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X-ray diffraction study of effect of deposition conditions on α-β phase transition and stress evolution in sputter-deposited W coatings

引用

Chinese Physics B 2006年第2期15卷 432-436页

作者：王聪 Brault Pascal Pineau Alain plantin pascale Thomann Anne-Lise Groupie de Recherches sur I'Energétique des Milieux Ionisés UMR6606 -CNRS Ecole Polytechnique de I'Université d'Orléans BP6744 Université d'Orléans F-45067 Orléans Cedex 2 France School of Science Beijing University of Astronautics and Aeronautics Beijing 100083 China Centre de Recherches sur la Matière Divisée - UMR 6619 CNRS - Université d'Orléans 1B rue de la Férollerie 45071 Orldans Cedex 2 France

Pure W and W-Cu-W trilayer coatings were deposited on an Fe substrate by d.c. magnetron sputtering. The α-β phase evolution, intragranular stress evolution in sputter-deposited W layer were investigated by x-ray diffraction. They are directly related to the film microstructure, density and adhesion. Therefore, control of the film stress and phase component transition is essential for its applications. The phase component transition from β-W to α-W and intragranular stress evolution from tensile to compressive strongly depend on the deposition parameters and can be induced by lowering Ar pressure and rising target power. The compressively stressed films with α-W phase have a dense microstructure and high adhesion to Fe substrate.

关键词： W coatings x-ray diffraction α-β phase component transition thin film stress

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