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p-well/DNW单光子雪崩二极管保护环的最小化设计(英文)
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红外与毫米波学报 2018年 第5期37卷 527-532页
作者: 杨红姣 金湘亮 湘潭大学物理与光电工程学院 湖南湘潭411105 湖南省微光电与系统集成实验室 湖南湘潭411105
为了进一步缩小SPAD探测器的尺寸,基于0. 18μm CMOS图像传感器(CIS)工艺对p-well/DNW(deep n-well) SPAD的保护环尺寸进行设计,并制造了不同保护环尺寸的SPAD器件.测试结果表明,保护环尺寸减小到0. 4μm仍然能有效防止器件发生过早边... 详细信息
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AFM/SCM及LBIC技术在平面型保护环结构InGaAs探测器设计中的应用(英文)
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红外与毫米波学报 2010年 第6期29卷 401-405页
作者: 李永富 唐恒敬 朱耀明 李淘 殷豪 李天信 李雪 龚海梅 中国科学院上海技术物理研究所传感技术国家重点实验室 上海200083 中国科学院上海技术物理研究所中国科学院红外成像材料与器件重点实验室 上海200083 中国科学院研究生院 北京100039 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室 上海200083
为研究保护环结构对平面型正照射式InP/InGaAs探测器光敏元扩大现象的抑制作用,设计并研制了带有不同保护环-光敏元间距的InGaAs探测器.通过原子力显微镜(AFM)及扫描电容显微镜(SCM)获得了保护环与光敏元之间的实际距离.利用激光束... 详细信息
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面向先进光源的硅像素传感器保护环结构仿真研究
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光子学报 2021年 第12期50卷 186-193页
作者: 孙朋 傅剑宇 许高博 丁明正 翟琼华 殷华湘 陈大鹏 中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心 北京100029 中国科学院大学 北京100049
硅像素传感器上的保护环结构有利于提高传感器的耐高电压性能,为评估保护环结构对硅像素传感器的保护效果,仿真分析了三种保护环结构。通过计算机辅助设计技术对三种保护环结构进行二维建模,利用TACD内置的电学模型对三种保护环结构的I-... 详细信息
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基于标准CMOS工艺的非接触式保护环单光子雪崩二极管
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光子学报 2018年 第1期47卷 1-6页
作者: 吴佳骏 谢生 毛陆虹 朱帅宇 天津大学微电子学院天津市成像与感知微电子技术重点实验室 天津300072 天津大学电气自动化与信息工程学院 天津300072
基于深亚微米CMOS工艺,设计了一种采用非接触式P阱保护环来抑制边缘击穿的单光子雪崩二极管结构.采用器件仿真软件Silvaco Atlas分析了保护环间距对器件的电场分布和雪崩触发概率等特性的影响,结合物理模型计算了所设计器件的暗计数概... 详细信息
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新一代电力ICT网络中基于DiR保护环的生存性路由算法
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电力系统保护与控制 2011年 第16期39卷 25-29页
作者: 吴润泽 祁宏鹏 唐良瑞 华北电力大学电气与电子工程学院 北京102206
电力通信网中对业务的可靠性保护占用过多的网络资源,通过研究智能电网业务的可靠性要求对网络资源利用率的影响,提出了一种基于区分可靠性保护环的生存性路由算法。在网络单链路失效条件下,以链路代价和链路失效概率为约束条件,通过寻... 详细信息
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保护环对130nm体硅PMOS抗单粒子瞬态特性的影响
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微电子学与计算机 2012年 第12期29卷 149-153页
作者: 曹琛 王俊峰 岳红菊 唐威 吴龙胜 西安微电子技术研究所 陕西西安710054
基于TCAD(Technology Computer Aided Design)仿真软件,通过对带有不同宽度保护环的130nm体硅PMOS器件进行单粒子辐照仿真,研究了保护环结构对深亚微米器件因单粒子辐照所产生的寄生双极效应.仿真结果表明,保护环结构能够大幅缩短器件SE... 详细信息
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保护环对高速永磁无刷直流电机转子涡流损耗的影响
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微电机 2011年 第9期44卷 19-21页
作者: 周凤争 孟庆霖 齐效华 郭勇 沈毅 刘宝成 唐庆华 王凯 沈建新 天津市电力公司技术中心 天津300384 天津市电力公司审计部 天津300010 浙江大学电气工程学院 杭州310027
高速永磁无刷直流电机具有功率密度高、体积小、效率高等优点,在很多领域有着广泛的应用。转子涡流损耗会使电机的效率下降并能引起转子永磁体的退磁。该文结合所研制的2.3 kW,15×104r/min的高速永磁无刷直流电机,对比分析了不同电导... 详细信息
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微弱电流I-V转换电路保护环设计
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核电子学与探测技术 2017年 第5期37卷 531-535页
作者: 牛晓阳 千奕 杨海波 佘乾顺 孔洁 苏弘 中国科学院近代物理研究所 兰州730000 中国科学院大学 北京100049
针对微弱信号电路易受干扰和输入端泄漏电流影响测量精度问题,对电路进行了保护环的设计。该电路分别采用T型反馈电阻网络和单个大电阻反馈网络,选择输入电阻足够大、偏置电流小的运算放大器进行设计。EMI仿真和实验结果都表明保护环的... 详细信息
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保护环版图结构对ESD防护器件耐压能力的影响
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半导体技术 2017年 第3期42卷 205-209页
作者: 刘畅 黄鲁 张峰 中国科学技术大学电子科学与技术系 合肥230027 中国科学院自动化研究所国家专用集成电路设计工程技术研究中心 北京100190
基于华润上华0.5μm双极-CMOS-DMOS(BCD)工艺设计制备了不同保护环分布情况下的叉指型内嵌可控硅整流器的横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS-SCR)结构器件,并利用传输线脉冲(TLP)测试比较静电放电(ESD)防护器件的耐压能力。以LDMOS-SCR结... 详细信息
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预焙铝电解槽阳极钢爪自焙保护环优化技术
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轻金属 2005年 第9期 39-41页
作者: 史生文 张维民 兰州连城铝业有限责任公司 甘肃永登730335
就目前预焙铝电解槽所用的自焙保护环的制作进行了研究,提出了优化方案,通过工业试验认为,自焙保护环的制作技术优化后,可以给企业创造显著的经济效益。
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