检索结果-南通市图书馆

Evolution of plasma parameters in an Ar-N2/He inductive plasma source with magnetic pole enhancement

Plasma Science and Technology 2017年第2期19卷 34-42页

作者： maria younus N U REHMAN M SHAFIQ M NAEEM M ZAKA-UL-ISLAM M ZAKAULLAH Department of Physics Plasma Physics LaboratoryQuaid-i-Azam University45320 IslamabadPakistan Plasma Physics Laboratory Department of PhysicsCOMSATS Institute of Information Technology44000 IslamabadPakistan Department of Physics Faculty of ScienceJazan University114 JazanSaudi Arabia

Magnetic pole enhanced inductively coupled plasmas （MaPE-ICPs） are a promising source for plasma-based etching and have a wide range of material processing applications. In the present study Langmuir probe and optical emission spectroscopy were used to monitor the evolution of plasma parameters in a MaPE-ICP Ar-Na/He mixture plasma. Electron density （ne） and temperature （Te）, excitation temperature （Texc）, plasma potential （Vp）, skin depth （6） and the evolution of the electron energy probability function （EEPF） are reported as a function of radiofrequency （RF） power, pressure and argon concentration in the mixture. It is observed that ne increases while Te decreases with increase in RF power and argon concentration in the mixture. The emission intensity of the argon line at 750.4 nm is also used to monitor the variation of the ‘high-energy tail＇ of the EEPF with RF power and gas pressure. The EEPF has a ‘bi-Maxwellian＇ distribution at low RF powers and higher pressure in a pure N2 discharge. However, it evolves into a ‘Maxwellian＇ distribution at RF powers greater than 70 W for pure N2, and at 50 W for higher argon concentrations in the mixture. The effect of argon concentration on the temperatures of two electron groups in the ‘bi-Maxwellian＇ EEPF is examined. The temperature of the low-energy electron group TL shows a decreasing trend with argon addition until the ‘thermalization＇ of the two temperatures occurs, while the temperature of high-energy electrons Ta decreases continuously.

关键词： MaPE-ICP Langmuir probe OES EEPF

来源：

维普期刊数据库

同方期刊数据库评论

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

欢迎您,

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

通借通还

欢迎您,

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：