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主题

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作者

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  • 3 篇 黄章财

语言

  • 273 篇 中文
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273 条 记 录,以下是21-30 订阅
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FDTD法分析高速集成电路芯片内互连线
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电子学报 2000年 第2期28卷 14-16页
作者: 袁正宇 李征帆 邹瑉珋 上海交通大学电子工程系 上海200030
本文首次利用时域有限差分 (FDTD)法分析了高速集成电路芯片内半导体基片上的有耗互连传输线的电特性 .文中提出了有耗吸收边界条件 ,推导了不同媒质交界面上的边界条件通用格式 .在FDTD分析的基础上 ,得到传输线各种参数的频变特性 ,... 详细信息
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二维时域有限差分法提取高温超导互连线频变等效电路参数
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上海交通大学学报 1999年 第9期33卷 1089-1092页
作者: 袁正宇 毛军发 钱晓宁 李征帆 上海交通大学电子工程系 上海200030
采用二维时域有限差分(FDTD)法分析用于超大规模集成电路(VLSI)封装互连的高温超导互连线的传输特性,并提取其频变等效电路参数.结合描述超导特性的London 第一方程与Maxwell方程进行二维FDTD分析,建... 详细信息
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金属互连线电迁移的影响因素
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焊接学报 2018年 第5期39卷 29-32页
作者: 崔海坡 刘晓杰 邓登 上海理工大学教育部微创医疗器械工程中心 上海200093
应用有限元分析软件ABAQUS,对金属互连线的电迁移过程进行了电热耦合仿真分析,比较了不同互连线材料、不同温度、不同层间介质等因素对互连线电迁移失效的影响.结果表明,与铝硅合金互连线相比,在同样电流密度条件下,无论是电势梯度最大... 详细信息
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超高速集成电路互连线的分布电容矩阵——测度不变方程法(MEI)解
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上海交通大学学报 1997年 第1期31卷 59-61页
作者: 曹毅 金荣洪 李征帆 上海交通大学电子工程系 上海
提出了以测度不变方程法(MEI)结合有限差分法求有厚度多导体互连线分布电容矩阵的一种方法.给出获得测度不变方程的两种途径,即使用完全格林函数和全电荷格林函数对测度子(metron)积分.后一种方法可用于解决一大类实际... 详细信息
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互连线负载的有效电容计算模型
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上海交通大学学报 2004年 第Z1期38卷 115-117页
作者: 黄章财 毛军发 李晓春 上海交通大学电子工程系 上海200030
在大量仿真数据以及当前集成电路设计工艺的基础上,提出了一种简单互连线负载的有效电容计算模型.该模型基于精确的互连线π模型,考虑了互连线电阻对负载互连线的屏蔽作用,并能与目前常用的器件时延公式兼容.实验结果表明,该模型与电路... 详细信息
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低阻硅CMOS工艺片上互连线模型
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压电与声光 2011年 第3期33卷 486-488,492页
作者: 文进才 楼佳 孙玲玲 杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室 浙江杭州310018
提出了一种新的互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺片上的互连线模型,模型在考虑互连线金属导体高频效应和衬底效应的基础上,引入了一个电容来表征金属导体通过氧化层在低阻硅衬底中引起的容性耦合特性。建立的互连线模型通过0.18μm CMOS... 详细信息
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高速集成电路系统互连线网时域响应的双极点近似分析
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上海交通大学学报 1997年 第1期31卷 51-54页
作者: 李征帆 蔡正辉 上海交通大学电子工程系 上海
给出了高速集成电路系统在考虑互连线效应时的一种电路分析方法.将超越函数形式的互连传输线段的ABCD参量以幂级数形式展开,再表达成为有理函数形式的Y参数,在二阶截断后可转换为时域的2个指数函数,然后运用递归卷积方法使数... 详细信息
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神经网络在集成电路互连线寄生电容提取中的应用
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应用基础与工程科学学报 2008年 第5期16卷 763-769页
作者: 陈曦 王高峰 丁文 周维 武汉大学微电子与信息技术研究院 湖北武汉430079
介绍深亚微米工艺下超大规模集成电路的互连线寄生电容提取问题,实现了基于神经网络的互连线寄生电容模型的建模与仿真,重点讨论了在建模过程中神经网络模型结构的选择,数据样本的处理,神经网络模型的训练,神经网络模型的测试等问题.实... 详细信息
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基于互连线插值的时间数字转换器结构设计
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核技术 2020年 第7期43卷 40-46页
作者: 周郭飞 杨宏 公安部第一研究所 北京100044
全数字锁相环(All-digital Phase Locked Loop,ADPLL)中时间数字转换器(Time-to-Digital Converter,TDC)用于测量数控振荡器(Digitally Controlled Oscillator,DCO)输出时钟和参考时钟之间分数相位差,其分辨率越高,环路的相位噪声特性... 详细信息
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铝铜互连线电迁移失效的研究
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稀有金属 2009年 第4期33卷 530-533页
作者: 陈军 毛昌辉 北京有色金属研究总院先进电子材料研究所 北京100088
随着大规模集成电路的不断发展,互连线失效已经成为影响集成电路可靠性的主要因素之一。在铝互连线中添加铜元素是常用的改善电迁移性能的方法,采用直流磁控溅射法用铝及铝铜合金靶材在硅基片上沉积了薄膜,并通过光刻、刻蚀制成互连线,... 详细信息
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