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主题

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机构

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  • 3 篇 北京大学
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作者

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语言

  • 273 篇 中文
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互连线均匀长度分阶模型的简化与优化
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系统仿真学报 2006年 第7期18卷 1773-1776,1839页
作者: 袁宝国 王胜国 上海第二工业大学 上海201209 北卡罗来纳大学夏洛特分校 美国夏洛特nc282230001
推导了Wang氏表达式的均匀长度分阶(evenlengthorder,ELO)的模型化简公式。应用MatLab在时域和频域的仿真,对一个实际互连线的低阶ELO简化模型与其100阶模型(作为原始模型)进行了比较。比较指标有单位阶跃响应的上升时间、频域波特图的... 详细信息
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基于多铁逻辑的铁磁耦合互连线磁化动态模拟
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物理学报 2016年 第23期65卷 269-274页
作者: 杨晓阔 张斌 崔焕卿 李伟伟 王森 空军工程大学理学院 西安710051
建立了多铁纳磁体逻辑器件的铁磁耦合作用模型,通过施加应变时钟对铁磁耦合互连线的磁化动态进行了理论模拟.结果表明:合适的应力(19.7—20.1 MPa)能够实现近180?磁化翻转,完成逻辑态在铁磁耦合互连线中的正确传递;多铁纳磁体间的强耦... 详细信息
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互连线分布电容偏差计算的非均匀有限差分法
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南京理工大学学报 2005年 第6期29卷 740-744页
作者: 张瑛 肖亮 吴慧中 孙晋 南京理工大学计算机科学与技术系 江苏南京210094
为精确快速提取二维互连线电容分布参数,该文采用测度不变方程法计算互连线电势分布,探讨了导体尺寸微小扰动对电容分布参数的影响。通过对电势进行拉格朗日展开提出了导体尺寸小扰动产生的电容偏差的非均匀网格精确计算方法,该方法不... 详细信息
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集成电路互连线电迁移建模综述(英文)
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电子科技大学学报 2009年 第5期38卷 495-504页
作者: 马建国 姚明 TAN Cher Ming 电子科技大学电子工程学院 新加坡南洋理工大学电气与电子工程学院
简要介绍了集成电路互连线建模发展的历史。回顾了曾广泛使用的一维电迁移引起的回流模型。基于原子通量散度的概念,电迁移建模可以分为两种方法。一种是常用的扩散路径法,该方法能够解释传统的铝片上金属互连的许多重要电迁移现象。然... 详细信息
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基于缺陷均匀分布的互连线间耦合电容分析
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计算机学报 2009年 第6期32卷 1147-1151页
作者: 段旭朝 赵天绪 宝鸡文理学院计算与信息研究所 陕西宝鸡721007 宝鸡文理学院物理与信息技术系 陕西宝鸡721007
互连线的寄生效应是制约深亚微米VLSI电路实现高速、高密度的关键因素.文中分析了集成电路制造过程中的工艺缺陷对互连线间寄生电容的影响,给出了考虑缺陷等因素的线间寄生电容模型.模拟结果表明,导电冗余物缺陷明显增加了线间寄生电容... 详细信息
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超高阶的RLGC互连线时域状态空间模型及其研究
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电子与信息学报 2009年 第8期31卷 1980-1984页
作者: 胡志华 徐洁 上海同济大学铁道与城市轨道交通研究院 上海201804 上海第二工业大学电子电气工程学院 上海201209
互连线的建模方面,无论是考虑频变或工艺参数变化还是考虑降解,都需要一个精确的原始模型。它不仅使各种模型简化方法有个精确的起点,而且也是评估各种模型简化方法近似性能的基础。该文用直接闭合式的方法给出了一个计算复杂度为O(N... 详细信息
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Al互连线和Cu互连线的显微结构
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物理学报 2007年 第1期56卷 371-375页
作者: 王俊忠 吉元 王晓冬 刘志民 罗俊锋 李志国 北京工业大学固体微结构与性能研究所 北京100022 中国人民武装警察部队学院基础部物理教研室 廊坊065000 北京工业大学电控学院 北京100022
利用电子背散射衍射(EBSD)技术,测量了由反应离子刻蚀工艺(RIE)制备的Al互连线和大马士革工艺(Damascene)制备的Cu互连线的显微结构,包括晶粒尺寸、晶体学取向和晶界特征.分析了Cu互连线线宽,及Al和Cu互连线退火工艺对互连线显微结构及... 详细信息
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一种基于小波的互连线模型自适应约减算法
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系统仿真学报 2008年 第16期20卷 4255-4260页
作者: 吉小鹏 葛龙 王执铨 南京理工大学自动化学院 江苏南京210094
基于偏微分方程的谱分解理论,针对VLSI中的互连线系统,提出了一种基于小波的自适应模型约减算法,选取逼近空间的一组基函数,通过积分合同变换,从而得到一个能够逼近原无穷维系统的有限低阶无源模型。该算法在不需要对互连线进行离散处... 详细信息
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三维封装电迁移Cu互连线的多物理场模拟仿真
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材料导报 2021年 第2期35卷 2133-2138页
作者: 张墅野 鲍天宇 修子扬 何鹏 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室
随着三维封装微互连尺寸向亚微米发展,电流密度大、应力大、散热困难等问题愈发严重,原子尺度迁移失效现象逐渐成为超大规模集成电路不可忽视的可靠性问题。铜比铝的电阻率低,抗电迁移性能更好,是新一代的可靠互连材料,但是对铜互连的... 详细信息
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用修正特征法模型求解高速VLSI中有耗互连线的瞬态响应
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电子学报 1999年 第2期27卷 22-25页
作者: 徐勤卫 李征帆 毛军发 朱建政 上海交通大学电子工程系
本文提出了用于高速集成电路系统中有耗互连线瞬态响应求解的一个计算模型及其相应的算法.传统的特征法在用于求解无耗传输线或满足LG=RC的有耗传输线时具有简单的递归形式和较高的计算效率,但不能用于一般的有耗传输线.本文在... 详细信息
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