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Photocatalytic Property of TiO2 Films Deposited by Pulsed DC Magnetron Sputtering

Journal of Materials Science & Technology 2004年第1期20卷 31-34页

作者： wenjie zhang, shenglong zhu, ying li and fuhui wangstate key laboratory for corrosion and protection, institute of metal research, chinese academy of sciences, shenyang 110016, china chinese Acad Sci Inst Met Res State Key Lab Corros & Protect Shenyang 110016 Peoples R China

TiO2 thin films were prepared by DC magnetron sputtering with the oxygen flow rate higher than the threshold. The film deposited for 5 h was of anatase phase with a preferred orientation along the direction, but the films deposited for 2 and 3 h were amorphous. The transmittance and photocatalytic activity of the TiO2 films increased constantly with increasing film thickness. When the annealing temperature was lower than 700℃, only anatase grew in the TiO2 film. TiO2 phase changed from anatase to rutile when the annealing temperature was above 800℃. The photocatalytic activity decreased with increasing annealing temperature.

关键词： TiO2 film Photocatalytic activity DC magnetron sputtering Film characteristic

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