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石墨表层对四面体非晶炭膜中受激电子的石墨建序化作用
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新型炭材料 2008年 第3期23卷 241-244页
作者： 梁士金 ta.suya banno Yutaka Mera Masahiro Kitajima Kunie Ishioka Yoshihisa Harada Yoshinori Kitajima Shik Shin Koji Maeda Department of Applied Physics The University of Tokyo National Institutes for Materials Science(NIMS) RIKEN/SPring-8 Sayo-gunHyogo 679-5198Japan Photon Factory Institute of Materials Structure ScienceHigh Energy Accelerator Research Organization RIKEN/SPring-8 Sayo-gun Hyogo 679-5198JapanInstitute for Solid State PhysicsThe University of Tokyo KashiwaChiba277-8581Japan
对滲气阴极真空电弧法制备的四面体非晶炭(ta-C)膜实施氧等离子体刻蚀,消除其表面石墨层后,发现:原沉积膜中ta-C石墨表层的消除会影响其受激电子的石墨建序化。应用发射电子能耗谱,表面增强拉曼光谱和表面敏化X光吸收光谱等测量方法,测... 详细信息
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