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Runaway.Electron s.ppres.ion by.ECRH and RMP in Ks.AR
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Plas.a s.ience and Technology 2013年 第2期15卷 119-122页
作者： A. C. ENGLAND Z. y. CHEN D. C. s.O J. CHUNG y. s. leev J. W. y.O W. C. KIM y. s. BAE y. M. JEONV J. G. KWAK M. KWON Ks.AR Team National Fus.on Res.arch Ins.itute Daejeon Republic of Korea Huazhong Univers.ty.of s.ience and Technology National Fus.on Res.arch Ins.itute Daejeon Republic of Korea
We have obs.rved reduction of the runaway.electron s.0}chrotron radiation, hard X-ray.（HXR） intens.ty. and HXR energy.after apply.ng 110 GHz 2nd harmonic electron cy.lotron res.nant heating （ECRH） during runaway.el... 详细信息
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