间的过渡层,正余弦过渡使增透性能变强,双曲、指数使增透性能减弱,但影响较小,线性渐变基本没有影响。实验镀制了增透膜并对其进行拟合分析,发现基底与膜层以及膜层之间的过渡层按正余弦变化时与实验结果比较吻合,并给予了解释。

关键词：非均匀性增透膜拟合

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超短紫外到近红外宽波段增透膜的研制

光子学报 2018年第10期47卷 117-124页

作者：张静林兆文付秀华刘冬梅张功长春理工大学光电工程学院长春130022

为提高光谱探测器响应灵敏度,减少宽光谱光束入射时产生的光能损失,研制了超短紫外到近红外宽波段增透膜.依据增透膜设计理论,采用隧道方法与自动优化相结合的膜系设计方法,综合考虑膜厚影响因素,建立了评价函数.通过优化沉积工艺,提高... 详细信息

为提高光谱探测器响应灵敏度,减少宽光谱光束入射时产生的光能损失,研制了超短紫外到近红外宽波段增透膜.依据增透膜设计理论,采用隧道方法与自动优化相结合的膜系设计方法,综合考虑膜厚影响因素,建立了评价函数.通过优化沉积工艺,提高了增透膜透射率.光谱测试结果表明,200~900nm宽波段范围的增透膜的平均透射率为95.7%,满足光谱探测的要求.

关键词：光学薄膜宽波段增透膜隧道方法评价函数

用低压反应离子镀的方法制备Ge_(1-x)C_x单层非均匀增透膜的研究

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光学技术 2007年第2期33卷 302-304页

作者：王彤彤高劲松王笑夷宋琦陈红郑宣明申振峰单兆会中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究中心长春130033

用低压反应离子镀（RLVIP）的方法在Ge基底上制备了Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜。随着沉积速率在0．05-0．4nm／s之间的变化，其折射率在2．31～3．42之间可变。实验结果表明，镀制的Ge1-xCx单层非均匀增透保护薄膜均为无定形结构，并实... 详细信息

用低压反应离子镀（RLVIP）的方法在Ge基底上制备了Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜。随着沉积速率在0．05-0．4nm／s之间的变化，其折射率在2．31～3．42之间可变。实验结果表明，镀制的Ge1-xCx单层非均匀增透保护薄膜均为无定形结构，并实现了从2000-8000nm的宽波段增透。当沉积速率为0．1nm／s时，单面平均透过率从68．6％提高到了80．9％，比单面未镀膜时提高了17．9％。通过对薄膜的稳定性和牢固度进行测试表明，制备的Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜具有良好的性能。

关键词： Ge1-xCx 低压反应离子镀(RLVIP) 增透膜非均匀膜

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掺氟SiO_2增透膜真空环境抗污染能力

强激光与粒子束 2010年第5期22卷 1065-1068页

作者：赵松楠吕海兵晏良宏王海军王韬袁晓东郑万国中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900

以正硅酸乙酯为前驱体,采用氨水为催化剂配制SiO2溶胶,在胶体陈化过程中掺入十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷对胶体进行改性,并采用溶胶-凝胶法在K9基片上制备了改性的二氧化硅增透膜,用红外光谱仪、分光光度计、原子力显微镜、椭偏仪、静... 详细信息

以正硅酸乙酯为前驱体,采用氨水为催化剂配制SiO2溶胶,在胶体陈化过程中掺入十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷对胶体进行改性,并采用溶胶-凝胶法在K9基片上制备了改性的二氧化硅增透膜,用红外光谱仪、分光光度计、原子力显微镜、椭偏仪、静滴接触角测量仪、N2吸附-脱附对膜层性质进行了分析。结果表明:掺氟的二氧化硅膜层增透膜峰值透光率为99.7%;与水的接触角为129°;与二甲基硅油的接触角达到86°;膜层真空抗污染能力比掺氟前大大提高。

关键词：溶胶-凝胶掺杂二氧化硅增透膜抗污染能力

溶胶-凝胶法MgF2紫外增透膜的制备和性能研究

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强激光与粒子束 2008年第3期20卷 401-405页

作者：崔延霞张磊徐耀吴东孙予罕吕海兵王海军蒋晓东中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900

采用溶胶-凝胶法,以醋酸镁和氟化氢为原料,以甲醇为溶剂制备了MgF2溶胶,利用浸渍提拉法在洁净石英基片上镀膜,考察了反应温度对溶胶微结构、薄膜结构和性能的影响。样品采用激光动态光散射、透射电镜、X射线粉体衍射仪、紫外-可见光谱... 详细信息

采用溶胶-凝胶法,以醋酸镁和氟化氢为原料,以甲醇为溶剂制备了MgF2溶胶,利用浸渍提拉法在洁净石英基片上镀膜,考察了反应温度对溶胶微结构、薄膜结构和性能的影响。样品采用激光动态光散射、透射电镜、X射线粉体衍射仪、紫外-可见光谱仪、原子力显微镜进行表征。结果表明:通过该方法制备的表面平整的低折射率MgF2薄膜,在紫外区具有很好的增透性能,同时在紫外波长355 nm激光的辐照下(脉宽6ns),薄膜具有较高的抗激光损伤性能,激光损伤阈值达10.85 ***-2。

关键词：溶胶-凝胶法增透膜 MgF2 激光损伤

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半导体激光器腔面增透膜AlN薄膜的制备

发光学报 2011年第12期32卷 1292-1296页

作者：周路王云华贾宝山白端元张斯钰乔忠良高欣薄报学长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室吉林长春130022

提出了一种新的半导体激光器增透膜———AlN膜,并用matlab软件模拟分析了不同腔面反射率对激光器输出功率的影响,得到激光器最大输出功率时前后腔面的反射率的最佳值。采用反应磁控溅射技术,利用高纯铝靶(99.999%)和N2+Ar的混合气体在K... 详细信息

提出了一种新的半导体激光器增透膜———AlN膜,并用matlab软件模拟分析了不同腔面反射率对激光器输出功率的影响,得到激光器最大输出功率时前后腔面的反射率的最佳值。采用反应磁控溅射技术,利用高纯铝靶(99.999%)和N2+Ar的混合气体在K9玻璃基片上沉积了AlN薄膜。利用Filmetrics系统对薄膜进行光学性能测试,分析了不同工艺参数对薄膜沉积速率和折射率的影响。将最优条件下制得的AlN单层增透膜用于半导体激光器上,光学灾变损伤阈值和器件输出功率都得到了很大的提高。

关键词：增透膜折射率溅射灾变性光学损伤

折射率可调SiO_2薄膜及耐环境性宽频增透膜的制备

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功能材料 2014年第22期45卷 22143-22146页

作者：张欣向庄梦云林明月叶龙强江波福建农林大学材料工程学院福州350002 四川大学化学学院成都610064

通过溶胶-凝胶法制备了折射率连续可调的SiO2 薄膜,并将其应用于制备双层宽频增透膜.以正硅酸乙酯为前驱体,分别以盐酸和氨水为催化剂制备酸催化SiO2 溶胶和碱催化SiO2 溶胶;将酸催化和碱催化的SiO2 溶胶按不同比例进行混合制得酸碱混合... 详细信息

通过溶胶-凝胶法制备了折射率连续可调的SiO2 薄膜,并将其应用于制备双层宽频增透膜.以正硅酸乙酯为前驱体,分别以盐酸和氨水为催化剂制备酸催化SiO2 溶胶和碱催化SiO2 溶胶;将酸催化和碱催化的SiO2 溶胶按不同比例进行混合制得酸碱混合SiO2 溶胶,最后通过浸渍-提拉法在K9玻璃上制备SiO2 薄膜.椭偏仪测试结果表明SiO2 薄膜的折射率在1.18-1.44 之间连续可调,折射率随着酸催化SiO2 溶胶比例的增加而增加.分别以折射率为1.41和1.18的SiO2 薄膜为底层和上层,成功制备出在527和1053nm 处同时高增透的双层宽频增透膜.最后,以六甲基二硅氮烷为修饰剂,通过增透膜表面的有机修饰,提高了宽频增透膜的疏水性和耐环境性.

关键词：溶胶-凝胶法增透膜折射率疏水性耐环境性