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Effect of pressure and space between electrodes on the deposition of SiN_(x)H_(y)films in a capacitively coupled plasma reactor

引用

Chinese Physics B 2021年第5期30卷 507-512页

作者： meryem grari CifAllah Zoheir Yasser Yousfi Abdelhak Benbrik University Mohamed First Department of PhysicsLETSER LaboratoryOujdaMorocco University Mohamed First Department of MathematicsLANO LaboratoryOujdaMorocco

The fluid model,also called the macroscopic model,is commonly used to simulate low temperature and low pressure radiofrequency plasma *** varying the parameters of the model,numerical simulation allows us to study several cases,providing us the physico-chemical information that is often difficult to obtain *** this work,using the fluid model,we employ numerical simulation to show the effect of pressure and space between the reactor electrodes on the fundamental properties of silicon plasma diluted with ammonia and *** results show the evolution of the fundamental characteristics of the plasma discharge as a function of the variation of the pressure and the distance between the *** examining the pressure-distance product in a range between 0.3 Torr 2.7 cm and 0.7 Torr 4 cm,we have determined the optimal pressure-distance product that allows better deposition of hydrogenated silicon nitride(SiN_(x)H_(y))films which is 0.7 Torr 2.7 cm.

关键词： fluid model numerical simulation SiN_(x)H_(y) capacitively coupled plasma reactor

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